JP5024200B2 - Patch transfer medium manufacturing method and patch transfer medium - Google Patents

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本発明は、パッチ転写媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは、少なくとも耐擦傷性に優れる電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層、及び意匠性に優れるホログラム層を有するパッチを繊維質基材へ転写性よく転写でき、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層及び電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層の２層を電離放射線の１回の照射で同時に硬化させて、硬化したハードコート層及び硬化した接着剤層とすることで、低コストで製造できるパッチ転写媒体の製造方法、及びパッチ転写媒体、転写後は電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層及び電離放射線硬化樹脂を主成分とする接着剤層の２層が最表面となって耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラムを有するパッチ転写繊維質素材に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a patch transfer medium, and more particularly, a fibrous base material comprising a patch having a hard coat layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin having excellent scratch resistance and a hologram layer having excellent design properties. Two layers of uncured hard coat layer mainly composed of ionizing radiation curable resin and uncured adhesive layer mainly composed of ionizing radiation curable resin can be transferred to ionizing radiation once. A method for producing a patch transfer medium that can be produced at low cost by simultaneously curing by irradiation to obtain a cured hard coat layer and a cured adhesive layer, and the patch transfer medium, and after transfer, an ionizing radiation curable resin as a main component The hard coat layer and the adhesive layer mainly composed of ionizing radiation-curing resin are the outermost layers, and have a hologram having a hologram with excellent scratch resistance and excellent design. Relates Chi transfer the fibrous material.

本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。また、「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」、「ドライラミネーション」は「ＤＬＭ」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。また、「ホログラム」は「ホログラムと、回折格子などの光回折性機能を有するものも含む。さらに、電離放射線硬化性樹脂は電離放射線の照射で硬化して電離放射線硬化樹脂となる。   In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated. “PET” is an abbreviation, synonym, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate” and “dry lamination” for “DLM”. The “hologram” also includes “hologram and those having a light diffractive function such as a diffraction grating. Furthermore, the ionizing radiation curable resin is cured by irradiation with ionizing radiation to become an ionizing radiation curable resin.

（主なる用途）本発明のパッチ転写媒体の製造方法、パッチ転写媒体を用いてパッチを転写してなるパッチ転写繊維質素材（媒体）の主なる用途としては、例えば、Ｔシャツなどの衣類、カートン、ケース、外装紙などの包装材類、バッグ類などの装身具、鑑賞券、グリーティングカード、封筒、タグ、しおり、カレンダー、ポスター、パンフレット、ネームプレート、レポート用紙など文具類、建材、パネル、エンブレム、履物、靴などの類などがある。しかしながら、転写後には電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層が最表面となって耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラムを有するパッチを低コストで製造でき、かつ、アイロン等で加熱加圧することで転写する用途であれば、特に限定されるものではない。   (Main applications) The method of manufacturing the patch transfer medium of the present invention, and the main applications of the patch transfer fibrous material (medium) obtained by transferring a patch using the patch transfer medium include, for example, clothing such as T-shirts, Carton, case, packaging materials such as exterior paper, accessories such as bags, appreciation tickets, greeting cards, envelopes, tags, bookmarks, calendars, posters, brochures, nameplates, report paper and other stationery, building materials, panels, emblems , Footwear, shoes, etc. However, after transfer, the hard coat layer mainly composed of ionizing radiation curable resin is the outermost surface, and it is possible to manufacture a patch having a hologram having excellent scratch resistance and excellent design properties at low cost, and with an iron or the like. It is not particularly limited as long as it is used for transferring by heating and pressing.

（背景技術）近年、個人の好みが多様化し個性化が進み、多くの個人向け商品は多品種小ロット生産の傾向が高まっている。ステーショナリーやアパレル製品では、１個人に１つのオンリーワン製品までが要望されている。しかしながら、従来の布や紙などの繊維質素材、例えばＴシャツへの装飾の形成は直接スクリーン印刷するか、転写紙へオフセットやスクリーン印刷法で印刷した後に、Ｔシャツへ転写する方法のために、転写後には装飾がが最表面となって耐久性に劣るという問題点があった。
また、装飾面へ、熱転写性樹脂層を有するハードコート層熱転写フィルムを重ね合わせ、アイロンや加熱ロール等を用いて、透明性を有する熱転写性樹脂層を転写させ、装飾上に保護層を形成することが行われている。しかしながら、上記の保護層はアイロン又は熱ロールによる転写時に、部分的に転写する必要があることから、箔切れ性を有する必要がある。この場合、保護層を数ミクロン程度の厚さの樹脂膜にせざるを得ないことから、強靱な耐擦傷性、耐薬品性等の耐久性を持たせることが出来ないという欠点があった。
さらに、ＰＥＴやＯＰＰフィルムと共に転写するタイプもあるが、該フィルムは特に鋭利なものによる耐擦傷性に劣り、傷付き易いという問題点があった。
従って、布や紙などの繊維質素材への装飾は、意匠性に優れるホログラムを有するパッチ転写媒体をアイロン等で加熱加圧することで容易に転写でき、かつ、転写後は電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層及び電離放射線硬化樹脂を主成分とする接着剤層の２層が最表面となって耐擦傷性に優れるパッチ転写繊維質素材、かつまた、パッチ転写媒体自身は電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層及び電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層の２層を電離放射線の１回の照射で同時に硬化させて、硬化したハードコート層及び硬化した接着剤層とすることで、低コストで製造できるパッチ転写媒体の製造方法がが求められている。 (Background Art) In recent years, personal preferences have been diversified and personalized, and many personal products have a tendency to produce a variety of small lots. For stationery and apparel products, there is a demand for only one product per person. However, traditional fabric materials such as cloth and paper, such as decoration on T-shirts, can be directly screen-printed or transferred to T-shirts after printing on transfer paper by offset or screen printing. After transfer, there is a problem that the decoration becomes the outermost surface and is inferior in durability.
In addition, a hard coat layer heat transfer film having a heat transferable resin layer is superimposed on the decorative surface, and the heat transferable resin layer having transparency is transferred using an iron or a heating roll to form a protective layer on the decoration. Things have been done. However, since the above protective layer needs to be partially transferred at the time of transfer by an iron or a heat roll, it needs to have a foil cutting property. In this case, since the protective layer has to be a resin film having a thickness of about several microns, there is a disadvantage that durability such as tough scratch resistance and chemical resistance cannot be provided.
Furthermore, there are types that transfer together with PET or OPP film, but the film has a problem that it is inferior in scratch resistance due to a sharp object and is easily damaged.
Therefore, decoration on fabric materials such as cloth and paper can be easily transferred by heating and pressing a patch transfer medium having a hologram with excellent design properties with an iron or the like, and after transfer, ionizing radiation curable resin is mainly used. A patch transfer fibrous material with excellent scratch resistance, with the hard coat layer as the component and the adhesive layer mainly composed of ionizing radiation curable resin as the outermost surface, and the patch transfer medium itself is ionizing radiation cured Hardened by simultaneously curing two layers of an uncured hard coat layer mainly composed of an ionizing resin and an uncured adhesive layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin by one irradiation of ionizing radiation. There is a need for a method of manufacturing a patch transfer medium that can be manufactured at low cost by using a coat layer and a cured adhesive layer.

（先行技術）従来、本出願人は基材、剥離性樹脂層、保護機能を兼ねたホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、転写時には部分的な転写であり、箔切れ性をよくするために、ホログラム層を数ミクロン程度の厚さの樹脂膜にせざるを得ず、媒体の表面へ転写されて最表面となり、多数回の繰り返し使用されると、強靱な耐擦傷性や耐溶剤性などの耐久性に欠けるという欠点がある。
また、本出願人は樹脂層を設けたシート基材と、ホログラム形成層と受容層を設けた透明シートが積層され、ホログラム形成層及び受容層を含めて透明シート部にハーフカット処理が施され、樹脂層と透明シートの間で剥離する中間転写記録媒体を開示している（例えば、特許文献２〜３参照。）。しかしながら、受容層が必須で、該受容層へ印画して再転写するもので、媒体へ印画された画像の耐擦傷性や耐溶剤性などの耐久性を付与することについては言及していないという欠点がある。
さらに、本出願人は（Ａ）透明基材の一方の面に、メッシュ状領域と接地用領域４０を有する導電体層が積層され、メッシュ状領域に平坦化処理が施されてなる電磁波遮蔽シート１と、（Ｂ）一方の面に接着剤層が積層され、接地用領域４０の少なくとも一部を露出することが可能な、接着性光学フィルタ２０とを、接着性光学フィルタ２０の接着剤層側を、電磁波遮蔽シート１の導電体層側に向け、且つ接着性光学フィルタ２０が電磁波遮蔽シート１におけるディスプレイの画像表示領域部分直上に対峙する様に連続供給して、接着、及び積層し、電磁波遮蔽シート１の側端縁を接地用領域４０として露出させるディスプレイ用複合フィルタの製造方法を開示され（例えば、特許文献４参照。）、この明細書中に、導電体層貼り付け用の接着剤として電離放射線硬化性樹脂が例示（００２８）され、かつ、機能発現層のうちハードコート層として電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜（００５２）も記載されている。しかしながら、前記接着剤及び前記ハードコート層の２層を、電離放射線で同時に硬化させる点については何ら記載されていない。 (Prior Art) Conventionally, the present applicant has known a hologram transfer foil provided with a base material, a peelable resin layer, a hologram layer also serving as a protective function, a reflective layer, and an adhesive layer (see, for example, Patent Document 1). .) However, it is a partial transfer at the time of transfer, and in order to improve the foil cutting property, the hologram layer must be a resin film with a thickness of about several microns, and is transferred to the surface of the medium to become the outermost surface. When used repeatedly, there is a drawback in that it lacks durability such as tough scratch resistance and solvent resistance.
In addition, the applicant has laminated a sheet base material provided with a resin layer and a transparent sheet provided with a hologram forming layer and a receiving layer, and the transparent sheet portion including the hologram forming layer and the receiving layer is subjected to a half cut process. An intermediate transfer recording medium that peels between a resin layer and a transparent sheet is disclosed (for example, see Patent Documents 2 to 3). However, the receiving layer is essential, and the image is printed on the receiving layer and retransferred, and there is no mention of imparting durability such as scratch resistance or solvent resistance of the image printed on the medium. There are drawbacks.
Further, the present applicant (A) is an electromagnetic wave shielding sheet in which a conductive layer having a mesh region and a grounding region 40 is laminated on one surface of a transparent substrate, and the mesh region is flattened. 1 and (B) the adhesive optical filter 20 in which an adhesive layer is laminated on one surface and at least a part of the grounding region 40 can be exposed. The adhesive layer of the adhesive optical filter 20 The side is directed to the conductor layer side of the electromagnetic wave shielding sheet 1, and the adhesive optical filter 20 is continuously supplied so as to face the image display area portion of the display in the electromagnetic wave shielding sheet 1, and bonded and laminated. A method for manufacturing a composite filter for display in which the side edge of the electromagnetic wave shielding sheet 1 is exposed as a grounding region 40 is disclosed (for example, see Patent Document 4). In this specification, contact for attaching a conductor layer is disclosed. Ionizing radiation-curable resin is exemplified (0028) is, and the coating film (0052) using an ionizing radiation-curable resin as the hard coat layer of the functional expression layer have also been described as an agent. However, there is no description on the point of simultaneously curing the two layers of the adhesive and the hard coat layer with ionizing radiation.

特開２００８−９１３４号公報JP 2008-9134 A 特開２００２−２７４０６０号公報JP 2002-274060 A 特開２００４−２８４０９６号公報JP 2004-284096 A 特開２００７−２５８５５７号公報JP 2007-258557 A

そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、布や紙などの繊維質素材への装飾は、意匠性に優れるホログラムを有するパッチ転写媒体をアイロン等で加熱加圧することで容易に転写でき、かつ、転写後は電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層及び電離放射線硬化樹脂を主成分とする接着剤層の２層が最表面となって耐擦傷性に優れるパッチ転写繊維質素材、かつまた、パッチ転写媒体自身は電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層及び電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層の２層を電離放射線の１回の照射で同時に硬化させて、硬化したハードコート層及び硬化した接着剤層とすることで、低コストで製造できるパッチ転写媒体の製造方法を提供する。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. Its purpose is to decorate fabric materials such as cloth and paper, which can be easily transferred by heating and pressurizing a patch transfer medium with a hologram with excellent design properties with an iron, etc. A patch transfer fibrous material with excellent scratch resistance with two layers, a hard coat layer mainly composed of an ion and an adhesive layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin, and the patch transfer medium itself is ionized. Two layers of uncured hard coat layer mainly composed of radiation curable resin and uncured adhesive layer mainly composed of ionizing radiation curable resin are cured simultaneously by one irradiation of ionizing radiation and cured. By providing a hard coat layer and a cured adhesive layer, a method for producing a patch transfer medium that can be produced at low cost is provided.

上記の課題を解決するために、
請求項１の発明に係わるパッチ転写媒体の製造方法は、（１）透明基材と、該透明基材の一方の面にホログラム層、反射層及び印刷層を設けてなる転写材を準備する転写材準備工程と、（２）支持基材と、該支持基材の一方の面へ離型層を設けてなる支持材を準備する支持材準備工程と、（３）前記支持材の離型層面へ、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層形成工程と、（４）前記未硬化なハードコート層面と前記転写材の透明基材面とを、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層を介して積層した後に、電離放射線を照射し前記未硬化なハードコート層及び前記未硬化な接着剤層を同時に硬化させて、硬化したハードコート層及び硬化した接着剤層とすることで積層体とする積層工程と、（５）前記積層体の前記印刷層面へ、ホットメルトからなる接着層を設ける接着層形成工程と、（６）上記硬化したハードコート層、硬化した接着剤層、透明基材、ホログラム層、反射層、印刷層及び接着層からなる構成を転写部とし、該転写部をハーフカット処理を施してパッチとし、該パッチが前記支持材の離型層面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程と、からなるように、したものである。
請求項２の発明に係わるパッチ転写媒体は、請求項１に記載のパッチ転写媒体の製造方法で製造されたパッチ転写媒体であって、上記硬化したハードコート層、硬化した接着剤層、透明基材、ホログラム層、反射層、印刷層及び接着層から構成される転写部をハーフカット処理を施してパッチとし、該パッチが前記支持材の離型層面へ剥離可能に積層されているように、したものである。
請求項３の発明に係わるパッチ転写繊維質素材は、請求項２に記載のパッチ転写媒体の前記接着層面と繊維質素材からなる被転写体とを重ね合わせて、アイロンで加熱加圧した後に、前記支持基材及び離型層とを剥離し除去することで、前記パッチが前記被転写体へ転写されてなり、最表面が硬化したハードコート層となることで耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラムを有するように、したものである。 To solve the above problem,
The method for producing a patch transfer medium according to the invention of claim 1 is: (1) a transfer in which a transparent substrate and a transfer material comprising a hologram layer, a reflective layer, and a printing layer are provided on one surface of the transparent substrate; A material preparation step; (2) a support material; a support material preparation step of preparing a support material in which a release layer is provided on one surface of the support substrate; and (3) a release layer surface of the support material. And (4) forming the uncured hard coat layer mainly comprising an ionizing radiation curable resin and (4) the uncured hard coat layer surface and the transparent substrate surface of the transfer material with an ionizing radiation curable resin. After laminating through the uncured adhesive layer as the main component, ionizing radiation is applied to simultaneously cure the uncured hard coat layer and the uncured adhesive layer, thereby curing the hard coat layer and the cured And (5) before the lamination process to make a laminate by making the adhesive layer An adhesive layer forming step of providing an adhesive layer made of hot melt on the printed layer surface of the laminate; and (6) the cured hard coat layer, the cured adhesive layer, the transparent substrate, the hologram layer, the reflective layer, and the printed layer. And a structure comprising an adhesive layer as a transfer part, the transfer part is subjected to a half-cut process to form a patch, and the patch is laminated on the release layer surface of the support material so as to be peelable, , So that it consists of.
A patch transfer medium according to a second aspect of the present invention is a patch transfer medium manufactured by the method for manufacturing a patch transfer medium according to the first aspect, wherein the cured hard coat layer, the cured adhesive layer, the transparent substrate A transfer part composed of a material, a hologram layer, a reflective layer, a printed layer and an adhesive layer is subjected to a half-cut treatment to form a patch, and the patch is laminated so as to be peelable on the release layer surface of the support material. It is a thing.
The patch transfer fibrous material according to the invention of claim 3 is obtained by superposing the adhesive layer surface of the patch transfer medium according to claim 2 and a transfer material made of a fiber material, and heating and pressing with an iron, By peeling off and removing the support substrate and the release layer, the patch is transferred to the transfer target, and the hard coat layer is hardened on the outermost surface. The hologram has excellent properties.

請求項１の本発明によれば、布や紙などの繊維質素材への装飾は、意匠性に優れるホログラムを有するパッチ転写媒体をアイロン等で加熱加圧することで容易に転写でき、かつ、転写後は電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層及び電離放射線硬化樹脂を主成分とする接着剤層の２層が最表面となって耐擦傷性に優れ、また、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層及び電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層の２層を電離放射線の１回の照射で同時に硬化させて、硬化したハードコート層及び硬化した接着剤層とすることで低コストで製造でき、さらに、電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層、及び電離放射線硬性樹脂を主成分とする接着剤層は、無溶媒で塗布し硬化させて塗膜化できるので、溶媒を使用しない分が低コストで、溶媒を環境へ排出しないので、溶媒回収費用もなく、燃焼させて排出する場合の二酸化炭素の排出もなく、環境への負荷が少ないパッチ転写媒体の製造方法が提供される。
請求項２の本発明によれば、布や紙などの繊維質素材への装飾は、意匠性に優れるホログラムを有するパッチ転写媒体をアイロン等で加熱加圧することで容易に転写でき、かつ、転写後は電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層及び電離放射線硬化樹脂を主成分とする接着剤層の２層が最表面となって耐擦傷性に優れるパッチ転写媒体が提供される。
請求項３の本発明によれば、最表面の電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層及び電離放射線硬化樹脂を主成分とする接着剤層の２層が最表面となって、耐久性、特に耐擦傷性に優れるパッチ転写繊維質素材が提供される。 According to the first aspect of the present invention, decoration on a fibrous material such as cloth or paper can be easily transferred by heating and pressing a patch transfer medium having a hologram having excellent design properties with an iron or the like. After that, the hard coat layer mainly composed of ionizing radiation curable resin and the adhesive layer mainly composed of ionizing radiation curable resin become the outermost surface and have excellent scratch resistance. Two layers of an uncured hard coat layer having a main component and an uncured adhesive layer having an ionizing radiation curable resin as a main component are simultaneously cured by a single irradiation of ionizing radiation. The cured adhesive layer can be manufactured at low cost, and the hard coat layer mainly composed of ionizing radiation curable resin and the adhesive layer mainly composed of ionizing radiation curable resin can be applied without solvent. Harden and paint Therefore, the cost of not using a solvent is low, and the solvent is not discharged to the environment, so there is no solvent recovery cost, no carbon dioxide emission when burning and discharging, and patch transfer with low environmental impact A method for manufacturing a medium is provided.
According to the second aspect of the present invention, decoration on a fibrous material such as cloth or paper can be easily transferred by heating and pressurizing a patch transfer medium having a hologram having excellent design properties with an iron or the like. Thereafter, a patch transfer medium having excellent scratch resistance is provided, with the hard coat layer mainly composed of ionizing radiation curable resin and the adhesive layer mainly composed of ionizing radiation curable resin serving as the outermost surface.
According to the third aspect of the present invention, two layers of the hard coat layer mainly composed of the outermost surface ionizing radiation curable resin and the adhesive layer mainly composed of the ionizing radiation curable resin become the outermost surface, and the durability is increased. In particular, a patch transfer fibrous material excellent in scratch resistance is provided.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法を示すステップ図である。
図２は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ１の転写材準備工程で準備する転写材の断面図である。
図３は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ２の支持材準備工程で準備する支持材の断面図である。
図４は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ３のハードコート層形成工程後の断面図である。
図５は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ４の積層工程の説明と、積層工程後の積層体の断面図である。
図６は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ５の接着層形成工程後の断面図である。
図７は、本発明の１実施例を示すパッチ転写媒体の断面図である。
図８は、本発明のパッチ転写媒体を用いて繊維質基材への転写を説明する説明図である。
図９は、本発明のパッチ転写媒体を用いて転写した本発明の１実施例を示すパッチ転写繊維質素材の断面図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a step diagram showing a method for manufacturing a patch transfer medium according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a transfer material prepared in the transfer material preparation process in step 1 of the method for manufacturing a patch transfer medium of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the support material prepared in the support material preparation process in step 2 of the method for manufacturing the patch transfer medium of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view after the hard coat layer forming step of step 3 of the method for manufacturing a patch transfer medium of the present invention.
FIG. 5 is an explanation of the lamination process in Step 4 of the method for manufacturing a patch transfer medium of the present invention and a cross-sectional view of the laminate after the lamination process.
FIG. 6 is a cross-sectional view after the adhesive layer forming step of step 5 of the method for manufacturing a patch transfer medium of the present invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view of a patch transfer medium showing an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining transfer to a fibrous base material using the patch transfer medium of the present invention.
FIG. 9 is a cross-sectional view of a patch transfer fibrous material showing an embodiment of the present invention transferred using the patch transfer medium of the present invention.

（パッチ転写媒体の製造方法）本発明のパッチ転写媒体の製造方法について説明する。本発明のパッチ転写媒体の製造方法は、図１に示すように、
ステップ１Ｓ１の（１）透明基材１１と、該透明基材１１の一方の面にホログラム層１５、反射層１７及び印刷層１８を設けてなる転写材１０を準備する転写材準備工程と、ステップ２Ｓ２の（２）支持基材３１と、該支持基材３１の一方の面へ離型層１３を設けてなる支持材３０を準備する支持材準備工程と、ステップ３Ｓ３の（３）前記支持材３０の離型層１３面へ、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層形成工程と、ステップ４Ｓ４の（４）前記未硬化なハードコート層面と前記転写材１０の透明基材１１面とを、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層を介して積層した後に、電離放射線を照射し前記未硬化なハードコート層及び前記未硬化な接着剤層を同時に硬化させて、硬化したハードコート層１４及び硬化した接着剤層２９とすることで積層体５０とする積層工程と、ステップ５Ｓ５の（５）前記積層体５０の前記印刷層１８面へ、ホットメルトからなる接着層１９を設ける接着層形成工程と、ステップ６Ｓ６の（６）上記硬化したハードコート層１４、硬化した接着剤層２９、透明基材１１、ホログラム層１５、反射層１７、印刷層１８及び接着層１９からなる構成を転写部２３とし、該転写部２３をハーフカット処理を施してパッチ２１とし、該パッチ２１が前記支持材３０の離型層１３面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程と、とからなっている。 (Patch Transfer Medium Manufacturing Method) The patch transfer medium manufacturing method of the present invention will be described. As shown in FIG. 1, the manufacturing method of the patch transfer medium of the present invention
Step 1S1 (1) a transparent substrate 11 and a transfer material preparation step of preparing a transfer material 10 having a hologram layer 15, a reflection layer 17 and a print layer 18 provided on one surface of the transparent substrate 11, and a step 2S2 (2) a support substrate 31 and a support material preparation step of preparing a support material 30 provided with a release layer 13 on one surface of the support substrate 31, and (3) the support material in step 3S3 The step of forming an uncured hard coat layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin on the surface of 30 release layers 13, and (4) the uncured hard coat layer surface of step 4 S 4 and the transparent group of the transfer material 10 After laminating the material 11 surface through an uncured adhesive layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin, the uncured hard coat layer and the uncured adhesive layer are irradiated with ionizing radiation. Hardened at the same time, hardened hard core (5) in step 5S5, (5) the adhesive layer 19 made of hot melt is provided on the surface of the printed layer 18 of the laminate 50. Step 6S6 (6) The cured hard coat layer 14, the cured adhesive layer 29, the transparent base material 11, the hologram layer 15, the reflective layer 17, the printed layer 18, and the adhesive layer 19 Is a transfer portion 23, the transfer portion 23 is subjected to a half-cut process to form a patch 21, and the patch 21 is detachably laminated on the surface of the release layer 13 of the support member 30. It consists of

（ステップ１）ステップ１Ｓ１は（１）透明基材１１と、該透明基材１１の一方の面にホログラム層１５、反射層１７及び印刷層１８を設けてなる転写材１０を準備する。転写材１０は図２に示すように、透明基材１１と、該透明基材１１の一方の面にホログラム層１５、透明反射層１７及び印刷層１８からなっている。   (Step 1) Step 1S1 prepares (1) a transparent substrate 11 and a transfer material 10 in which a hologram layer 15, a reflective layer 17 and a print layer 18 are provided on one surface of the transparent substrate 11. As shown in FIG. 2, the transfer material 10 includes a transparent substrate 11 and a hologram layer 15, a transparent reflective layer 17, and a print layer 18 on one surface of the transparent substrate 11.

（透明基材）透明基材１１としては、ハーフカット処理された部分を境界にして、ハードコート層１４、接着剤層２９、透明基材１１、ホログラム層１５、反射層１７、印刷層１８及び接着層１９からなる構成を転写部２３の１部として切断され、被転写体である繊維質基材１０１へ転写されて、ハードコート層１４及び接着剤層２９とともに保護機能を発現する。透明性と、耐候性、耐摩擦性、耐薬品性等の耐久性を有するものであれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン系樹脂、セロファンなどのセルロース系フィルムなどが例示できる。該透明基材１１は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。   (Transparent Substrate) As the transparent substrate 11, the hard-coated layer 14, the adhesive layer 29, the transparent substrate 11, the hologram layer 15, the reflective layer 17, the printing layer 18, The structure composed of the adhesive layer 19 is cut as a part of the transfer part 23 and transferred to the fibrous base material 101 which is a transfer target, and exhibits a protective function together with the hard coat layer 14 and the adhesive layer 29. Various materials can be applied depending on the application as long as they have transparency and durability such as weather resistance, friction resistance, and chemical resistance. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, acrylic resins, imide resins, engineering resins such as polyarylate, polycarbonate, cyclic polyolefin resins, cellophane Examples thereof include cellulosic films. The transparent substrate 11 may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers.

また、該透明基材１１は、延伸又は未延伸のフィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。厚は、通常２．５〜５０μｍ程度が適用できるが、２．５〜２５μｍが好適である。該透明基材１１は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えてもよい。２軸延伸ポリエチレンテレフタレートのフィルムが、耐熱性、機械的強度がよいため好適に使用され。   The transparent substrate 11 may be a stretched or unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving strength. A thickness of about 2.5 to 50 μm is usually applicable, but 2.5 to 25 μm is preferable. Prior to coating, the transparent substrate 11 is subjected to easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, primer (also called an anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) coating treatment, alkali treatment, etc. May be. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, as needed. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film is preferably used because of its good heat resistance and mechanical strength.

（ホログラム層）ホログラム層１５としては、電離放射線硬化樹脂を主成分とし、必要に応じてシリコーンやフィラーなどの添加物を含ませてもよい。   (Hologram layer) The hologram layer 15 may contain an ionizing radiation curable resin as a main component, and may contain additives such as silicone and filler as necessary.

該電離放射線硬化性樹脂としては、好ましくは、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂を用い、好ましくはポリエチレンワックスを含ませて、塗布し乾燥して電離放射線で硬化させて、電離放射線硬化樹脂とすればよい。   The ionizing radiation curable resin is preferably (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Preferably using an ionizing radiation curable resin containing a polyfunctional (meth) acrylate having, or (3) a urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of a polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups in the molecule. May contain polyethylene wax, applied, dried, and cured with ionizing radiation to form an ionizing radiation curable resin.

前記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂（本明細書では電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍと呼称する）は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂などが例示できる。具体的には、ＭＨＸ４０５ニス（ザ・インクテック（株）製、電離放射線硬化性樹脂商品名）、ユピマーＵＶ・Ｖ３０３１（三菱化学（株）製、電離放射線硬化性樹脂商品名）が例示できる。   The ionizing radiation curable resin containing the urethane (meth) acrylate oligomer (referred to herein as the ionizing radiation curable resin composition M) is a cured ionizing radiation curable resin containing the urethane (meth) acrylate oligomer. Examples thereof include photocurable resins disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-329031. Specific examples include MHX405 varnish (made by The Inktec Co., Ltd., ionizing radiation curable resin product name) and Iupimer UV · V3031 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., product name of ionizing radiation curable resin).

（ホログラム層の形成）ホログラム層１５の形成は、上記の電離放射線硬化性樹脂を主成分とし、必要に応じてシリコーンやフィラー、光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、ホログラム（レリーフ）を賦型後に電離放射線で反応（硬化）させればよい。ホログラム層１５の厚さは、通常、１〜１０μｍ程度、好ましくは２〜５μｍである。   (Hologram layer formation) The hologram layer 15 is formed with the above-mentioned ionizing radiation curable resin as a main component, and silicone, filler, photopolymerization initiator, plasticizer, stabilizer, surfactant, etc. are added as necessary. , Dispersed or dissolved in a solvent, applied by a known coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating, die coating, etc., dried and reacted (cured) with ionizing radiation after shaping the hologram (relief) Good. The thickness of the hologram layer 15 is usually about 1 to 10 μm, preferably 2 to 5 μm.

（ホログラム）次に、ホログラム層１５の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定の微細な凹凸（レリーフ構造）を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。   (Hologram) Next, predetermined fine unevenness (relief structure) such as a hologram that exhibits a light diffraction effect is formed on the surface of the hologram layer 15 and cured. A hologram is a recording of interference fringes due to the interference of light between object light and reference light in an uneven relief shape, such as a laser reproduction hologram such as a Fresnel hologram, a white light reproduction hologram such as a rainbow hologram, There are color holograms utilizing the above principle, computer generated holograms (CGH), holographic diffraction gratings and the like. The relief shape is a concavo-convex shape, and is not particularly limited, and may have a fine concavo-convex shape such as light diffusion, light scattering, light reflection, light diffraction, etc., such as Fourier transform or lenticular lens. , A light diffraction pattern, and a moth eye. Further, although it does not have a light diffraction function, it may be a hairline pattern, a mat pattern, a line pattern, an interference pattern, or the like that expresses a unique glitter.

ホログラム層１５面へ、レリーフ形状を賦形（複製ともいう）する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。   A relief shape is formed (also referred to as replication) on the surface of the hologram layer 15. Hologram shaping can be formed by a known method. For example, when recording diffraction gratings or interference fringes of holograms as reliefs of surface irregularities, a master on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in irregularities is pressed. The concave / convex pattern of the original can be duplicated by using it as a mold (referred to as a stamper) and by superimposing the original on the resin layer and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll.

また、ホログラム層１５に形成するホログラムパターンは単独でも、複数でもよい。ホログラム層１５は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、紫外線や電子線などの電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（微細な凹凸＝レリーフ構造＝ホログラム）となる。   Further, the hologram pattern formed on the hologram layer 15 may be single or plural. The hologram layer 15 is irradiated with ionizing radiation during or after embossing with a stamper to cure the ionizing radiation curable resin. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (fine irregularities = relief structure = hologram) when it is cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams after the relief is formed.

（反射層）反射層１７は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層１５面のレリーフ面へ、反射層１７へ設けることにより、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めるので、ホログラム層１５の反射率のより高れば、特に限定されない。該反射層１７としては、真空薄膜法などによる金属薄膜などの金属光沢反射層、又は透明反射層のいずれでもよいが、金属光沢反射層は部分的に設け、透明反射層は被転写体へ形成されている画像の面へ転写しても、画像が観察できるので好ましい。透明反射層としては、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層１５よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯ等があり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕ等の酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したもの等が例示できる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出て使用できる。透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層１５のレリーフ面に、１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの真空薄膜法などにより設ければよい。 (Reflection layer) Since the reflection layer 17 is provided on the reflection layer 17 on the relief surface of the hologram layer 15 provided with a predetermined relief structure, the reflection reflection and / or diffraction effect is enhanced. If the rate is higher, it is not particularly limited. The reflective layer 17 may be a metallic glossy reflective layer such as a metal thin film by a vacuum thin film method or the like, or a transparent reflective layer, but the metallic glossy reflective layer is partially provided and the transparent reflective layer is formed on the transfer target. Even if the image is transferred to the surface of the image, it is preferable because the image can be observed. The transparent reflection layer has a substantially colorless and transparent hue, and its optical refractive index is different from that of the hologram layer. A hologram can be produced. For example, there are a thin film having a higher refractive index than the hologram layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2. ITO, etc., and examples of the latter include LiF, MgF 2 , and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like can be exemplified by a mixture of two or more thereof. Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less. The transparent metal compound is formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD so that the thickness of the relief layer of the hologram layer 15 is about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a thin film method or the like.

（印刷層）印刷層１８としては、特に限定されず、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷などの公知の印刷法で、印刷すればよい。印刷図柄の色も特に限定されず、カラー、単色、複色、マタリックなどいずれでもよく、画像のパターンも特に限定されず、文字、記号、数字、イラスト、写真などいずれでもよい。図柄は転写されて基材１１面から観察されるので、正常に観察できるように印刷すればよい。これを用いて、例えばＴシャツへ転写すれば、好みに応じたホログラムと図柄を有するＴシャツができる。   (Print layer) The print layer 18 is not particularly limited, and may be printed by a known printing method such as gravure printing, screen printing or flexographic printing. The color of the printed pattern is not particularly limited, and may be any of color, single color, multicolor, and matal, and the image pattern is not particularly limited, and may be any of letters, symbols, numbers, illustrations, photographs, and the like. Since the design is transferred and observed from the surface of the base material 11, it may be printed so that it can be normally observed. If this is used and transferred to, for example, a T-shirt, a T-shirt having a hologram and a pattern according to preference can be obtained.

（ステップ２）ステップ２Ｓ２は（２）支持基材３１と、該支持基材３１の一方の面へ離型層１３を設けてなる支持材３０を準備する。支持材３０は図３に示すように、支持基材３１へ離型層１３が設けられている。   (Step 2) Step 2S2 provides (2) a support base material 31 and a support material 30 provided with a release layer 13 on one surface of the support base material 31. As shown in FIG. 3, the support material 30 is provided with a release layer 13 on a support base material 31.

（支持基材）支持基材３１としては、特に限定されず、例えば、コンデンサーペーパー、グラシン紙、硫酸紙、またはサイズ度の高い紙、合成紙（ポリオレフィン系、ポリスチレン系）、上質紙、コート紙、合成樹脂またはエマルジョン含浸紙、あるいは、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン系樹脂、セロファンなどのセルロース系フィルムなどのフィルムが例示できる。上記の支持基材３１上に後述さる剥離性樹脂層３３を設ける際に、接着性を向上させるために、支持基材３１表面をコロナ放電処理したり、プライマー層を設けてもよい。   (Supporting base material) The supporting base material 31 is not particularly limited. For example, condenser paper, glassine paper, sulfuric acid paper, high-size paper, synthetic paper (polyolefin-based, polystyrene-based), high-quality paper, coated paper , Synthetic resin or emulsion-impregnated paper, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyamide resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, acrylic resins, imide resins, polyarylate, etc. Examples include engineering resins, polycarbonates, cyclic polyolefin resins, and cellulose films such as cellophane. When the peelable resin layer 33 described later is provided on the support base 31, the surface of the support base 31 may be subjected to corona discharge treatment or a primer layer may be provided in order to improve adhesion.

支持材３０は１０μｍ〜１００μｍの厚みのものが好ましく、シート基材が薄すぎると得られるパッチ転写媒体２０のいわゆるコシがなくなり、熱転写プリンターで搬送できなかったり、パッチ転写媒体２０にカールやシワが発生したりする。一方、支持材３０が厚すぎると、得られるパッチ転写媒体２０が厚くなりすぎ、熱転写プリンタで搬送駆動させる力が大きくなりすぎて、熱転写プリンタに故障が生じたり、正常に搬送できなかったりする。   The support material 30 preferably has a thickness of 10 μm to 100 μm. If the sheet base material is too thin, the so-called stiffness of the obtained patch transfer medium 20 is lost, and it cannot be conveyed by a thermal transfer printer, or the patch transfer medium 20 is curled or wrinkled. Occur. On the other hand, if the support material 30 is too thick, the resulting patch transfer medium 20 becomes too thick, and the force to drive and drive the thermal transfer printer becomes too great, causing the thermal transfer printer to fail or not be transported normally.

（離型層）離型層１３としては、通常、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがあるが、好ましくはメラミン系樹脂を用い、後述するハードコート層１４と組合わせることで、離型層１３との剥離性が安定し、転写時の転写性を向上させることができる。離型層１３の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して、温度１５０℃〜２００℃程度で焼き付ける。離型層１３の厚さとしては、通常は０．０１μｍ〜５．０μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜３．０μｍ程度である。   (Release layer) As the release layer 13, there are usually a release resin, a resin containing a release agent, a curable resin which is cross-linked by ionizing radiation, etc., preferably a melamine-based resin, which will be described later. By combining with the hard coat layer 14, the releasability from the release layer 13 is stabilized, and the transferability during transfer can be improved. The release layer 13 is formed by dispersing or dissolving the resin in a solvent, applying and drying the resin by a known coating method such as roll coating or gravure coating, and baking at a temperature of about 150 ° C to 200 ° C. The thickness of the release layer 13 is usually about 0.01 μm to 5.0 μm, preferably about 0.5 μm to 3.0 μm.

（耐熱滑性層）パッチ転写媒体２０では、必要に応じて、支持基材３１の剥離性樹脂層３３面と反対面に耐熱滑性層を設けてもよい。パッチ転写媒体２０を用いて被転写体１０１へ再転写はサーマルヘッドやヒートロール等の熱転写プリンタが用いるので、その熱によるスティッキングやシワなどの悪影響を防止するため、耐熱滑性層を設けてもよい。耐熱滑性層を形成する樹脂としては、従来公知のものであればよく、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセトアセタール樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。   (Heat resistant slipping layer) In the patch transfer medium 20, a heat resistant slipping layer may be provided on the surface opposite to the peelable resin layer 33 surface of the support base 31 as required. Since retransfer to the transfer target 101 using the patch transfer medium 20 is performed by a thermal transfer printer such as a thermal head or a heat roll, a heat resistant slipping layer may be provided to prevent adverse effects such as sticking and wrinkles due to the heat. Good. The resin for forming the heat-resistant slipping layer may be any conventionally known resin such as polyvinyl butyral resin, polyvinyl acetoacetal resin, acrylic resin, cellulose resin, aromatic polyamide resin, polyimide resin, polycarbonate resin, etc. Is mentioned.

また、耐熱滑性層に添加、又は上塗りする滑り性付与剤としては、例えば、ポリアルコール高分子化合物とポリイソシアネート化合物及び燐酸エステル系化合物からなる層であり、更に充填剤を添加することがより好ましい。耐熱滑性層は、上記に記載した樹脂、滑り性付与剤、更に充填剤を、適当な溶剤により、溶解又は分散させて、支持基材３１の背面に、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等で塗布し乾燥して形成すればよい。   The slipperiness-imparting agent that is added to or overcoated the heat-resistant slipping layer is, for example, a layer composed of a polyalcohol polymer compound, a polyisocyanate compound, and a phosphate ester compound, and a filler may be further added. preferable. The heat resistant slipping layer is prepared by dissolving or dispersing the above-described resin, slipperiness-imparting agent, and filler with an appropriate solvent, and, for example, gravure printing or screen printing on the back surface of the support substrate 31. It may be formed by applying and drying with the like.

（ステップ３）ステップ３Ｓ３は（３）前記支持材３０の離型層１３面へ、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層を形成すると、図４に示す構成となる。   (Step 3) Step 3S3 has the structure shown in FIG. 4 when (3) an uncured hard coat layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin is formed on the surface of the release layer 13 of the support material 30.

（ハードコート層）ハードコート層１４としては、少なくとも電離放射線硬化樹脂を主成分とし、必要に応じてフィラーを含むようにする。硬化前の電離放射線硬化性樹脂としては、（イ）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（ロ）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（ハ）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで、電離放射線硬化性を有するウレタン変性アクリレート樹脂である。好ましいウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの詳細は、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂が好ましい。具体的には、ＭＨＸ４０５ニス（ザ・インクテック（株）製、電離放射線硬化性樹脂商品名）、ユピマーＵＶ・Ｖ３０３１（三菱化学（株）製、電離放射線硬化性樹脂商品名）が例示できる。   (Hard Coat Layer) The hard coat layer 14 contains at least an ionizing radiation curable resin as a main component, and contains a filler as necessary. The ionizing radiation curable resin before curing includes (i) isocyanates having 3 or more isocyanate groups in the molecule, and (b) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. A urethane (meth) acrylate oligomer that is a reaction product of polyfunctional (meth) acrylates or (C) polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule, and is a urethane-modified acrylate resin having ionizing radiation curability. is there. The details of the preferred urethane (meth) acrylate oligomer are preferably photocurable resins disclosed in JP-A-2001-329031. Specific examples include MHX405 varnish (made by The Inktec Co., Ltd., ionizing radiation curable resin product name) and Iupimer UV · V3031 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., product name of ionizing radiation curable resin).

（フィラー）フィラーとしてはマイクロシリカやポリエチレンワックスなどが例示でき、ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。その添加量は、電離放射線硬化樹脂１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部程度、好ましくは０．１〜５質量部とする。転写後にはハードコート層１４が最表面層となり、含まれるフィラーは、機械的な摩擦、及び摩耗から媒体を保護し、後述する画像などの固有情報も保護する。   (Filler) Examples of the filler include micro silica and polyethylene wax, and examples of the polyethylene wax include polyethylene resin particles and beads, and spherical beads are preferable. The addition amount is about 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin. After the transfer, the hard coat layer 14 becomes the outermost layer, and the contained filler protects the medium from mechanical friction and abrasion, and also protects unique information such as an image to be described later.

（１）ポリエチレンワックスを含ませることで、転写後にはハードコート層１４が最表面層となるが、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び／又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗から被転写体を保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。（２）ハードコート層１４はメラミン系樹脂を用いた離型層１３と界面を接しているので、ハードコート層１４と離型層１３との間で剥離し、安定した剥離性となる。   (1) By including polyethylene wax, the hard coat layer 14 becomes the outermost surface layer after transfer, but it can be used in extremely harsh environments, used for a long period of time, and / or repeatedly used many times. It protects the transferred material from solvents, mechanical friction, and abrasion, and is resistant to scratches and has excellent durability. (2) Since the hard coat layer 14 is in contact with the release layer 13 using the melamine-based resin, the hard coat layer 14 is peeled between the hard coat layer 14 and the release layer 13 and becomes stable peelability.

また、電離放射線硬化樹脂とフィラーを含むハードコート層１４に、ポリエステル系樹脂を含ませることが好ましく、ポリエステル樹脂としては、数平均分子量が１３０００〜３００００で、１分子当たり２〜１０個の水酸基を有するポリエステルポリオールが柔軟性及び硬化時の低収縮性の点で好ましい。該ポリエステル樹脂としては、例えば、バイロン−２００、バイロン−１０３、バイロン−６００（以上、東洋紡績社製商品名）、アロンメルトＰＥＳ３１０−Ｓ３０（東亞合成化学工業社製商品名）などが例示でき、エリーテルＵＥ３４００シリーズ、ＵＥ３５００シリーズ、ＵＥ３６００シリーズ（以上、ユニチカ社製商品名）などの熱可塑性飽和共重合ポリエステル樹脂が特に好ましい。   The hard coat layer 14 containing an ionizing radiation curable resin and a filler preferably contains a polyester resin. The polyester resin has a number average molecular weight of 13,000 to 30,000, and 2 to 10 hydroxyl groups per molecule. The polyester polyol having is preferable in terms of flexibility and low shrinkage during curing. Examples of the polyester resin include Byron-200, Byron-103, Byron-600 (above, trade name manufactured by Toyobo Co., Ltd.), Aron Melt PES310-S30 (trade name manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), etc. Thermoplastic saturated copolyester resins such as UE3400 series, UE3500 series, UE3600 series (above, product names manufactured by Unitika Ltd.) are particularly preferred.

電離放射線硬化性樹脂に対するポリエステル樹脂の配合割合は質量基準で、電離放射線硬化性樹脂：ポリエステル樹脂＝１００：１０〜４０が好ましく、この範囲未満では硬化後のハードコート層１４の柔軟性が不足し、かつ、硬化時の収縮性が大きく反ったりし、この範囲を超えるとハードコート性が不足する。   The blending ratio of the polyester resin to the ionizing radiation curable resin is preferably based on mass, and the ionizing radiation curable resin: polyester resin = 100: 10 to 40 is preferable, and if it is less than this range, the flexibility of the hard coat layer 14 after curing is insufficient. And the shrinkage | contraction property at the time of hardening warps greatly, and when it exceeds this range, hard coat property will be insufficient.

（ハードコート層の形成）まず、未硬化なハードコート層を形成する。上記の電離放射線硬化性樹脂にポリエチレンワックス、必要に応じて、ポリエステル系樹脂、光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、未硬化なハードコート層を形成する。なお、未硬化なハードコート層の紫外線などの電離放射線で硬化（反応）は、後述するステップ４Ｓ４の、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層を介して積層した後に、電離放射線を照射し前記未硬化なハードコート層及び前記未硬化な接着剤層を同時に硬化させる。   (Formation of hard coat layer) First, an uncured hard coat layer is formed. Add polyethylene wax to the above ionizing radiation curable resin, and if necessary, add polyester resin, photopolymerization initiator, plasticizer, stabilizer, surfactant, etc., disperse or dissolve in solvent, roll coat, gravure An uncured hard coat layer is formed by applying and drying by a known coating method such as coating, comma coating or die coating. The uncured hard coat layer is cured (reacted) with ionizing radiation such as ultraviolet rays after being laminated via an uncured adhesive layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin in Step 4S4 described later. Ionizing radiation is applied to simultaneously cure the uncured hard coat layer and the uncured adhesive layer.

（ハードコート層の厚味）本発明では、極めて過酷な環境での使用、使用期限がなかったり、長期にわたる使用、及び／又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤や機械的な摩擦及び摩耗、特に引掻きから保護し、傷付きにくい耐久性を付与するために、ハードコート層１４の厚みは１〜２５μｍ程度、好ましくは３〜１５μｍである。なお、未硬化なハードコート層が硬化するとやや薄くなるが僅かで誤差範囲内である。   (Thickness of hard coat layer) In the present invention, even in extremely harsh environments, there is no expiration date, long-term use, and / or many repeated use, solvent and mechanical friction and wear, In particular, the thickness of the hard coat layer 14 is about 1 to 25 μm, preferably 3 to 15 μm, in order to protect it from scratching and impart durability that is difficult to be damaged. It should be noted that when the uncured hard coat layer is cured, it becomes slightly thin, but it is slightly within the error range.

（ステップ４）ステップ４Ｓ４は（４）前記未硬化なハードコート層面と前記転写材の透明基材面とを、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層を介して積層した後に、電離放射線を照射し前記未硬化なハードコート層及び前記未硬化な接着剤層を同時に硬化させて、硬化したハードコート層及び硬化した接着剤層とすることで積層体５０とし、図５に示すような構成となる。   (Step 4) Step 4S4 (4) The uncured hard coat layer surface and the transparent base material surface of the transfer material were laminated via an uncured adhesive layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin. After that, the laminate 50 is obtained by irradiating with ionizing radiation and simultaneously curing the uncured hard coat layer and the uncured adhesive layer to obtain a cured hard coat layer and a cured adhesive layer. The configuration is as shown in FIG.

（積層工程）支持材３０の離型層１３面へ設けた未硬化なハードコート層面と、転写材１０の透明基材１１面とを、接着剤１９を介してのドライラミネーション法で積層方する。ドライラミネーション法では通常ウレタン系２液接着剤を用いるが、本願発明の接着剤１９としては、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層を介して積層した後に電離放射線を照射する。該電離放射線の１回の照射で、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層及び電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層の２層を同時に硬化させて、硬化したハードコート層１４及び硬化した接着剤層２９とすることで積層体５０となり、低コストで製造できる。   (Lamination step) The uncured hard coat layer surface provided on the release layer 13 surface of the support material 30 and the transparent base material 11 surface of the transfer material 10 are laminated by a dry lamination method through an adhesive 19. . In the dry lamination method, a urethane-based two-component adhesive is usually used. However, the adhesive 19 of the present invention is irradiated with ionizing radiation after being laminated through an uncured adhesive layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin. To do. By one irradiation of the ionizing radiation, two layers of an uncured hard coat layer mainly composed of ionizing radiation curable resin and an uncured adhesive layer mainly composed of ionizing radiation curable resin are simultaneously cured. Thus, by forming the cured hard coat layer 14 and the cured adhesive layer 29, the laminate 50 is obtained, and can be manufactured at low cost.

さらに、電離放射線硬化樹脂を主成分とするハードコート層、及び電離放射線硬性樹脂を主成分とする接着剤層は、無溶媒で塗布し硬化させて塗膜化できるので、溶媒を使用しない分が低コストで、溶媒を環境へ排出しないので、溶媒回収費用もなく、燃焼させて排出する場合の二酸化炭素の排出もなく、環境への負荷が少なくできる。
。 Furthermore, the hard coat layer mainly composed of the ionizing radiation curable resin and the adhesive layer mainly composed of the ionizing radiation curable resin can be applied and cured without a solvent to form a coating film. Since the solvent is not discharged to the environment at low cost, there is no solvent recovery cost, no carbon dioxide is emitted when it is burned and discharged, and the load on the environment can be reduced.
.

（積層）未硬化な接着剤層は支持材３０の離型層１３面へ塗布してから、転写材１０の透明基材１１面とを重ね合せてもよく、この逆でもよい。また、支持材３０の離型層１３面、及び／又は転写材１０の透明基材１１面へ、接着促進のために、易接着処理やプライマ層を設けてもよい。   (Lamination) The uncured adhesive layer may be applied to the surface of the release layer 13 of the support material 30 and then superimposed on the surface of the transparent substrate 11 of the transfer material 10, or vice versa. Further, an easy adhesion treatment or a primer layer may be provided on the release layer 13 surface of the support material 30 and / or the transparent base material 11 surface of the transfer material 10 in order to promote adhesion.

（ステップ５）ステップ５Ｓ５は（５）前記積層体５０の前記印刷層１８面へ、ホットメルトからなる接着層１９を設ける接着層形成工程であり、図６に示すような構成となる。   (Step 5) Step 5S5 is (5) an adhesive layer forming step in which an adhesive layer 19 made of hot melt is provided on the surface of the printed layer 18 of the laminate 50, and has a configuration as shown in FIG.

（接着層）接着層１９としては、常温または常圧では接着性がなく、加熱または加圧した時にのみ接着力を発揮する感熱または感圧接着剤であれば特に限定されないが、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等の比較的低融点の樹脂が好ましい。上記のような樹脂を熱で熔融させて液状とし、ロールコート、コンマコートや、ホットマルトアプリケーター法で、塗布し冷却すればよい。被転写体がポーラスな繊維質基材１０１で浸透するので、厚味が３０〜１５０μｍが好ましい。また、接着層１９には白色顔料、体質顔料、蛍光増白剤を含有させてもよく、これらは転写後の白色度を向上させたり、繊維質基材１０１の色を隠蔽することができる。   (Adhesive layer) The adhesive layer 19 is not particularly limited as long as it is a heat-sensitive or pressure-sensitive adhesive that does not have adhesiveness at normal temperature or normal pressure, and exhibits adhesive force only when heated or pressurized. A resin having a relatively low melting point such as a vinyl resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, or a polyester resin is preferred. The resin as described above may be melted by heat to form a liquid, which may be applied and cooled by roll coating, comma coating, or hot malt applicator method. Since the material to be transferred permeates through the porous fibrous base material 101, the thickness is preferably 30 to 150 μm. Further, the adhesive layer 19 may contain a white pigment, an extender pigment, and a fluorescent brightening agent, which can improve the whiteness after transfer or conceal the color of the fibrous base material 101.

（ステップ６）ステップ６Ｓ６は（６）上記硬化したハードコート層１４、硬化した接着剤層２９、透明基材１１、ホログラム層１５、反射層１７、印刷層１８及び接着層１９からなる構成を転写部２３とし、該転写部２３をハーフカット処理を施してパッチ２１とし、該パッチが前記支持材３０の離型層１３面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程である。   (Step 6) Step 6S6 is (6) Transferring the configuration comprising the cured hard coat layer 14, the cured adhesive layer 29, the transparent substrate 11, the hologram layer 15, the reflective layer 17, the printed layer 18 and the adhesive layer 19. This is a half-cut treatment step in which the transfer portion 23 is subjected to a half-cut process to form a patch 21, and the patch is laminated on the release layer 13 surface of the support material 30 so as to be peelable.

（ハーフカット工程）ハーフカット処理法としては、カッター刃を取り付けた上型と台座の間に、カット前の積層状態のパッチ転写媒体２０を挿入して、上型を上下動させる方法や、シリンダータイプのロータリーカッター方法、レーザー加工手段により熱処理加工方法等、ハーフカットできる方法であれば特に制限はない。パッチ２１部分とそれ以外部分を除去しなくてもよいが、図７に示すパッチ転写媒体２０の断面のように、ハーフカットしてパッチ２１部分のみを残して、それ以外部分を予め剥離し除去しておく（当業者はカス取りという）のが好ましい。被転写体へパッチ２１を転写する際に、ハーフカット処理された部分で透明基材１１部が切断されることがなく、確実に転写することができる。   (Half-cut process) As a half-cut treatment method, a method of moving the upper die up and down by inserting the patch transfer medium 20 in a stacked state before cutting between the upper die attached with a cutter blade and the pedestal, or a cylinder There is no particular limitation as long as it is a method capable of half-cutting, such as a type of rotary cutter method or a heat treatment method using laser processing means. It is not necessary to remove the patch 21 portion and other portions, but as shown in the cross section of the patch transfer medium 20 shown in FIG. It is preferable to keep it (referring to those skilled in the art as scrap removal). When the patch 21 is transferred to the transfer target, the transparent substrate 11 is not cut at the half-cut portion and can be transferred reliably.

なお、ハーフカットは、一般的には、パッチ２１の回り一周分単位で連続的にカットを施す、四隅等の部分的にアンカット（全くカットがない）部分、ミシン目部分を設けたりして、熱転写プリンター搬送中等取扱で、ハーフカットの部分が剥離するトラブルを防ぐことができる。なお、支持材３０の少なくとも１部はカットされず連続状にしておく。ハーフカット処理で切断の深さが深過ぎると、支持基材３１まで切断されて、プリンター搬送中にハーフカット加工部で切断され、搬送トラブルが発生しやすくなる。   In general, half-cutting is performed by continuously cutting around the patch 21 in units of one round, and by partially providing uncut (no cut) parts such as four corners or perforated parts. It is possible to prevent troubles in which the half-cut portion is peeled off during handling such as transporting a thermal transfer printer. In addition, at least one part of the support material 30 is not cut and is made continuous. If the cutting depth is too deep in the half-cut processing, the support base material 31 is cut, and the printer is cut at the half-cut processing section during printer conveyance, which easily causes a conveyance trouble.

パッチ２１の形状としては、特に限定されないが、例えば矩形、楕円形、丸形、ドーナッツ形などが例示できる。ハーフカット処理されたパッチ２１部分が被転写体の転写される全面の大きさよりも小さくてもよく、また、パッチ２１部分が、被転写体に対して、部分的に抜けている部分があってもよく、さらに、パッチ転写媒体２０の全幅が、被転写体の転写される面の幅よりも広くてもよい。   Although it does not specifically limit as a shape of the patch 21, For example, a rectangle, an ellipse, a round shape, a donut shape etc. can be illustrated. The half-cut patch 21 portion may be smaller than the entire size of the transfer target body, and the patch 21 portion may be partially removed from the transfer body. Furthermore, the entire width of the patch transfer medium 20 may be wider than the width of the surface to which the transfer target is transferred.

（パッチ転写媒体）パッチ転写媒体２０の転写部２３はハーフカットされてパッチ２１となり、支持材３０の離型層１３面へ剥離可能に積層されている。このように本発明のパッチ転写媒体の製造方法で製造された本発明のパッチ転写媒体２０は、支持基材３１／離型層１３からなる離型層１３面に、ハードコート層１４／接着剤層２９／透明基材１１／ホログラム層１５／反射層１７／印刷層１８／接着層１９からなる転写部２３をハーフカット処理したパッチ２１が、剥離可能に積層されており、転写時には、離型層１３とハードコート層１４の界面で剥離し、硬化したハードコート層１４面が最表面となり、硬化したハードコート層１４／硬化した接着剤層２９／透明基材１１、の３層が強固な保護機能を発現する。   (Patch Transfer Medium) The transfer portion 23 of the patch transfer medium 20 is half-cut into a patch 21 and is detachably laminated on the surface of the release layer 13 of the support material 30. As described above, the patch transfer medium 20 of the present invention manufactured by the method of manufacturing a patch transfer medium of the present invention has a hard coat layer 14 / adhesive on the surface of the release layer 13 comprising the support base 31 / release layer 13. A patch 21 obtained by half-cutting the transfer portion 23 composed of the layer 29 / transparent substrate 11 / hologram layer 15 / reflection layer 17 / printing layer 18 / adhesive layer 19 is detachably laminated. The hard coat layer 14 is peeled at the interface between the layer 13 and the hard coat layer 14, and the hard coat layer 14 surface becomes the outermost surface, and the three layers of the hard coat layer 14 / hardened adhesive layer 29 / transparent substrate 11 are strong. Express protective function.

（パッチ転写繊維質基材）図８に示すように、本発明のパッチ転写媒体２０の接着層１９面と繊維質素材１０１からなる被転写体とを重ね合わせて、アイロンなどで加熱加圧した後に、支持基材３１／離型層１３を剥離し除去することで、前記パッチ２１が繊維質素材１０１へ転写され、図８のパッチ転写繊維質素材１００となる。   (Patch Transfer Fiber Base Material) As shown in FIG. 8, the adhesive layer 19 surface of the patch transfer medium 20 of the present invention and the transfer material made of the fiber material 101 were superposed and heated and pressed with an iron or the like. After that, the support substrate 31 / release layer 13 is peeled off and removed, whereby the patch 21 is transferred to the fibrous material 101 and becomes the patch transfer fibrous material 100 of FIG.

（被転写体）繊維質素材１０１が被転写体となるが、繊維質の素材であれば特に限定されず、紙パルプ、天然又は合成樹脂繊維、ガラス繊維などの繊維を、抄紙、織物、不織布などが例示できる。形態としても特に限定されず、例えば、ノート及びカタログなどの紙類、Ｔシャツ、エプロン、帽子などの衣類、靴類などが例示できる。また、繊維質素材１０１の媒体はその少なくとも１部に着色、印刷、その他の加飾が施されていてもよい。   (Transfer to be transferred) The fibrous material 101 is a transferred material, but is not particularly limited as long as it is a fibrous material. Paper fibers, woven fabrics, non-woven fabrics such as paper pulp, natural or synthetic resin fibers, and glass fibers are used. Etc. can be exemplified. The form is not particularly limited, and examples thereof include paper such as notebooks and catalogs, clothing such as T-shirts, aprons, and hats, and shoes. Further, the medium of the fibrous material 101 may be colored, printed, or otherwise decorated on at least a part thereof.

（転写方法）被転写体への転写する転写方法としては、公知の転写法でよく、アイロンを例示したが、例えば、熱刻印によるホットスタンプ（箔押）、熱ロールによる転写、サーマルヘッド（感熱印画ヘッド）によるサーマルプリンタ（熱転写プリンタともいう）などの公知の方法が適用できる。また、パッチ２１の形状に合わせて加熱し転写してもよい。   (Transfer method) As a transfer method for transferring to a transfer target, a known transfer method may be used, and an iron is exemplified. For example, hot stamping by hot stamping (foil stamping), transfer by a hot roll, thermal head (heat sensitive) A known method such as a thermal printer (also called a thermal transfer printer) using a printing head) can be applied. Further, it may be transferred by heating in accordance with the shape of the patch 21.

（耐久性）パッチ転写繊維質素材１００の表面がハードコート層１４／接着剤層２９／透明基材１１／ホログラム層１５／反射層１７／印刷層１８／接着層１９からなるパッチ２１が転写され、硬化したハードコート層１４面が最表面となり、硬化したハードコート層１４／硬化した接着剤層２９／透明基材１１の３層が強固な保護機能を発現する。多数回の繰り返し使用でも、パッチ転写繊維質素材１００の表面と保護し、機械的化学的な損傷から長期間にわたって保護できる。特にハードコート層１４は、鋭利なものによる引掻きに対しても強靱な耐擦傷性に優れ、硬化した接着剤層２９もハードコート層１４の裏面から相乗効果を高めている。また、ハードコート層１４がポリエステル樹脂を含んだ電離放射線硬化樹脂の場合には、強靱な耐擦傷性に優れると共に柔軟性があり、パッチ転写繊維質素材１００の屈曲にも耐え、かつ、硬化時の収縮性が少なく反りもないので、転写性が安定している。さらにまた、フィルム状の透明基材１１により耐熱性、耐溶剤性などの物理的科学的な耐久性にも優れる。さらに、ホログラム層１５のホログラム及び印刷層１８の図柄は意匠性とセキュリティ性に優れる。   (Durability) Patch transfer The patch 21 comprising the hard coat layer 14 / adhesive layer 29 / transparent substrate 11 / hologram layer 15 / reflection layer 17 / printing layer 18 / adhesive layer 19 is transferred onto the surface of the fibrous material 100. The cured hard coat layer 14 surface is the outermost surface, and the three layers of cured hard coat layer 14 / cured adhesive layer 29 / transparent substrate 11 exhibit a strong protective function. Even after repeated use, the surface of the patch transfer fibrous material 100 can be protected and protected from mechanical and chemical damage over a long period of time. In particular, the hard coat layer 14 is excellent in tough scratch resistance even when scratched by a sharp object, and the cured adhesive layer 29 also enhances the synergistic effect from the back surface of the hard coat layer 14. Further, when the hard coat layer 14 is an ionizing radiation curable resin containing a polyester resin, it has excellent tough scratch resistance and flexibility, withstands bending of the patch transfer fibrous material 100, and at the time of curing. The transferability is stable because there is little shrinkage and no warping. Furthermore, the film-like transparent substrate 11 is excellent in physical and scientific durability such as heat resistance and solvent resistance. Furthermore, the hologram of the hologram layer 15 and the design of the printed layer 18 are excellent in design and security.

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this. In addition, except a solvent, each composition of each layer is a mass part of solid content conversion.

（実施例１）（Ｓ１）透明基材１１と、該透明基材１１の一方の面にホログラム層１５、透明反射層１７及び印刷層１８を設けてなる転写材１０を準備する転写材準備工程
透明基材１１として厚さ１６μｍのＰＥＴフィルムを用い、該基材１１の一方の面へ、下記のホログラム層組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させた。
・＜ホログラム層組成物＞
ユピマーＵＶ−Ｖ３０３１（三菱化学社製、ＵＶ硬化性樹脂商品名）１００部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−１６０２） ０．５部
ポリエチレンワックス（平均粒径３〜５μｍ、球状） ２部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４） ５部
溶媒（メチルエチルケトン：酢酸エチル＝１：１） ３００部
次に、該層面へ、２光束干渉法による回折格子から２Ｐ法で複製した擬似連続絵柄としたプレス型を複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、ホログラム層１５を形成した。
該ホログラム層１５のレリーフ面へ、厚さ５０ｎｍの酸化チタンを真空蒸着法で形成して、透明反射層１７とした。
該透明反射層１７面へ、ポリエステル樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂の等量混合体からなるプライマ層を介して、シルクスクリーン印刷法で小さなハート形を散りばめた図柄を透明ピンクインキで印刷し乾燥して印刷層１８を設け、透明基材１１／ホログラム層１５／透明反射層１７／印刷層１８の層構成からなる転写材１０を得た。
（Ｓ２）支持基材３１と、該支持基材３１の一方の面へ離型層１３を設けてなる支持材３０を準備する支持材準備工程と、
支持基材３１として、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムを用い、一方の面へ公知のポリイミド系樹脂からなる耐熱滑性層組成物を乾燥後の塗布量が２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて耐熱滑性層を形成し、他方の面へ、グラビアコート法で下記の離型層樹脂組成物（塗工液）を乾燥後２μｍになるように塗布し乾燥して、１８０℃２０秒間焼き付けて、離型層１３を形成し、耐熱滑性層／支持基材３１／離型層１３から構成される支持材３０を得た。
・＜離型層の樹脂組成物＞
ＴＣＭ０１メジューム（大日本インキ社製、メラミン樹脂商品名） ２５部
溶媒（ＭＥＫ：トルエン＝１：１） ７５部
（Ｓ３）前記支持材３０の離型層１３面へ、下記のハードコート層組成物ををグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが５μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させた。
・＜ハードコート層組成物＞
ユピマーＵＶ−Ｖ３０３１（三菱化学社製、ＵＶ硬化性樹脂商品名） １００部
エリーテル３５２０ＥＡ（ユニチカ社製、共重合ポリエステル樹脂商品名）２０部
ポリエチレンワックス（平均粒径３〜５μｍ、球状） ５部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４） ５部
溶媒（メチルエチルケトン：酢酸エチル＝１：１） ３００部
（Ｓ４）前記の未硬化なハードコート層面へ、下記のプライマ層組成物をグラビアコーターで乾燥後の厚さが０．５μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させてプライマ層を形成した。該プライマ層面へ、下記の接着剤層組成物をグラビアリバースコーターで厚さが３μｍになるように塗工し、直ちに前記転写材１０の透明基材１１面とを加圧して積層し、高圧水銀灯を用いて転写材１０面側から紫外線を照射して、前記未硬化なハードコート層及び前記未硬化な接着剤層を同時に硬化させて、積層体５０とした。
・＜プライマ層組成物＞
バイロン３００（東洋紡社製、商品名） ５０部
塩化ビニル酢ビニル共重合樹脂 ５０部
溶媒（トルエン：酢酸エチル＝１：１） ３００部
・＜接着剤層組成物＞
ＵＶ−Ｘ−５４５７（東亞合成社製、電離放射線硬化性接着剤）１００部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ５部
（Ｓ５）前記積層体５０の前記印刷層１８面へ、下記のホットメルト組成物を厚さが５０μｍになるようにホットメルトアプリケーターを用いて１５０℃で熔融し塗布し冷却して、接着層１９を得た
・＜接着層組成物＞
エリーテルＵＥ−３７００（ユニチカ社製、ホットメルト、商品名） １００部
（Ｓ６）上記の接着層１９付き積層体５０を、角丸の矩形状のカッター刃を取り付けた上型と台座とのプレス方式のハーフカット処理とカス取りを行えるハーフカット部で硬化したハードコート層１４、硬化した接着剤層２９、透明基材１１、ホログラム層１５、反射層１７、印刷層１８及び接着層１９の層構成部分を５４ｍｍ×８５ｍｍで角丸形状（パッチ２１となる）にハーフカット処理を施し、カス取りして、パッチ２１が離型層１３面から剥離可能に積層された連続巻取状の実施例１のパッチ転写媒体２０を得た。 (Example 1) (S1) A transfer material preparation step of preparing a transfer material 10 having a transparent base material 11 and a hologram layer 15, a transparent reflection layer 17 and a print layer 18 provided on one surface of the transparent base material 11. Using a PET film having a thickness of 16 μm as the transparent substrate 11, the following hologram layer composition was applied to one surface of the substrate 11 so that the thickness after drying with a gravure reverse coater was 2 μm. Dry at 100 ° C.
・ <Hologram layer composition>
Iupimer UV-V3031 (Mitsubishi Chemical Corporation, UV curable resin trade name) 100 parts Reactive silicone (Shin-Etsu Chemical Co., trade name X-22-1602) 0.5 part Polyethylene wax (average particle size 3-5 μm, Spherical) 2 parts Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba, trade name Irgacure 184) 5 parts Solvent (methyl ethyl ketone: ethyl acetate = 1: 1) 300 parts Next, 2P method from the diffraction grating by the two-beam interference method to the layer surface A press die having a pseudo continuous pattern duplicated in (1) was attached to an embossing roller of a duplicating apparatus and heated and pressed (embossed) with an opposing roller to form a relief composed of a fine uneven pattern. Immediately after the shaping, the hologram layer 15 was formed by irradiating and curing with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp.
Titanium oxide with a thickness of 50 nm was formed on the relief surface of the hologram layer 15 by a vacuum deposition method to form a transparent reflective layer 17.
Printed with a transparent pink ink on the surface of the transparent reflective layer 17 through a primer layer made of an equal mixture of polyester resin and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin with a silk screen printing method. Then, a printing layer 18 was provided by drying, and a transfer material 10 having a layer structure of transparent substrate 11 / hologram layer 15 / transparent reflection layer 17 / printing layer 18 was obtained.
(S2) a support material preparing step for preparing a support material 31 and a support material 30 provided with the release layer 13 on one surface of the support material 31;
Using a PET film having a thickness of 50 μm as the support substrate 31, a heat-resistant slipping layer composition made of a known polyimide resin is applied to one surface so that the coating amount after drying is 2 μm, and 100 ° C. To form a heat-resistant slip layer, and on the other side, the following release layer resin composition (coating liquid) is applied by gravure coating so as to be 2 μm after drying, and dried at 180 ° C. Baking was performed for 20 seconds to form a release layer 13, thereby obtaining a support material 30 composed of a heat-resistant slipping layer / support base material 31 / release layer 13.
・ <Resin layer resin composition>
TCM01 medium (Dainippon Ink Co., Ltd., melamine resin trade name) 25 parts Solvent (MEK: toluene = 1: 1) 75 parts (S3) The following hard coat layer composition on the surface of the release layer 13 of the support 30 Was coated with a gravure reverse coater so that the thickness after drying was 5 μm, and dried at 100 ° C.
・ <Hard coat layer composition>
Iupimer UV-V3031 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, UV curable resin product name) 100 parts Elitel 3520EA (manufactured by Unitika Co., Ltd., copolymerized polyester resin product name) 20 parts Polyethylene wax (average particle size 3 to 5 μm, spherical) 5 parts light Polymerization initiator (trade name Irgacure 184, manufactured by Ciba) 5 parts Solvent (methyl ethyl ketone: ethyl acetate = 1: 1) 300 parts (S4) The following primer layer composition is applied to the uncured hard coat layer surface with a gravure coater The primer layer was formed by coating and drying at 100 ° C. so that the thickness after drying was 0.5 μm. The following adhesive layer composition was applied to the primer layer surface with a gravure reverse coater so as to have a thickness of 3 μm, and immediately pressed onto the surface of the transparent material 11 of the transfer material 10 and laminated. The laminate 50 was obtained by irradiating ultraviolet rays from the surface side of the transfer material 10 using and curing the uncured hard coat layer and the uncured adhesive layer simultaneously.
・ Primer layer composition
Byron 300 (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 50 parts Vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin 50 parts Solvent (toluene: ethyl acetate = 1: 1) 300 parts <Adhesive layer composition>
UV-X-5457 (Toagosei Co., Ltd., ionizing radiation curable adhesive) 100 parts Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 5 parts (S5) To the printed layer 18 surface of the laminate 50 The following hot melt composition was melted at 150 ° C. using a hot melt applicator so as to have a thickness of 50 μm, coated and cooled to obtain an adhesive layer 19. <Adhesive layer composition>
Elitel UE-3700 (manufactured by Unitika Co., Ltd., hot melt, trade name) 100 parts (S6) The above-mentioned laminate 50 with the adhesive layer 19 is a press method of an upper mold and a pedestal with rounded rectangular cutter blades attached Layer structure of hard coat layer 14, cured adhesive layer 29, transparent base material 11, hologram layer 15, reflection layer 17, print layer 18, and adhesive layer 19, which are cured at a half-cut portion capable of half-cut processing and scrap removal. Example 1 of a continuous winding shape in which a part is subjected to half-cut processing in 54 mm × 85 mm rounded corner shape (which becomes a patch 21), scraped, and the patch 21 is laminated so as to be peelable from the surface of the release layer 13 The patch transfer medium 20 was obtained.

図８に示すように、実施例１のパッチ転写媒体２０の接着層１９面と、繊維質基材１０１として、ポリエステル製のＴシャツへ重ねて、パッチ転写媒体２０面から加熱したアイロンを押し当てて転写した後に、耐熱滑性層／支持基材３１／離型層１３を剥離し除去して、パッチ２１が転写されたＴシャツ（パッチ転写繊維質素材１００）を得た。パッチ転写媒体２０は転写時の剥離性もよく、容易に安定して正常に転写することができた。該Ｔシャツの表面はパッチ２１で（ハードコート層１４／接着剤層２９／透明基材１１／ホログラム層１５／反射層１７／印刷層１８／接着層１９）で覆われて、最表面となり、パッチ転写繊維質素材１００の表面がからなるパッチ２１が転写され、硬化したハードコート層１４面が最表面となり、硬化したハードコート層１４／硬化した接着剤層２９／透明基材１１の３層が相乗して強固な保護機能を発現した。多数回の繰り返し使用でも、パッチ転写繊維質素材１００の表面と保護し、機械的化学的な損傷から長期間にわたって保護でき、特にハードコート層１４は、鋭利なものによる引掻きに対しても強靱な耐擦傷性に優れ、硬化した接着剤層２９もハードコート層１４の裏面から相乗効果を高めた。また、ハードコート層１４がポリエステル樹脂を含んだ電離放射線硬化樹脂の場合には、硬化時の収縮性が少なく反りもないので、転写性が安定しており、強靱な耐擦傷性に優れると共に柔軟性があり、パッチ転写繊維質素材１００の屈曲にも耐えた。さらに、フィルム状の透明基材１１により耐熱性、耐溶剤性などの物理的科学的な耐久性にも優れていた。さらにまた、ホログラム層１５のホログラム及び印刷層１８の図柄は意匠性とセキュリティ性に優れていた。   As shown in FIG. 8, the adhesive layer 19 surface of the patch transfer medium 20 of Example 1 and the fibrous base material 101 are stacked on a polyester T-shirt and pressed with a heated iron from the patch transfer medium 20 surface. Then, the heat-resistant slipping layer / support base material 31 / release layer 13 was peeled off and removed to obtain a T-shirt (patch transfer fibrous material 100) onto which the patch 21 was transferred. The patch transfer medium 20 had good releasability at the time of transfer and could be transferred stably and normally. The surface of the T-shirt is covered with a patch 21 (hard coat layer 14 / adhesive layer 29 / transparent substrate 11 / hologram layer 15 / reflection layer 17 / printing layer 18 / adhesive layer 19) to become the outermost surface, The patch 21 comprising the surface of the patch transfer fibrous material 100 is transferred, and the cured hard coat layer 14 surface is the outermost surface, and the cured hard coat layer 14 / cured adhesive layer 29 / transparent substrate 11 three layers. Synergistically expressed a strong protective function. Even after repeated use, the surface of the patch transfer fibrous material 100 can be protected and protected from mechanical and chemical damage over a long period of time. Especially, the hard coat layer 14 is strong against scratching by sharp objects. The adhesive layer 29 which was excellent in scratch resistance and hardened also enhanced the synergistic effect from the back surface of the hard coat layer 14. Further, when the hard coat layer 14 is an ionizing radiation curable resin containing a polyester resin, it has a low shrinkage at the time of curing and does not warp, so that the transferability is stable, and it has excellent tough scratch resistance and is flexible. And withstood bending of the patch transfer fibrous material 100. Further, the film-like transparent substrate 11 was excellent in physical scientific durability such as heat resistance and solvent resistance. Furthermore, the hologram of the hologram layer 15 and the design of the printed layer 18 were excellent in design and security.

本発明のパッチ転写媒体の製造方法を示すステップ図である。It is a step figure showing a manufacturing method of a patch transfer medium of the present invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ１の転写材準備工程で準備する転写材の断面図である。It is sectional drawing of the transfer material prepared at the transfer material preparation process of step 1 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ２の支持材準備工程で準備する支持材の断面図である。It is sectional drawing of the support material prepared at the support material preparation process of step 2 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ３のハードコート層形成工程後の断面図である。It is sectional drawing after the hard-coat layer formation process of step 3 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ４の積層工程の説明と、積層工程後の積層体の断面図である。It is description of the lamination process of step 4 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention, and sectional drawing of the laminated body after a lamination process. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ５の接着層形成工程後の断面図である。It is sectional drawing after the contact bonding layer formation process of step 5 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明の１実施例を示すパッチ転写媒体の断面図である。It is sectional drawing of the patch transfer medium which shows one Example of this invention. 本発明のパッチ転写媒体を用いて繊維質基材への転写を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the transfer to a fiber base material using the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体を用いて転写した本発明の１実施例を示すパッチ転写繊維質素材の断面図である。It is sectional drawing of the patch transfer fibrous raw material which shows one Example of this invention transcribe | transferred using the patch transfer medium of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１０：転写材
１１：基材
１３：離型層
１４：ハードコート層
１５：ホログラム層
１７：反射層
１８：印刷層
１９：接着層
２０：パッチ転写媒体
２１：パッチ
２３：転写部
２９：接着剤層
３０：支持材
３１：支持基材
５０：積層体
１００：パッチ転写繊維質素材
１０１：繊維質素材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10: Transfer material 11: Base material 13: Release layer 14: Hard coat layer 15: Hologram layer 17: Reflective layer 18: Print layer 19: Adhesive layer 20: Patch transfer medium 21: Patch 23: Transfer part 29: Adhesive Layer 30: Support material 31: Support base material 50: Laminate body 100: Patch transfer fiber material 101: Fiber material

Claims (3)

（１）透明基材と、該透明基材の一方の面にホログラム層、反射層及び印刷層を設けてなる転写材を準備する転写材準備工程と、（２）支持基材と、該支持基材の一方の面へ離型層を設けてなる支持材を準備する支持材準備工程と、（３）前記支持材の離型層面へ、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化なハードコート層形成工程と、（４）前記未硬化なハードコート層面と前記転写材の透明基材面とを、電離放射線硬化性樹脂を主成分とする未硬化な接着剤層を介して積層した後に、電離放射線を照射し前記未硬化なハードコート層及び前記未硬化な接着剤層を同時に硬化させて、硬化したハードコート層及び硬化した接着剤層とすることで積層体とする積層工程と、（５）前記積層体の前記印刷層面へ、ホットメルトからなる接着層を設ける接着層形成工程と、（６）上記硬化したハードコート層、硬化した接着剤層、透明基材、ホログラム層、反射層、印刷層及び接着層からなる構成を転写部とし、該転写部をハーフカット処理を施してパッチとし、該パッチが前記支持材の離型層面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程と、からなることを特徴とするパッチ転写媒体の製造方法。 (1) a transparent substrate and a transfer material preparation step of preparing a transfer material in which a hologram layer, a reflective layer, and a print layer are provided on one surface of the transparent substrate; (2) a support substrate and the support A support material preparing step of preparing a support material in which a release layer is provided on one surface of the substrate; and (3) an uncured material mainly comprising an ionizing radiation curable resin on the release layer surface of the support material. A hard coat layer forming step, and (4) the uncured hard coat layer surface and the transparent base material surface of the transfer material were laminated via an uncured adhesive layer mainly composed of an ionizing radiation curable resin. Later, by irradiating with ionizing radiation, the uncured hard coat layer and the uncured adhesive layer are simultaneously cured to form a cured hard coat layer and a cured adhesive layer to form a laminate, and (5) Adhesion comprising hot melt to the printed layer surface of the laminate An adhesive layer forming step for providing a transfer portion, and (6) a configuration comprising the cured hard coat layer, the cured adhesive layer, a transparent substrate, a hologram layer, a reflective layer, a printed layer, and an adhesive layer, And a half-cut treatment step in which the patch is laminated in a peelable manner on the release layer surface of the support material, and a patch transfer medium manufacturing method comprising: . 請求項１に記載のパッチ転写媒体の製造方法で製造されたパッチ転写媒体であって、上記硬化したハードコート層、硬化した接着剤層、透明基材、ホログラム層、反射層、印刷層及び接着層から構成される転写部をハーフカット処理を施してパッチとし、該パッチが前記支持材の離型層面へ剥離可能に積層されていることを特徴とするパッチ転写媒体。 A patch transfer medium manufactured by the method for manufacturing a patch transfer medium according to claim 1, wherein the cured hard coat layer, the cured adhesive layer, the transparent substrate, the hologram layer, the reflective layer, the printed layer, and the adhesive are bonded. A patch transfer medium, wherein a transfer portion composed of layers is subjected to a half-cut treatment to form a patch, and the patch is laminated on the release layer surface of the support member so as to be peelable. 請求項２に記載のパッチ転写媒体の前記接着層面と繊維質素材からなる被転写体とを重ね合わせて、アイロンで加熱加圧した後に、前記支持基材及び離型層とを剥離し除去することで、前記パッチが前記被転写体へ転写されてなり、最表面が硬化したハードコート層となることで耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラムを有することを特徴とするパッチ転写繊維質素材。 The surface of the adhesive layer of the patch transfer medium according to claim 2 and a transfer material made of a fibrous material are overlapped and heated and pressed with an iron, and then the support substrate and the release layer are peeled off and removed. Thus, the patch transfer fiber characterized by having a hologram having excellent scratch resistance and excellent design properties by forming the hard coat layer with the outermost surface cured by transferring the patch to the transfer object Quality material.
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