JP4996114B2 - Aperture optical element for camera and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示素子またはエレクトロクロミック表示素子を用いるカメラ用絞り光学素子及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a diaphragm optical element for a camera using a liquid crystal display element or an electrochromic display element, and a method for manufacturing the same.

従来、カメラの感光部に当たる光の量を制御して、光の量の調節とピントの調節とを行う絞り機構が知られており、例えば、開口部の大きさを機械的に拡縮するものがある。しかし、開口部の大きさを機械的に拡縮する絞り機構では、駆動源としてモータを必要とするので、装置が大型化することが避けられない上、振動があるという問題がある。また、前記絞り機構では、段階的な調整になるために、撮影時にノイズが入ったり、切替時に明るさが急激に変化して、信頼性に劣るという問題もある。   Conventionally, there has been known an aperture mechanism that controls the amount of light that strikes the photosensitive portion of a camera to adjust the amount of light and adjust the focus.For example, a mechanism that mechanically expands or contracts the size of the opening is known. is there. However, a diaphragm mechanism that mechanically expands / contracts the size of the opening requires a motor as a drive source, and thus there is a problem that the apparatus cannot be increased in size and that there is vibration. In addition, since the aperture mechanism is a stepwise adjustment, there is a problem that noise occurs at the time of shooting or the brightness changes abruptly at the time of switching, resulting in poor reliability.

前記問題を解決するために、円形の開口パターンからなる透明電極層を備えた透過型の液晶パネルまたはエレクトロクロミック・パネルを電気的に制御して開口パターンを可変とする絞り機構が提案されている（特許文献１参照）。   In order to solve the above problems, a diaphragm mechanism has been proposed in which a transmissive liquid crystal panel or electrochromic panel having a transparent electrode layer having a circular opening pattern is electrically controlled to change the opening pattern. (See Patent Document 1).

前記絞り機構は、前記液晶パネルの場合には、該液晶パネルの全面を１／４波長板とするか、該開口パターン部分のみを１／４波長板とするように用途によって切り替えるものである。また、前記エレクトロクロミック・パネルの場合には、該エレクトロクロミック・パネルの全面を透明とするか、該開口パターン部分のみを透明とするように用途によって切り替えるものである。   In the case of the liquid crystal panel, the diaphragm mechanism is switched depending on the application so that the entire surface of the liquid crystal panel is a quarter wavelength plate or only the opening pattern portion is a quarter wavelength plate. In the case of the electrochromic panel, the entire surface of the electrochromic panel is made transparent or only the opening pattern portion is changed depending on the application.

前記絞り機構は、前記液晶パネルまたはエレクトロクロミック・パネルを電気的に制御するものであるので、装置の小型化が可能であり、振動もなく、明るさを連続的に調整することができる。   Since the diaphragm mechanism electrically controls the liquid crystal panel or the electrochromic panel, the apparatus can be downsized, and the brightness can be continuously adjusted without vibration.

しかしながら、前記絞り機構では、パネル全面か、円形の開口パターン部分のみかの２段階の切替しかできず、ピントの調整を十分に行うことができないという不都合がある。
特開平９−１０６５６６号公報（請求項２，６，９） However, the diaphragm mechanism can only be switched in two stages, that is, the entire panel surface or only the circular opening pattern portion, and there is a disadvantage that the focus cannot be adjusted sufficiently.
JP-A-9-106566 (Claims 2, 6, 9)

本発明は、かかる不都合を解消して、カメラの感光部に当たる光の量の調節を連続的に行うことができ、しかもピントの調節を行うことができるカメラ用絞り光学素子及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention provides a diaphragm optical element for a camera that can eliminate such inconvenience, can continuously adjust the amount of light hitting the photosensitive part of the camera, and can adjust the focus, and a method for manufacturing the same. The purpose is to do.

本発明は、一方の表面に、所定のパターンを備える透明電極層と該透明電極層上に形成された液晶用配向膜層とを備え、該液晶用配向膜層が互いに対向配置された１対のガラス基板と、両ガラス基板間に配設され、二色性色素とカイラル剤とを含む液晶層とを備えるカメラ用絞り光学素子において、該透明電極層は、該ガラス基板上に同心円状に配置された複数の部分を備え、該液晶用配向膜層は、該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に設けられていることを特徴とする。 The present invention includes a pair of a transparent electrode layer having a predetermined pattern and a liquid crystal alignment film layer formed on the transparent electrode layer on one surface, the liquid crystal alignment film layers being arranged to face each other. And a liquid crystal layer including a dichroic dye and a chiral agent. The transparent electrode layer is concentrically formed on the glass substrate. The liquid crystal alignment film layer is provided on each of the plurality of portions of the transparent electrode layer.

前記構成を備えるカメラ用絞り光学素子では、前記透明電極層が形成されている部分では、前記液晶層中の液晶が、該透明電極層上に形成された前記液晶用配向膜層により定められる方向に配向されている。そこで、前記カメラ用絞り光学素子では、前記液晶の配向方向によって、電圧を印加しない状態で透過率または反射率が最大となり印加電圧の上昇に伴って透過率または反射率が次第に小さくなるか、電圧を印加しない状態で透過率または反射率が最小となり印加電圧の上昇に伴って透過率または反射率が次第に大きくなる。   In the diaphragm optical element for a camera having the above-described configuration, in the portion where the transparent electrode layer is formed, the liquid crystal in the liquid crystal layer is determined by the liquid crystal alignment film layer formed on the transparent electrode layer. Is oriented. Therefore, in the diaphragm optical element for a camera, depending on the alignment direction of the liquid crystal, the transmittance or reflectance is maximized in the state where no voltage is applied, and the transmittance or reflectance gradually decreases as the applied voltage increases, or the voltage The transmittance or reflectance is minimized when no voltage is applied, and the transmittance or reflectance gradually increases as the applied voltage increases.

このとき、前記透明電極層は、同心円状に配置された複数の部分からなるので、例えば、電圧を印加しない状態で透過率または反射率が最大となる場合には、電圧を印加しない状態で開口部が最大であり、同心円状に配置された複数の部分の外方から内方に向かって、電圧を印加する部分を増加させることにより、開口部を縮小することができる。また、反対に、電圧を印加しない状態で透過率または反射率が最小となる場合には、電圧を印加しない状態で開口部が最小であり、同心円状に配置された複数の部分の内方から外方に向かって、電圧を印加する部分を増加させることにより、開口部を拡大することができる。   At this time, since the transparent electrode layer is composed of a plurality of portions arranged concentrically, for example, when the transmittance or reflectance is maximized without applying a voltage, the transparent electrode layer is opened with no voltage applied. The opening portion can be reduced by increasing the portion to which the voltage is applied from the outside to the inside of the plurality of portions having the largest portion and concentrically arranged. On the other hand, when the transmittance or reflectance is minimized when no voltage is applied, the opening is the smallest when no voltage is applied, and from the inside of the plurality of concentrically arranged portions. The opening can be enlarged by increasing the portion to which the voltage is applied outward.

従って、前記カメラ用絞り光学素子によれば、同心円状に配置された複数の透明電極層のうち、どの部分に電圧を印加するかによって、開口部の大きさを選択することができ、ピントの調節を行うことができる。また、前記カメラ用絞り光学素子によれば、前記いずれの場合でも、電圧が印加されている部分では、電圧を増減して透過率または反射率を変化させることにより、光の量を調節することができる。   Therefore, according to the diaphragm optical element for a camera, the size of the opening can be selected depending on which part of the plurality of transparent electrode layers arranged concentrically to which the voltage is applied. Adjustments can be made. Further, according to the diaphragm optical element for a camera, in any of the above cases, the amount of light is adjusted by changing the transmittance or the reflectance by increasing or decreasing the voltage in the portion where the voltage is applied. Can do.

前記カメラ用絞り光学素子において、前記液晶配向膜は、例えば、垂直配向膜とすることができる。この場合、前記液晶層中の液晶は、前記垂直配向膜により前記ガラス基板に対して垂直方向に配向されるので、電圧を印加しない状態では透過率または反射率が最大となる。   In the camera aperture optical element, the liquid crystal alignment film may be a vertical alignment film, for example. In this case, since the liquid crystal in the liquid crystal layer is aligned in the direction perpendicular to the glass substrate by the vertical alignment film, the transmittance or reflectance is maximized when no voltage is applied.

本発明の第２の態様は、一方の表面に、所定のパターンを備える透明電極層と該透明電極層上に形成されたエレクトロクロミック膜層とを備える第１のガラス基板と、一方の表面に、所定のパターンを備える透明電極層を備え、該透明電極層が第１のガラス基板のエレクトロクロミック膜層に対向配置された第２のガラス基板と、両ガラス基板間に配設された電解質層とを備えるカメラ用絞り光学素子において、該透明電極層は、該ガラス基板上に同心円状に配置された複数の部分を備え、該エレクトロクロミック膜層は、第１のガラス基板の該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に設けられていることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, a first glass substrate including a transparent electrode layer having a predetermined pattern on one surface and an electrochromic film layer formed on the transparent electrode layer, and one surface. A second electrode substrate provided with a transparent electrode layer having a predetermined pattern, the transparent electrode layer being disposed opposite the electrochromic film layer of the first glass substrate, and an electrolyte layer disposed between the two glass substrates. The transparent electrode layer includes a plurality of portions arranged concentrically on the glass substrate , and the electrochromic film layer is the transparent electrode layer of the first glass substrate. It is provided on each of the plurality of portions .

前記構成を備えるカメラ用絞り光学素子は、電圧を印加しない状態では透明であるが、電圧を印加すると前記電解質層から前記エレクトロクロミック膜層に陽イオンが注入されて該エレクトロクロミック膜層が着色し、印加電圧の上昇に伴って着色が次第に大きくなる。   The aperture optical element for a camera having the above configuration is transparent when no voltage is applied, but when a voltage is applied, cations are injected from the electrolyte layer into the electrochromic film layer, and the electrochromic film layer is colored. The coloring gradually increases as the applied voltage increases.

このとき、前記透明電極層は、同心円状に配置された複数の部分からなるので、電圧を印加しない状態で開口部が最大であり、同心円状に配置された複数の部分の外方から内方に向かって、電圧を印加する部分を増加させることにより、着色部分を増大させて開口部を縮小することができる。   At this time, since the transparent electrode layer is composed of a plurality of portions arranged concentrically, the opening is maximum when no voltage is applied, and from the outside to the inside of the plurality of portions arranged concentrically. By increasing the portion to which the voltage is applied, the colored portion can be increased and the opening can be reduced.

従って、前記カメラ用絞り光学素子によれば、同心円状に配置された複数の透明電極層のうち、どの部分に電圧を印加するかによって、開口部の大きさを選択することができ、ピントの調節を行うことができる。また、前記カメラ用絞り光学素子によれば、電圧が印加されている部分では、電圧を増減して透過率または反射率を変化させることにより、光の量を調節することができる。   Therefore, according to the diaphragm optical element for a camera, the size of the opening can be selected depending on which part of the plurality of transparent electrode layers arranged concentrically to which the voltage is applied. Adjustments can be made. Further, according to the camera aperture optical element, the amount of light can be adjusted by changing the transmittance or the reflectance by increasing or decreasing the voltage in the portion where the voltage is applied.

前記カメラ用絞り光学素子において、前記エレクトロクロミック膜層は、例えば、三酸化タングステン膜とすることができる。この場合、前記エレクトロクロミック膜層は、電圧の印加により前記電解質層から陽イオンが注入されると青色に着色する。   In the camera aperture optical element, the electrochromic film layer may be a tungsten trioxide film, for example. In this case, the electrochromic film layer is colored blue when cations are injected from the electrolyte layer by applying a voltage.

本発明のカメラ用絞り光学素子は、１対のガラス基板上の全面に透明電極層を形成する工程と、各ガラス基板上に形成された該透明電極層上の全面に液晶用配向膜層を形成する工程と、各ガラス基板の該透明電極層と該液晶用配向膜層とが形成された面にレーザを照射して、該レーザが照射された部分の該透明電極層と該液晶用配向膜層とを除去することにより、各ガラス基板上に同心円状に配置された複数の部分を備える透明電極層及び該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に該液晶用配向膜層を形成する工程とを備える製造方法により、有利に製造することができる。The diaphragm optical element for a camera of the present invention includes a step of forming a transparent electrode layer on the entire surface of a pair of glass substrates, and an alignment film layer for liquid crystal on the entire surface of the transparent electrode layer formed on each glass substrate. Forming the transparent electrode layer and the alignment layer for liquid crystal on each glass substrate, and irradiating the surface of the transparent electrode layer and the alignment film layer for liquid crystal with a laser; By removing the film layer, a transparent electrode layer having a plurality of portions arranged concentrically on each glass substrate, and the alignment film layer for liquid crystal are formed on each of the plurality of portions of the transparent electrode layer It can manufacture advantageously by a manufacturing method provided with the process to do.

前記製造方法では、まず、それ自体公知の方法により、１対のガラス基板上の全面に透明電極層を形成し、次いで、該透明電極層上の全面に液晶用配向膜層を形成する。前記ガラス基板上の全面に透明電極層を形成する代わりに、全面に透明電極層が形成された市販のガラス基板を用いてもよい。   In the manufacturing method, first, a transparent electrode layer is formed on the entire surface of a pair of glass substrates by a method known per se, and then a liquid crystal alignment film layer is formed on the entire surface of the transparent electrode layer. Instead of forming a transparent electrode layer on the entire surface of the glass substrate, a commercially available glass substrate having a transparent electrode layer formed on the entire surface may be used.

次に、前記１対のガラス基板の前記透明電極層と前記液晶用配向膜層とが形成された面にレーザを照射し、該レーザが照射された部分の該透明電極層と該液晶用配向膜層とを除去する。この結果、前記製造方法によれば、各ガラス基板上に同心円状に配置された複数の部分を備える透明電極層を精度良く形成することができる。   Next, a surface of the pair of glass substrates on which the transparent electrode layer and the alignment film layer for liquid crystal are formed is irradiated with laser, and the transparent electrode layer and the alignment for liquid crystal in the portion irradiated with the laser are irradiated. The membrane layer is removed. As a result, according to the said manufacturing method, a transparent electrode layer provided with the some part arrange | positioned concentrically on each glass substrate can be formed accurately.

このとき、前記製造方法では、レーザの種類、照射条件等を適切に設定することにより、前記ガラス基板を損傷することなく、主としてレーザのアブレーションにより前記透明電極層と前記液晶用配向膜層とを原子レベルで分解して、該ガラス基板上から除去することができる。   At this time, in the manufacturing method, the transparent electrode layer and the alignment film layer for liquid crystal are mainly formed by laser ablation without damaging the glass substrate by appropriately setting the type of laser, irradiation conditions, and the like. It can be decomposed at the atomic level and removed from the glass substrate.

本発明の第２の態様のカメラ用絞り光学素子は、１対のガラス基板上の全面に透明電極層を形成する工程と、第１のガラス基板上に形成された該透明電極層上の全面にエレクトロクロミック膜層を形成する工程と、第１のガラス基板の該透明電極層と該エレクトロクロミック膜層とが形成された面にレーザを照射して、該レーザが照射された部分の該透明電極層とエレクトロクロミック膜層とを除去すると共に、第２のガラス基板の該透明電極層が形成された面にレーザを照射して、該レーザが照射された部分の該透明電極層を除去し、各ガラス基板上に中心の円とそれを取り囲む同心円状に配置された複数の部分を備える透明電極層を形成し、かつ第１のガラス基板の該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に該エレクトロクロミック膜層を形成する工程とを備える製造方法により、有利に製造することができる。
The diaphragm optical element for a camera according to the second aspect of the present invention includes a step of forming a transparent electrode layer on the entire surface of a pair of glass substrates, and an entire surface of the transparent electrode layer formed on the first glass substrate. Forming an electrochromic film layer on the surface, and irradiating a laser on the surface of the first glass substrate on which the transparent electrode layer and the electrochromic film layer are formed, and the transparent portion of the portion irradiated with the laser The electrode layer and the electrochromic film layer are removed, and the surface of the second glass substrate on which the transparent electrode layer is formed is irradiated with a laser to remove the transparent electrode layer in the portion irradiated with the laser. Forming a transparent electrode layer comprising a central circle and a plurality of concentric circles surrounding the center circle on each glass substrate, and on each of the plurality of transparent electrode layers of the first glass substrate The electrochromic film By a production method comprising a step of forming a can be advantageously produced.

前記製造方法では、まず、それ自体公知の方法により、１対のガラス基板上の全面に透明電極層を形成する。また、前記第１の態様のカメラ用絞り光学素子の製造方法の場合と同様に、前記ガラス基板上の全面に透明電極層を形成する代わりに、全面に透明電極層が形成された市販のガラス基板を用いてもよい。   In the manufacturing method, first, a transparent electrode layer is formed on the entire surface of a pair of glass substrates by a method known per se. Further, as in the case of the method of manufacturing the camera aperture optical element of the first aspect, instead of forming a transparent electrode layer on the entire surface of the glass substrate, a commercially available glass having a transparent electrode layer formed on the entire surface. A substrate may be used.

次に、第１のガラス基板上に形成された該透明電極層上の全面にエレクトロクロミック膜層を形成する。このとき、前記エレクトロクロミック膜層は、第２のガラス基板上の前記透明電極層上には形成しない。   Next, an electrochromic film layer is formed on the entire surface of the transparent electrode layer formed on the first glass substrate. At this time, the electrochromic film layer is not formed on the transparent electrode layer on the second glass substrate.

次に、前記第１のガラス基板の前記透明電極層と前記エレクトロクロミック膜層とが形成された面にレーザを照射し、該レーザが照射された部分の該透明電極層と該エレクトロクロミック膜層とを除去する。また、前記第２のガラス基板の前記透明電極層が形成された面にレーザを照射し、該レーザが照射された部分の該透明電極層を除去する。この結果、前記製造方法によれば、各ガラス基板上に同心円状に配置された複数の部分を備える透明電極層を精度良く形成することができる。   Next, the surface of the first glass substrate on which the transparent electrode layer and the electrochromic film layer are formed is irradiated with a laser, and the transparent electrode layer and the electrochromic film layer in a portion irradiated with the laser And remove. Further, the surface of the second glass substrate on which the transparent electrode layer is formed is irradiated with a laser, and the transparent electrode layer in the portion irradiated with the laser is removed. As a result, according to the said manufacturing method, a transparent electrode layer provided with the some part arrange | positioned concentrically on each glass substrate can be formed accurately.

このとき、前記製造方法では、レーザの種類、照射条件等を適切に設定することにより、前記ガラス基板を損傷することなく、主としてレーザのアブレーションにより前記透明電極層と前記エレクトロクロミック膜層とを、または前記透明電極層のみを原子レベルで分解して、該ガラス基板上から除去することができる。   At this time, in the manufacturing method, by appropriately setting the type of laser, irradiation conditions, etc., without damaging the glass substrate, the transparent electrode layer and the electrochromic film layer mainly by laser ablation, Alternatively, only the transparent electrode layer can be decomposed at the atomic level and removed from the glass substrate.

次に、添付の図面を参照しながら本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。図１は本発明のカメラ用絞り光学素子の一実施形態を示す説明的断面図、図２は図１に示すカメラ用絞り光学素子における透明電極層のパターン形状を示す平面図、図３は図１に示すカメラ用絞り光学素子におけるスペクトル特性を示すグラフである。また、図４は本発明のカメラ用絞り光学素子の他の実施形態を示す説明的断面図、図５は図４に示すカメラ用絞り光学素子におけるスペクトル特性を示すグラフである。   Next, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an explanatory sectional view showing an embodiment of a camera diaphragm optical element according to the present invention, FIG. 2 is a plan view showing a pattern shape of a transparent electrode layer in the camera diaphragm optical element shown in FIG. 1, and FIG. 2 is a graph showing spectral characteristics of the camera aperture optical element shown in FIG. FIG. 4 is an explanatory sectional view showing another embodiment of the camera aperture optical element of the present invention, and FIG. 5 is a graph showing the spectral characteristics of the camera aperture optical element shown in FIG.

図１に示すように、本実施形態の第１の態様のカメラ用絞り光学素子１ａは、透明な板ガラスからなるガラス基板２，３と、ガラス基板２，３間に配設された液晶層４とを備え、液晶層４はガラス基板２，３の外縁に形成されたシール剤層５により封止されている。ガラス基板２は、ガラス基板３に対向する面に透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを備えており、ガラス基板３は、ガラス基板２に対向する面に透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄを備えている。透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは、例えば、ＩＴＯにより形成されている。そして、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ上には、それぞれ液晶配向膜層８が形成されている。   As shown in FIG. 1, the camera aperture optical element 1 a according to the first aspect of the present embodiment includes glass substrates 2 and 3 made of transparent plate glass, and a liquid crystal layer 4 disposed between the glass substrates 2 and 3. The liquid crystal layer 4 is sealed with a sealing agent layer 5 formed on the outer edges of the glass substrates 2 and 3. The glass substrate 2 includes transparent electrode layers 6 a, 6 b, 6 c, 6 d on the surface facing the glass substrate 3, and the glass substrate 3 has transparent electrode layers 7 a, 7 b, 7 c, 7d. The transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d, 7a, 7b, 7c, and 7d are made of, for example, ITO. A liquid crystal alignment film layer 8 is formed on each of the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d, 7a, 7b, 7c, and 7d.

ガラス基板２に形成されている透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは、図２（ａ）に示すように、円形の透明電極層６ａを中心として、その周囲に互いに間隔を存して、ドーナツ形状の透明電極層６ｂ，６ｃ，６ｄが形成された同心円状のパターン形状を形成している。透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは、実用的サイズとしての最大径（透明電極層６ｄの外径に相当する）が４〜１０ｍｍの範囲となっており、例えば、開口部の面積の比率を１００％、５０％、２５％、１２．５％の４段階で変化させることができるようにされている。そこで、例えば、透明電極層６ｄの外径が６ｍｍの場合、透明電極層の６ｃの外径は４．２ｍｍ、透明電極層６ｂの外径は３．０ｍｍ、透明電極層６ａの直径は２．１ｍｍとされており、各透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの間隔は６０μｍとされている。各透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは、各透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと同一材料からなる接続部９により相互に接続されており、接続部９を介して外部電源に接続自在とされ、同時にオン／オフできるようにされている。   As shown in FIG. 2 (a), the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d formed on the glass substrate 2 are centered on a circular transparent electrode layer 6a, and are spaced from each other around the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d. A concentric pattern shape in which doughnut-shaped transparent electrode layers 6b, 6c, and 6d are formed is formed. The transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d have a maximum diameter (corresponding to the outer diameter of the transparent electrode layer 6d) as a practical size in the range of 4 to 10 mm. For example, the ratio of the area of the opening Can be changed in four stages of 100%, 50%, 25%, and 12.5%. Therefore, for example, when the outer diameter of the transparent electrode layer 6d is 6 mm, the outer diameter of the transparent electrode layer 6c is 4.2 mm, the outer diameter of the transparent electrode layer 6b is 3.0 mm, and the diameter of the transparent electrode layer 6a is 2. The interval between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d is set to 60 μm. The transparent electrode layers 6a, 6b, 6c and 6d are connected to each other by a connection portion 9 made of the same material as the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c and 6d, and are connected to an external power source via the connection portion 9. It can be turned on and off at the same time.

一方、ガラス基板３に形成されている透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは、図２（ｂ）に示すように、円形の透明電極層７ａを中心として、その周囲に互いに間隔を存して、ドーナツ形状の透明電極層７ｂ，７ｃ，７ｄが形成された同心円状のパターン形状を形成している。透明電極層７ｄ，７ｃ，７ｂの外径は透明電極層６ｄ，６ｃ，６ｂの外径と同一となっており、透明電極層７ａの直径は透明電極層６ａの直径と同一となっている。また、各透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの間隔は、各透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの間隔と同一になっている。各透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは、透明電極層７ｂ，７ｃ，７ｄの一部を削除して形成されている接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄを介してそれぞれ独立に外部電源に接続自在とされ、それぞれ独立にオン／オフできるようにされている。接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄは、各透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄと同一材料により形成されている。   On the other hand, the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c and 7d formed on the glass substrate 3 are spaced from each other around the circular transparent electrode layer 7a as shown in FIG. 2B. Thus, a concentric pattern shape in which donut-shaped transparent electrode layers 7b, 7c, and 7d are formed is formed. The outer diameter of the transparent electrode layers 7d, 7c, 7b is the same as the outer diameter of the transparent electrode layers 6d, 6c, 6b, and the diameter of the transparent electrode layer 7a is the same as the diameter of the transparent electrode layer 6a. The intervals between the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d are the same as the intervals between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d. Each of the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d is independently connected to an external power source via the connection portions 10a, 10b, 10c, and 10d formed by removing a part of the transparent electrode layers 7b, 7c, and 7d. It can be connected freely and can be turned on / off independently. The connecting portions 10a, 10b, 10c, and 10d are made of the same material as the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d.

液晶配向膜層８は、垂直配向膜からなるものでも水平配向膜からなるものでもよいが、低電圧で高い透過率を得ることができる点で垂直配向膜からなることが好ましい。   The liquid crystal alignment film layer 8 may be formed of a vertical alignment film or a horizontal alignment film, but is preferably formed of a vertical alignment film in that high transmittance can be obtained at a low voltage.

また、液晶層４は、二色性色素とカイラル剤とを含む液晶により構成されている。前記二色性色素は、少なくとも３種の色素を混合して用いることが好ましく、通常は３〜７種の色素、例えば５種の色素を混合して用いる。また、前記カイラル剤はｄ／ｐが０．５〜１の範囲となるように添加されていることが好ましい。   The liquid crystal layer 4 is composed of a liquid crystal containing a dichroic dye and a chiral agent. The dichroic dye is preferably used by mixing at least three kinds of dyes, and usually 3 to 7 kinds of dyes, for example, five kinds of dyes are mixed and used. The chiral agent is preferably added so that d / p is in the range of 0.5-1.

本態様のカメラ用絞り光学素子１ａは、例えば、次のようにして製造することができる。   The camera aperture optical element 1a of this aspect can be manufactured as follows, for example.

まず、ＩＴＯからなる透明電極層が全面に形成された１対のガラス基板２，３を用意する。ガラス基板２，３は、厚さ０．７ｍｍの透明な青板ガラスからなり、透明電極層は２０００オングストロームの厚さに形成されている。   First, a pair of glass substrates 2 and 3 having a transparent electrode layer made of ITO formed on the entire surface are prepared. The glass substrates 2 and 3 are made of transparent blue plate glass having a thickness of 0.7 mm, and the transparent electrode layer is formed to a thickness of 2000 angstroms.

次に、ガラス基板２，３の透明電極層上に、それぞれ液晶配向膜層として垂直配向膜を形成する。   Next, a vertical alignment film is formed as a liquid crystal alignment film layer on each of the transparent electrode layers of the glass substrates 2 and 3.

次に、ガラス基板２，３の前記透明電極層と前記液晶配向膜層とが形成された面に、ＹＶＯレーザまたはＹＡＧレーザ、例えば出力１０Ｗ、波長１０６４ｎｍのＹＶＯレーザ（ＹＶＯ社製）を照射し、不要部分の前記透明電極層と前記液晶配向膜層とを除去して、図２（ａ）、図２（ｂ）に示すパターン形状を形成する。前記レーザの照射は、ＬＤパワーを１〜１００％の範囲とし、Ｑスイッチを１０〜１００ｋＨｚの範囲とし、移動速度を１〜１５００ｍｍ／秒の範囲として行うことが好ましく、例えば、ＬＤパワー８５％、Ｑスイッチ４０ｋＨｚ、移動速度３００ｍｍ／秒で行う。   Next, the surface of the glass substrates 2 and 3 on which the transparent electrode layer and the liquid crystal alignment film layer are formed is irradiated with a YVO laser or YAG laser, for example, a YVO laser (manufactured by YVO) having an output of 10 W and a wavelength of 1064 nm. Then, unnecessary portions of the transparent electrode layer and the liquid crystal alignment film layer are removed to form the pattern shapes shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). The laser irradiation is preferably performed by setting the LD power in the range of 1 to 100%, the Q switch in the range of 10 to 100 kHz, and the moving speed in the range of 1 to 1500 mm / sec. The Q switch is 40 kHz and the moving speed is 300 mm / sec.

この結果、ガラス基板２上には、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと、接続部９と、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ、接続部９上に形成された液晶配向膜層８とが得られる。また、ガラス基板３上には、透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄと、接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄと、透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ、接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ上に形成された液晶配向膜層８とが得られる。   As a result, on the glass substrate 2, the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d, the connection portion 9, the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d, and the liquid crystal alignment film layer formed on the connection portion 9 are obtained. 8 is obtained. Moreover, on the glass substrate 3, transparent electrode layer 7a, 7b, 7c, 7d, connection part 10a, 10b, 10c, 10d, transparent electrode layer 7a, 7b, 7c, 7d, connection part 10a, 10b, 10c , 10d, the liquid crystal alignment film layer 8 is obtained.

前記レーザが照射された部分を顕微鏡観察したところ、前記透明電極層と前記液晶配向膜層とが完全に除去されて、ガラス基板２，３の表面が露出していた。ガラス基板２，３の表面は、１２０オングストローム程度の表面粗さがあるが、該表面粗さは透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの表面と同程度であり、ディスプレイ用基板の表面状態としては十分な平滑性を備えている。   When the portion irradiated with the laser was observed with a microscope, the transparent electrode layer and the liquid crystal alignment film layer were completely removed, and the surfaces of the glass substrates 2 and 3 were exposed. The surface of the glass substrates 2 and 3 has a surface roughness of about 120 angstroms, but the surface roughness is comparable to the surfaces of the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d, 7a, 7b, 7c and 7d. The surface state of the display substrate is sufficiently smooth.

前記ＹＶＯレーザは、前記透明電極層を形成するＩＴＯには吸収されるが、ガラス基板２，３には吸収されずにそのまま透過されており、また前記１０６４ｎｍという波長の点でも殆ど熱を発生しないためと考えられる。従って、前記レーザの照射によれば、主にアブレーションにより、前記透明電極層を形成するＩＴＯと前記液晶配向膜層とを原子レベルで分解して除去しており、ガラス基板２，３には殆ど損傷を与えず、ガラス基板２，３の表面に前記平滑性が得られるものと考えられる。   The YVO laser is absorbed by ITO forming the transparent electrode layer, but is transmitted as it is without being absorbed by the glass substrates 2 and 3, and hardly generates heat even at the wavelength of 1064 nm. This is probably because of this. Therefore, according to the laser irradiation, the ITO that forms the transparent electrode layer and the liquid crystal alignment film layer are decomposed and removed at the atomic level mainly by ablation. It is considered that the smoothness can be obtained on the surfaces of the glass substrates 2 and 3 without causing damage.

次に、下基板であるガラス基板３上に、ギャップコントロール剤を２〜５重量％の範囲で、例えば３重量％含むメインシール剤（三井化学株式会社製、商品名：ＥＳ−７５００）を塗布し、シール剤層５を形成する。前記ギャップコントロール剤は、液晶層４の厚さに合わせ、３〜１５μｍの範囲の直径を備えるものを用いることができ、例えば、グラスファイバー製の直径５μｍのものを用いる。前記メインシール剤の塗布は、例えば、スクリーン印刷またはディスペンサーにより行うことができる。   Next, a main sealant (product name: ES-7500, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) containing 3% by weight of a gap control agent in the range of 2 to 5% by weight, for example, is applied onto the glass substrate 3 as the lower substrate. Then, the sealant layer 5 is formed. As the gap control agent, one having a diameter in the range of 3 to 15 μm can be used according to the thickness of the liquid crystal layer 4, and for example, a glass fiber having a diameter of 5 μm is used. The main sealant can be applied by, for example, screen printing or a dispenser.

次に、上基板であるガラス基板２上に、例えば、直径５μｍのプラスチックボールからなるギャップコントロール剤を散布する。前記ギャップコントロール剤の散布は、例えば乾式のギャップ散布機を用いて行うことができる。   Next, a gap control agent made of, for example, a plastic ball having a diameter of 5 μm is sprayed on the glass substrate 2 as the upper substrate. The gap control agent can be sprayed using, for example, a dry gap sprayer.

次に、ガラス基板２，３を、透明電極層６ａ，７ａの中心点が重なるようにして重ね合わせてセルを形成し、該セルにゲストホスト型液晶を真空注入して、液晶層４を形成する。ホスト液晶としてはΔεが負の液晶を用いることができ、該液晶には二色性色素が２〜１５重量％の範囲で添加されている。前記二色性色素は、少なくとも３種の色素を混合して用いることが好ましく、通常は３〜７種の色素、例えば５種の色素を混合して用いる。前記二色性色素は、黒色の色素（例えば、三井化学株式会社製、商品名：Ｓ−４２８）を用いてもよい。また、前記液晶には、カイラル剤（メルク社製、商品名：Ｓ−８１１）が、ｄ／ｐが０．５〜１の範囲となるように、例えばｄ／ｐ＝０．７５となるように添加されている。   Next, the glass substrates 2 and 3 are overlapped so that the center points of the transparent electrode layers 6a and 7a overlap to form a cell, and a guest-host type liquid crystal is vacuum-injected into the cell to form the liquid crystal layer 4 To do. As the host liquid crystal, a liquid crystal having a negative Δε can be used, and a dichroic dye is added in the range of 2 to 15% by weight to the liquid crystal. The dichroic dye is preferably used by mixing at least three kinds of dyes, and usually 3 to 7 kinds of dyes, for example, five kinds of dyes are mixed and used. As the dichroic dye, a black dye (for example, trade name: S-428, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) may be used. In addition, the liquid crystal has a chiral agent (trade name: S-811 manufactured by Merck & Co., Inc.) so that d / p is in the range of 0.5 to 1, for example, d / p = 0.75. It has been added to.

次に、前記ゲストホスト型液晶の注入口にエンドシール剤を塗布して封止することにより、カメラ用絞り光学素子１ａが完成する。   Next, an end sealant is applied to the injection port of the guest-host type liquid crystal and sealed, thereby completing the camera diaphragm optical element 1a.

本態様のカメラ用絞り光学素子１ａは、次のように作動する。   The diaphragm optical element 1a for the camera according to this aspect operates as follows.

まず、電圧が印加されていない状態では、互いに対向配置されている透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとの間の液晶層４で、液晶分子と二色性色素とがガラス基板２，３に対して垂直方向に配向されており、ほぼ透明になっている。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は１００％となっている。   First, in a state in which no voltage is applied, the liquid crystal molecules 4 in the liquid crystal layer 4 between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d arranged to face each other The dichroic dye is oriented in the direction perpendicular to the glass substrates 2 and 3 and is almost transparent. In this state, the ratio of the area of the opening as the camera diaphragm is 100%.

次に、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとの間に電圧を印加すると、液晶分子と二色性色素とがガラス基板２，３に対して斜めになって二色性色素の色が見える着色状態となり、電圧の増加に伴って着色が大になる。このときのスペクトル特性を図３（ａ）に示す。図３（ａ）から、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとの間の液晶層４では、電圧が増加するに従って、着色が大になり、透過率が減少することが明らかである。   Next, when a voltage is applied between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d, the liquid crystal molecules and the dichroic dye are applied to the glass substrates 2, 3. It becomes a colored state in which the color of the dichroic dye can be seen at an angle, and the coloring increases as the voltage increases. The spectral characteristics at this time are shown in FIG. From FIG. 3A, in the liquid crystal layer 4 between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d, as the voltage increases, the color increases and the transmission It is clear that the rate decreases.

一方、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ、接続部９と、透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ、接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄとが形成されていない部分では、液晶配向膜層も形成されていない。従って、前記部分では、液晶分子と二色性色素とはガラス基板２，３に対して水平（平行）に並んでいる状態（アモルファス配向）となっており、初めから二色性色素の色が見える着色状態となっている。このときのスペクトル特性を図３（ｂ）に示す。図３（ｂ）から、前記部分では、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとの間に高電圧を印加した場合（図３（ａ）に示す１０Ｖの場合）と、良く似た状態となっている。   On the other hand, in the portion where the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d, the connection portion 9, and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d, the connection portions 10a, 10b, 10c, 10d are not formed, the liquid crystal alignment film No layer is formed. Therefore, in the said part, the liquid crystal molecule and the dichroic dye are in a state (amorphous orientation) aligned horizontally (parallel) with respect to the glass substrates 2 and 3, and the color of the dichroic dye is from the beginning. The color is visible. The spectral characteristics at this time are shown in FIG. From FIG. 3 (b), in the said part, when a high voltage is applied between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d (shown in FIG. 3 (a)). It is in a state very similar to the case of 10V.

そこで、カメラ用絞り光学素子１ａによれば、透明電極層６ｄと透明電極層７ｄとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層６ｄ，７ｄの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は５０％となっている。   Therefore, according to the diaphragm optical element 1a for a camera, a voltage is applied only between the transparent electrode layer 6d and the transparent electrode layer 7d, and the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c If no voltage is applied between them, only the transparent electrode layers 6d and 7d are colored, and the other portions are transparent. In this state, the ratio of the area of the opening as the camera diaphragm is 50%.

また、透明電極層６ｄ，６ｃと透明電極層７ｄ，７ｃとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層６ａ，６ｂと透明電極層７ａ，７ｂとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層６ｄ，６ｃと透明電極層７ｄ，７ｃとの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は２５％となっている。   In addition, a voltage is applied only between the transparent electrode layers 6d and 6c and the transparent electrode layers 7d and 7c, and no voltage is applied between the transparent electrode layers 6a and 6b and the transparent electrode layers 7a and 7b. Only the portions of the transparent electrode layers 6d and 6c and the transparent electrode layers 7d and 7c are colored, and the other portions are transparent. In this state, the ratio of the area of the opening as the camera diaphragm is 25%.

さらに、透明電極層６ｄ，６ｃ，６ｂと透明電極層７ｄ，７ｃ，７ｂとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層６ａと透明電極層７ａとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層６ｄ，６ｃ，６ｂと透明電極層７ｄ，７ｃ，７ｂとの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は１２．５％となっている。   Furthermore, a voltage is applied only between the transparent electrode layers 6d, 6c, 6b and the transparent electrode layers 7d, 7c, 7b, and no voltage is applied between the transparent electrode layer 6a and the transparent electrode layer 7a. Only the portions of the transparent electrode layers 6d, 6c, 6b and the transparent electrode layers 7d, 7c, 7b are colored, and the other portions are transparent. In this state, the ratio of the area of the opening as the camera diaphragm is 12.5%.

従って、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとに選択的に電圧を印加することにより、透明となる部分の大きさを多段階（上述の場合では４段階）に調節することができ、ピントの調節を行うことができる。   Therefore, by selectively applying a voltage to the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d, the size of the transparent portion can be increased in multiple stages (in the above case). 4 stages), and the focus can be adjusted.

また、着色状態となる部分では、印加電圧を調整することにより、着色の程度を調整することができるので、光の量の調節を連続的に行うことができる。   Further, in the portion that is in a colored state, the degree of coloring can be adjusted by adjusting the applied voltage, so that the amount of light can be continuously adjusted.

尚、本態様では、前記液晶配向膜層にラビング処理を施していないが、前記液晶配向膜層は、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理を施す場合は、ガラス基板２，３間の配向方向が９０〜３６０°の範囲となるように行うことが好ましい。   In this embodiment, the liquid crystal alignment film layer is not rubbed, but the liquid crystal alignment film layer may be rubbed. When the rubbing treatment is performed, it is preferable that the orientation direction between the glass substrates 2 and 3 is in a range of 90 to 360 °.

次に、図４に示すように、本実施形態の第２の態様のカメラ用絞り光学素子１ｂは、透明な板ガラスからなるガラス基板２，３と、ガラス基板２，３間に配設された電解質層１１とを備え、電解質層１１はガラス基板２，３の外縁に形成されたシール剤層５により封止されている。ガラス基板２は、ガラス基板３に対向する面に透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを備えており、ガラス基板３は、ガラス基板２に対向する面に透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄを備えている。透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは、例えば、ＩＴＯにより形成されている。そして、ガラス基板３の透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ上には、エレクトロクロミック膜層１２が形成されている。   Next, as shown in FIG. 4, the camera aperture optical element 1 b according to the second aspect of the present embodiment is disposed between the glass substrates 2 and 3 made of transparent plate glass and the glass substrates 2 and 3. The electrolyte layer 11 is sealed with a sealing agent layer 5 formed on the outer edges of the glass substrates 2 and 3. The glass substrate 2 includes transparent electrode layers 6 a, 6 b, 6 c, 6 d on the surface facing the glass substrate 3, and the glass substrate 3 has transparent electrode layers 7 a, 7 b, 7 c, 7d. The transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d, 7a, 7b, 7c, and 7d are made of, for example, ITO. An electrochromic film layer 12 is formed on the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d of the glass substrate 3.

ガラス基板２に形成されている透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは、カメラ用絞り光学素子１ａと同一の同心円状のパターン形状を形成している。即ち、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは、実用的サイズとしての最大径（透明電極層６ｄの外径に相当する）が４〜１０ｍｍの範囲となっており、例えば、開口部の面積の比率を１００％、５０％、２５％、１２．５％の４段階で変化させることができるようにされている。そこで、例えば、透明電極層６ｄの外径が６ｍｍの場合、透明電極層の６ｃの外径は４．２ｍｍ、透明電極層６ｂの外径は３．０ｍｍ、透明電極層６ａの直径はは２．１ｍｍとされており、各透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの間隔は６０μｍとされている。各透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは、カメラ用絞り光学素子１ａと同一にして、接続部９を介して外部電源に接続自在とされ、同時にオン／オフできるようにされている。   The transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d formed on the glass substrate 2 have the same concentric pattern shape as the camera diaphragm optical element 1a. That is, the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d have a maximum diameter (corresponding to the outer diameter of the transparent electrode layer 6d) as a practical size in the range of 4 to 10 mm. The ratio can be changed in four stages of 100%, 50%, 25%, and 12.5%. Thus, for example, when the transparent electrode layer 6d has an outer diameter of 6 mm, the transparent electrode layer 6c has an outer diameter of 4.2 mm, the transparent electrode layer 6b has an outer diameter of 3.0 mm, and the transparent electrode layer 6a has a diameter of 2. The distance between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d is 60 μm. Each of the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c and 6d is made the same as the diaphragm optical element 1a for the camera, and can be freely connected to an external power source via the connecting portion 9, and can be turned on / off at the same time.

一方、ガラス基板３に形成されている透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは、カメラ用絞り光学素子１ａと同一の同心円状のパターン形状を形成している。即ち、透明電極層７ｄ，７ｃ，７ｂの外径は透明電極層６ｄ，６ｃ，６ｂの外径と同一となっており、透明電極層７ａの直径は透明電極層６ａの直径と同一となっている。また、各透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの間隔は、各透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄの間隔と同一になっている。各透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは、カメラ用絞り光学素子１ａと同一にして、接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄを介してそれぞれ独立に外部電源に接続自在とされ、それぞれ独立にオン／オフできるようにされている。   On the other hand, the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d formed on the glass substrate 3 form the same concentric pattern shape as the camera diaphragm optical element 1a. That is, the outer diameter of the transparent electrode layers 7d, 7c, 7b is the same as the outer diameter of the transparent electrode layers 6d, 6c, 6b, and the diameter of the transparent electrode layer 7a is the same as the diameter of the transparent electrode layer 6a. Yes. The intervals between the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d are the same as the intervals between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d. Each of the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d is made the same as the diaphragm optical element 1a for the camera, and can be independently connected to an external power source via the connection portions 10a, 10b, 10c, and 10d. It can be turned on / off.

エレクトロクロミック膜層１２は、界面膜の透明状態と着色状態とを切り替える型のエレクトロクロミック膜であればどのような材料からなるものであってもよい。このようなエレクトロクロミック膜として、三酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化モリブデン、酸化タングステン−モリブデン複合膜、酸化バナジウム、酸化イリジウム、二酸化マンガン、酸化ニッケル等の金属酸化物や、ビオロゲン化合物、スチリル系化合物等の有機系材料等からなるものを挙げることができ、例えば、三酸化タングステンからなるエレクトロクロミック膜層１２を用いることができる。 The electrochromic film layer 12 may be made of any material as long as it is an electrochromic film that switches between the transparent state and the colored state of the interface film. Examples of such an electrochromic film include tungsten trioxide (WO 3 ), molybdenum oxide, tungsten oxide-molybdenum composite film, metal oxides such as vanadium oxide, iridium oxide, manganese dioxide, nickel oxide, viologen compounds, and styryl compounds. For example, an electrochromic film layer 12 made of tungsten trioxide can be used.

前記エレクトロクロミック膜層１２は、真空蒸着法、ＲＦマグネトロンスパッタ法等のスパッタ法、メッキ法、ＬＢ法、スクリーン印刷、スピンコート、ダイコート等の各種印刷法により形成することができ、例えば、真空蒸着法により形成することができる。   The electrochromic film layer 12 can be formed by various printing methods such as vacuum deposition, sputtering such as RF magnetron sputtering, plating, LB, screen printing, spin coating, and die coating. It can be formed by the method.

前記エレクトロクロミック膜層１２は、緻密な膜構造であることは好ましくなく、アモルファスで多くの隙間を有する構造であることが好ましい。前記エレクトロクロミック膜層１２は、前記隙間を有する構造とするために、積極的に微小な粒子を分散させてもよい。   The electrochromic film layer 12 is not preferably a dense film structure, and is preferably an amorphous structure having many gaps. The electrochromic film layer 12 may positively disperse minute particles so as to have a structure having the gap.

本態様のカメラ用絞り光学素子１ｂは、例えば、次のようにして製造することができる。   The aperture optical element 1b for a camera according to this aspect can be manufactured as follows, for example.

まず、ＩＴＯからなる透明電極層が全面に形成された１対のガラス基板２，３を用意する。ガラス基板２，３は、厚さ０．４ｍｍの透明な青板ガラスからなり、透明電極層は８００オングストロームの厚さに形成されている。   First, a pair of glass substrates 2 and 3 having a transparent electrode layer made of ITO formed on the entire surface are prepared. The glass substrates 2 and 3 are made of transparent blue plate glass having a thickness of 0.4 mm, and the transparent electrode layer is formed to a thickness of 800 angstroms.

次に、ガラス基板３の透明電極層上に、真空蒸着法により三酸化タングステン層を形成し、３００〜５５０℃の範囲の温度で２０〜６０分間、例えば３５０℃で３０分間熱処理を行うことによりエレクトロクロミック膜層を形成する
次に、ガラス基板２の前記透明電極層が形成された面に、ＹＶＯレーザまたはＹＡＧレーザ、例えば出力１０Ｗ、波長１０６４ｎｍのＹＶＯレーザ（ＹＶＯ社製）を照射し、不要部分の前記透明電極層を除去して、図２（ａ）に示すパターン形状を形成する。また、ガラス基板３の前記透明電極層と前記エレクトロクロミック膜層とが形成された面に、ＹＶＯレーザまたはＹＡＧレーザ、例えば出力１０Ｗ、波長１０６４ｎｍのＹＶＯレーザ（ＹＶＯ社製）を照射し、不要部分の前記透明電極層を除去して、図２（ｂ）に示すパターン形状を形成する。 Next, a tungsten trioxide layer is formed on the transparent electrode layer of the glass substrate 3 by vacuum deposition, and heat treatment is performed at a temperature in the range of 300 to 550 ° C. for 20 to 60 minutes, for example, at 350 ° C. for 30 minutes. Next, the surface of the glass substrate 2 on which the transparent electrode layer is formed is irradiated with a YVO laser or a YAG laser, for example, a YVO laser (manufactured by YVO) having an output of 10 W and a wavelength of 1064 nm. A portion of the transparent electrode layer is removed to form a pattern shape shown in FIG. Further, the surface of the glass substrate 3 on which the transparent electrode layer and the electrochromic film layer are formed is irradiated with a YVO laser or a YAG laser, for example, a YVO laser (manufactured by YVO) having an output of 10 W and a wavelength of 1064 nm, and unnecessary portions. The transparent electrode layer is removed to form a pattern shape shown in FIG.

前記レーザの照射は、ＬＤパワーを１〜１００％の範囲とし、Ｑスイッチを１０〜１００ｋＨｚの範囲とし、移動速度を１〜１５００ｍｍ／秒の範囲として行うことが好ましく、例えば、ＬＤパワー７５％、Ｑスイッチ５０ｋＨｚ、移動速度５００ｍｍ／秒で行う。   The laser irradiation is preferably performed with an LD power in the range of 1 to 100%, a Q switch in the range of 10 to 100 kHz, and a moving speed in the range of 1 to 1500 mm / sec. The Q switch is 50 kHz and the moving speed is 500 mm / sec.

この結果、ガラス基板２上には、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと、接続部９とが得られる。また、ガラス基板３上には、透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄと、接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄと、透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ、接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ上に形成されたエレクトロクロミック膜層１２とが得られる。   As a result, the transparent electrode layers 6 a, 6 b, 6 c, 6 d and the connection portion 9 are obtained on the glass substrate 2. Moreover, on the glass substrate 3, transparent electrode layer 7a, 7b, 7c, 7d, connection part 10a, 10b, 10c, 10d, transparent electrode layer 7a, 7b, 7c, 7d, connection part 10a, 10b, 10c , 10d, the electrochromic film layer 12 is obtained.

前記レーザが照射された部分を顕微鏡観察したところ、ガラス基板２では前記透明電極層が完全に除去されて、ガラス基板２の表面が露出しており、ガラス基板３では前記透明電極層と前記エレクトロクロミック膜層とが完全に除去されて、ガラス基板３の表面が露出していた。ガラス基板２，３の表面は、８０オングストローム程度の表面粗さがあるが、該表面粗さは透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの表面と同程度であり、十分な平滑性を備えている。   When the portion irradiated with the laser was observed with a microscope, the transparent electrode layer was completely removed on the glass substrate 2 and the surface of the glass substrate 2 was exposed. In the glass substrate 3, the transparent electrode layer and the electro The chromic film layer was completely removed, and the surface of the glass substrate 3 was exposed. The surface of the glass substrates 2 and 3 has a surface roughness of about 80 angstroms, but the surface roughness is comparable to the surfaces of the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d, 7a, 7b, 7c and 7d. It has sufficient smoothness.

前記ＹＶＯレーザは、前記透明電極層を形成するＩＴＯには吸収されるが、ガラス基板２，３には吸収されずにそのまま透過されており、また前記１０６４ｎｍという波長の点でも殆ど熱を発生しないためと考えられる。従って、前記レーザの照射によれば、主にアブレーションにより、前記透明電極層を形成するＩＴＯと前記エレクトロクロミック膜層とを原子レベルで分解して除去しており、ガラス基板２，３には殆ど損傷を与えず、ガラス基板２，３の表面に前記平滑性が得られるものと考えられる。   The YVO laser is absorbed by ITO forming the transparent electrode layer, but is transmitted as it is without being absorbed by the glass substrates 2 and 3, and hardly generates heat even at the wavelength of 1064 nm. This is probably because of this. Therefore, according to the laser irradiation, the ITO forming the transparent electrode layer and the electrochromic film layer are decomposed and removed at the atomic level mainly by ablation, and the glass substrates 2 and 3 are almost completely removed. It is considered that the smoothness can be obtained on the surfaces of the glass substrates 2 and 3 without causing damage.

次に、上基板であるガラス基板２上に、ギャップコントロール剤を２〜５重量％の範囲で、例えば５重量％含むメインシール剤（三井化学株式会社製、商品名：ＥＳ−７５００）を塗布し、シール剤層５を形成する。前記ギャップコントロール剤は、電解質層１１の厚さに合わせ、５０〜２００μｍの範囲の直径を備えるものを用いることができ、例えば、直径７５μｍのプラスチックボールを用いる。前記メインシール剤の塗布は、例えば、スクリーン印刷またはディスペンサーにより行うことができる。   Next, a main sealant (product name: ES-7500, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) containing a gap control agent in the range of 2 to 5% by weight, for example, 5% by weight, is applied on the glass substrate 2 as the upper substrate. Then, the sealant layer 5 is formed. As the gap control agent, one having a diameter in the range of 50 to 200 μm can be used according to the thickness of the electrolyte layer 11. For example, a plastic ball having a diameter of 75 μm is used. The main sealant can be applied by, for example, screen printing or a dispenser.

次に、ガラス基板２，３を、透明電極層６ａ，７ａの中心点が重なるようにして重ね合わせてセルを形成し、該セルに電解液を真空注入して、電解質層１１を形成する。前記電解液としては、ＮａＯＨ溶液、各種液体塩、アセトニトリル等の溶媒を挙げることができ、例えばＮａＯＨ溶液を用いることができる。   Next, the glass substrates 2 and 3 are overlapped so that the central points of the transparent electrode layers 6a and 7a overlap to form a cell, and an electrolyte is vacuum injected into the cell to form the electrolyte layer 11. Examples of the electrolytic solution include NaOH solutions, various liquid salts, and solvents such as acetonitrile. For example, NaOH solutions can be used.

次に、前記電解液の注入口にエンドシール剤を塗布して封止することにより、カメラ用絞り光学素子１ｂが完成する。   Next, an end sealing agent is applied to the electrolyte solution inlet and sealed to complete the diaphragm optical element 1b for the camera.

本態様のカメラ用絞り光学素子１ｂは、次のように作動する。   The camera aperture optical element 1b of this aspect operates as follows.

まず、電圧が印加されていない状態では、互いに対向配置されている透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとが存在する部分は、ほぼ透明になっている。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は１００％となっている。   First, in a state where no voltage is applied, the portions where the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d that are arranged to face each other are almost transparent. Yes. In this state, the ratio of the area of the opening as the camera diaphragm is 100%.

次に、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとの間に電圧を印加すると、電解質層１１からエレクトクロミック膜層１２に陽イオンが注入され、エレクトクロミック膜層１２が着色状態となり、電圧の増加に伴って着色が大になる。このときのスペクトル特性を図４に示す。図４から、エレクトクロミック膜層１２では、電圧が増加するに従って、着色が大になり、透過率が減少することが明らかである。   Next, when a voltage is applied between the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d, cations are injected from the electrolyte layer 11 into the electrochromic film layer 12, and the elect The chromic film layer 12 becomes colored, and coloring increases as the voltage increases. The spectral characteristics at this time are shown in FIG. From FIG. 4, it is clear that in the electrochromic film layer 12, as the voltage increases, the coloring increases and the transmittance decreases.

そこで、カメラ用絞り光学素子１ｂによれば、透明電極層６ｄと透明電極層７ｄとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層６ｄ，７ｄの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は５０％となっている。   Therefore, according to the diaphragm optical element 1b for a camera, a voltage is applied only between the transparent electrode layer 6d and the transparent electrode layer 7d, and the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c If no voltage is applied between them, only the transparent electrode layers 6d and 7d are colored, and the other portions are transparent. In this state, the ratio of the area of the opening as the camera diaphragm is 50%.

また、透明電極層６ｄ，６ｃと透明電極層７ｄ，７ｃとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層６ａ，６ｂと透明電極層７ａ，７ｂとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層６ｄ，６ｃと透明電極層７ｄ，７ｃとの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は２５％となっている。   In addition, a voltage is applied only between the transparent electrode layers 6d and 6c and the transparent electrode layers 7d and 7c, and no voltage is applied between the transparent electrode layers 6a and 6b and the transparent electrode layers 7a and 7b. Only the portions of the transparent electrode layers 6d and 6c and the transparent electrode layers 7d and 7c are colored, and the other portions are transparent. In this state, the ratio of the area of the opening as the camera diaphragm is 25%.

さらに、透明電極層６ｄ，６ｃ，６ｂと透明電極層７ｄ，７ｃ，７ｂとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層６ａと透明電極層７ａとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層６ｄ，６ｃ，６ｂと透明電極層７ｄ，７ｃ，７ｂとの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は１２．５％となっている。   Furthermore, a voltage is applied only between the transparent electrode layers 6d, 6c, 6b and the transparent electrode layers 7d, 7c, 7b, and no voltage is applied between the transparent electrode layer 6a and the transparent electrode layer 7a. Only the portions of the transparent electrode layers 6d, 6c, 6b and the transparent electrode layers 7d, 7c, 7b are colored, and the other portions are transparent. In this state, the ratio of the area of the opening as the camera diaphragm is 12.5%.

従って、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとに選択的に電圧を印加することにより、透明となる部分の大きさを多段階（上述の場合では４段階）に調節することができ、ピントの調節を行うことができる。   Therefore, by selectively applying a voltage to the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d and the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d, the size of the transparent portion can be increased in multiple stages (in the above case). 4 stages), and the focus can be adjusted.

このとき、カメラ用絞り光学素子１ａでは、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ、接続部９と、透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ、接続部１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄとが形成されていない部分では、エレクトクロミック膜層も形成されていない。従って、電圧が印加された透明電極以外の透明電極の部分での着色、いわゆるクロストークを確実に防止することができる。   At this time, in the diaphragm optical element 1a for the camera, the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, 6d, the connection portion 9, the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, 7d, and the connection portions 10a, 10b, 10c, 10d are formed. The electrochromic film layer is not formed in the part that is not formed. Therefore, coloring at a portion of the transparent electrode other than the transparent electrode to which a voltage is applied, that is, so-called crosstalk can be reliably prevented.

また、着色状態となる部分では、印加電圧を調整することにより、着色の程度を調整することができるので、光の量の調節を連続的に行うことができる。   Further, in the portion that is in a colored state, the degree of coloring can be adjusted by adjusting the applied voltage, so that the amount of light can be continuously adjusted.

尚、本態様では、エレクトクロミック膜層が形成されていないガラス基板２側の透明電極６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄは何も処理が施されていないが、透明電極６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ上に電子供与膜を形成するようにしてもよい。   In this embodiment, the transparent electrodes 6a, 6b, 6c, 6d on the side of the glass substrate 2 on which no electrochromic film layer is formed are not subjected to any treatment, but on the transparent electrodes 6a, 6b, 6c, 6d. Alternatively, an electron donating film may be formed.

本実施形態のカメラ用絞り光学素子１ａ，１ｂによれば、透明電極層６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄのいずれかと、これに対応する透明電極層７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄのいずれかとに選択的に電圧を印加すると共に、印加する電圧を調節することにより、各透明電極６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄが存在する部分の光透過率を自由に制御することができる。従って、様々な光透過状態を実現することができ、カメラにおける様々な撮影シーン、撮影環境等に応じて撮影性能を自由に選択することができる。   According to the camera aperture optical elements 1a and 1b of the present embodiment, the transparent electrode layers 6a, 6b, 6c, and 6d are selectively selected from any one of the transparent electrode layers 7a, 7b, 7c, and 7d corresponding thereto. By applying a voltage to and adjusting the applied voltage, the light transmittance of the portion where each of the transparent electrodes 6a, 6b, 6c, 6d, 7a, 7b, 7c, 7d exists can be freely controlled. . Therefore, various light transmission states can be realized, and the photographing performance can be freely selected according to various photographing scenes, photographing environments and the like in the camera.

例えば、外光が強い状況下で背景を含めた全体がきれいに映るように撮影したい場合には、透明電極６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと、透明電極７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄとの全てに電圧を印加してカメラの感光部に当たる光の量を少なくしてやればよい。また、外光が強い状況下で近くの被写体に焦点を合わせて強調したい場合には、中央の透明電極６ａと、透明電極７ａとを除く他の全ての透明電極６ｂ，６ｃ，６ｄと、透明電極７ｂ，７ｃ，７ｄとに電圧を印加してピント調整を行うことができる。   For example, when it is desired to take a picture so that the whole image including the background is clearly displayed under a strong external light condition, voltage is applied to all of the transparent electrodes 6a, 6b, 6c, 6d and the transparent electrodes 7a, 7b, 7c, 7d. Is applied to reduce the amount of light hitting the photosensitive part of the camera. Further, when it is desired to focus and emphasize a nearby subject under strong external light, all other transparent electrodes 6b, 6c, 6d except the transparent electrode 6a at the center and the transparent electrode 7a are transparent. Focus adjustment can be performed by applying a voltage to the electrodes 7b, 7c, and 7d.

本実施形態のカメラ用絞り光学素子１ａ，１ｂは、例えば、デジタルスチルカメラ全般、ビデオカメラ、防犯カメラ、車載カメラ等の動画撮影用カメラ全般、カメラ付き携帯電話、ＰＤＡ、パソコン等に適用することができる。   The camera aperture optical elements 1a and 1b of the present embodiment are applied to, for example, digital still cameras in general, video cameras, security cameras, video cameras such as in-vehicle cameras, mobile phones with cameras, PDAs, personal computers, etc. Can do.

本発明のカメラ用絞り光学素子の一実施形態を示す説明的断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Explanatory sectional drawing which shows one Embodiment of the aperture_diaphragm | restriction optical element for cameras of this invention. 図１に示すカメラ用絞り光学素子における透明電極層のパターン形状を示す平面図。The top view which shows the pattern shape of the transparent electrode layer in the aperture_diaphragm | restriction optical element for cameras shown in FIG. 図１に示すカメラ用絞り光学素子におけるスペクトル特性を示すグラフ。The graph which shows the spectral characteristic in the aperture_diaphragm | restriction optical element for cameras shown in FIG. 本発明のカメラ用絞り光学素子の他の実施形態を示す説明的断面図。Explanatory sectional drawing which shows other embodiment of the aperture stop optical element for cameras of this invention. 図４に示すカメラ用絞り光学素子におけるスペクトル特性を示すグラフ。The graph which shows the spectral characteristic in the aperture_diaphragm | restriction optical element for cameras shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１ａ，１ｂ…カメラ用絞り光学素子、 ２，３…ガラス基板、 ４…液晶層、 ６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ…透明電極層、 ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ…透明電極層、 ８…液晶配向膜層、 １１…電解質層、 １２…エレクトロクロミック膜層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b ... Diaphragm optical element for cameras, 2,3 ... Glass substrate, 4 ... Liquid crystal layer, 6a, 6b, 6c, 6d ... Transparent electrode layer, 7a, 7b, 7c, 7d ... Transparent electrode layer, 8 ... Liquid crystal orientation Membrane layer, 11 ... electrolyte layer, 12 ... electrochromic membrane layer.

Claims (3)

一方の表面に、所定のパターンを備える透明電極層及び該透明電極層上に形成された液晶用配向膜層を備え、該液晶用配向膜層が互いに対向配置された１対のガラス基板と、
両ガラス基板間に配設され、二色性色素及びカイラル剤を含む液晶層とを備えるカメラ用絞り光学素子において、
該透明電極層は、該ガラス基板上に同心円状に配置された複数の部分を備え、
該液晶用配向膜層は、該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に設けられていることを特徴とするカメラ用絞り光学素子。On one surface, a transparent electrode layer having a predetermined pattern and a liquid crystal alignment film layer formed on the transparent electrode layer, a pair of glass substrates in which the liquid crystal alignment film layers are arranged to face each other,
In a diaphragm optical element for a camera provided between a glass substrate and a liquid crystal layer containing a dichroic dye and a chiral agent,
The transparent electrode layer comprises a plurality of portions arranged concentrically on the glass substrate,
The diaphragm optical element for a camera, wherein the liquid crystal alignment film layer is provided on each of the plurality of portions of the transparent electrode layer. 前記液晶用配向膜層は、垂直配向膜からなることを特徴とする請求項１記載のカメラ用絞り光学素子。  2. The aperture optical element for a camera according to claim 1, wherein the alignment film layer for liquid crystal is composed of a vertical alignment film. １対のガラス基板上の全面に透明電極層を形成する工程と、
各ガラス基板上に形成された該透明電極層上の全面に液晶用配向膜層を形成する工程と、
各ガラス基板の該透明電極層と該液晶用配向膜層とが形成された面にレーザを照射して、該レーザが照射された部分の該透明電極層と該液晶用配向膜層とを除去することにより、各ガラス基板上に同心円状に配置された複数の部分を備える透明電極層を形成し、該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に該液晶用配向膜層を形成する工程とを備えることを特徴とするカメラ用絞り光学素子の製造方法。Forming a transparent electrode layer on the entire surface of a pair of glass substrates;
Forming a liquid crystal alignment film layer on the entire surface of the transparent electrode layer formed on each glass substrate;
The surface of each glass substrate on which the transparent electrode layer and the alignment film layer for liquid crystal are formed is irradiated with laser, and the transparent electrode layer and the alignment film layer for liquid crystal are removed from the portion irradiated with the laser. Forming a transparent electrode layer having a plurality of portions arranged concentrically on each glass substrate, and forming the alignment film layer for liquid crystal on each of the plurality of portions of the transparent electrode layer A method of manufacturing a diaphragm optical element for a camera.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8514476B2 (en) 2008-06-25 2013-08-20 View, Inc. Multi-pane dynamic window and method for making same
CN101930144A (en) * 2009-06-23 2010-12-29 元太科技工业股份有限公司 Electrophoresis display panel
US20130215489A1 (en) 2011-08-19 2013-08-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Optical element having an electrochromic apodized aperture and an aperture body forming an electrochromic apodized aperture
JP5825597B2 (en) * 2012-02-20 2015-12-02 セイコーエプソン株式会社 Electrochromic materials and optical elements
US11635666B2 (en) 2012-03-13 2023-04-25 View, Inc Methods of controlling multi-zone tintable windows
US9341912B2 (en) 2012-03-13 2016-05-17 View, Inc. Multi-zone EC windows
JPWO2016063849A1 (en) 2014-10-21 2017-08-10 旭硝子株式会社 Optical element and imaging device
CN112394576B (en) * 2019-08-15 2023-01-06 华为技术有限公司 Camera module and electronic equipment
CN110501828A (en) * 2019-09-04 2019-11-26 Oppo广东移动通信有限公司 Aperture, imaging modules and electronic device

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59181420U (en) * 1983-05-21 1984-12-04 キヤノン株式会社 Camera physical property aperture device
JPS62198835A (en) * 1986-02-26 1987-09-02 Olympus Optical Co Ltd Converging device
JPS62209412A (en) * 1986-03-10 1987-09-14 Jiesu:Kk Variable focal length liquid crystal lens for correcting astigmatism
JP2900418B2 (en) * 1989-08-30 1999-06-02 ミノルタ株式会社 Display device in camera viewfinder
JPH0391729A (en) * 1989-09-04 1991-04-17 Minolta Camera Co Ltd Display device in single-lens reflex camera finder
JPH0391730A (en) * 1989-09-04 1991-04-17 Minolta Camera Co Ltd Display device in camera finder
JPH05249503A (en) * 1992-03-06 1993-09-28 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd Diaphragm for camera lens
JP2706876B2 (en) * 1992-06-15 1998-01-28 株式会社三協精機製作所 Aperture for camera lens
JP3194312B2 (en) * 1993-03-19 2001-07-30 ソニー株式会社 Aperture device
JPH0829831A (en) * 1994-07-15 1996-02-02 Sony Corp Diaphragm unit
JPH0843863A (en) * 1994-07-28 1996-02-16 Sony Corp Diaphragm device
JPH0862642A (en) * 1994-08-23 1996-03-08 Sony Corp Diaphragm unit
JP3476989B2 (en) * 1995-08-04 2003-12-10 パイオニア株式会社 Optical pickup
JP2000314887A (en) * 1999-04-28 2000-11-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal device and its production
JP4074105B2 (en) * 2002-03-04 2008-04-09 富士フイルム株式会社 Electrochromic device
JP4382324B2 (en) * 2002-03-15 2009-12-09 富士フイルム株式会社 Electrochromic device
JP2003295227A (en) * 2002-04-03 2003-10-15 Fuji Photo Film Co Ltd Electrochromic diaphragm device and film unit with lens using the same
JP2003315837A (en) * 2002-04-19 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd Electrochromic diaphragm device and film unit with lens using the same
JP2003315868A (en) * 2002-04-19 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd Electrochromic diaphragm unit and film unit with lens using the same
JP2003315838A (en) * 2002-04-19 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd Electrochromic diaphragm device and film unit with lens using the same
JP2003315836A (en) * 2002-04-19 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd Electrochromic diaphragm device and film unit with lens using the same
JP2003315869A (en) * 2002-04-19 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd Electrochromic diaphragm unit and film unit with lens using the same
JP2004157247A (en) * 2002-11-05 2004-06-03 Asahi Glass Co Ltd Liquid crystal optical element, method for manufacturing the same, and optical device

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