JP4992885B2 - プラズマ発生装置 - Google Patents
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Description
前記プラズマ室に隣接して設けられていて真空に排気されるアンテナ室と、
前記アンテナ室内に設けられていて高周波を放射するアンテナと、
絶縁物から成り、前記プラズマ室と前記アンテナ室との間を前記ガスを阻止するように仕切ると共に、前記アンテナから放射された高周波を前記プラズマ室内へ通す仕切り板と、
前記プラズマ室の外部に設けられていて、前記プラズマ室内に、前記電子サイクロトロン共鳴を起こす磁界を、前記出口電極からのプラズマの放出方向と交差する方向に発生させる磁石装置とを備えており、
かつ前記出口電極は、
複数の孔を有する第1出口電極と、
前記第1出口電極よりも前記プラズマの放出方向側に設けられていて、前記第1出口電極の複数の孔に対応する位置に複数の孔を有する第2出口電極と、
前記第1出口電極と第2出口電極との間に設けられていて、両電極の隣り合う孔間を仕切る仕切り壁とを備えている、ことを特徴としている。
更に、出口電極は、上記構成をしているので、上記磁石装置が発生させる磁界を利用して、上記プラズマ中のエネルギーの高い電子およびイオンを阻止して、低エネルギーの電子を選択して通過させることができる。その結果、当該低エネルギーの電子を用いてイオンビーム照射に伴う基板の帯電を抑制することができるので、基板の負のチャージアップ電圧をより一層小さく抑えることができる。また、出口電極を通過したイオンが、基板を処理するためのイオンビームのビームラインに流入して、当該イオンビームの測定等に悪影響が生じることを抑制することができる。
20 プラズマ室
24 プラズマ
28 ガス
40 アンテナ室
42 アンテナ
48 高周波
54 仕切り板
60 磁石装置
62、64 磁石
70 ヨーク
80 出口電極
82 第1出口電極
84 第2出口電極
86 仕切り壁
Claims (4)
- 基板にイオンビームを照射して処理を施すイオンビーム照射装置においてイオンビーム照射の際の基板表面の帯電を抑制することに用いられる装置であって、真空に排気されると共にガスおよび高周波が導入されるプラズマ室と、当該プラズマ室の一方側に設けられていて1以上の孔を有する出口電極とを有していて、前記プラズマ室内で電子サイクロトロン共鳴を利用して前記ガスを電離させてプラズマを生成して、当該プラズマを前記出口電極を通して外部に放出するプラズマ発生装置において、
前記プラズマ室に隣接して設けられていて真空に排気されるアンテナ室と、
前記アンテナ室内に設けられていて高周波を放射するアンテナと、
絶縁物から成り、前記プラズマ室と前記アンテナ室との間を前記ガスを阻止するように仕切ると共に、前記アンテナから放射された高周波を前記プラズマ室内へ通す仕切り板と、
前記プラズマ室の外部に設けられていて、前記プラズマ室内に、前記電子サイクロトロン共鳴を起こす磁界を、前記出口電極からのプラズマの放出方向と交差する方向に発生させる磁石装置とを備えており、
かつ前記出口電極は、
複数の孔を有する第1出口電極と、
前記第1出口電極よりも前記プラズマの放出方向側に設けられていて、前記第1出口電極の複数の孔に対応する位置に複数の孔を有する第2出口電極と、
前記第1出口電極と第2出口電極との間に設けられていて、両電極の隣り合う孔間を仕切る仕切り壁とを備えている、ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 前記アンテナは、前記仕切り板に沿って伸びた形状をしており、
前記磁石装置は、前記アンテナが伸びた方向に沿って伸びた構造をしており、
前記出口電極は、前記アンテナが伸びた方向に沿って配列された複数の孔を有している請求項1記載のプラズマ発生装置。 - 前記アンテナを前記仕切り板に当接させている請求項1または2記載のプラズマ発生装置。
- 前記磁石装置は、
前記プラズマ室を挟んで相対向するように配置された第1および第2の磁石と、
前記第1および第2の磁石の背面間を接続する接続部、ならびに、前記第1および第2の磁石よりも前記プラズマの放出方向側において前記出口電極の横付近で内側に張り出して相対向する張り出し部を有していて、前記第1および第2の磁石の外側を、前記張り出し部間を除いて囲んでいるヨークとを備えている請求項1、2または3記載のプラズマ発生装置。
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