JP4982674B2 - X線発生器 - Google Patents
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Description
12 X線ターゲット
14 支持部材
16 油浴
18 真空管
20 カーボンナノチューブ
21 フィラメント
22 ベリリウム窓
24、25 引き出し電極
26 電子
30 X線ガイドチューブ
36 試料ステージ
38 試料
40 ダイヤモンド
42、44 緩衝層
50 水冷パイプ
Claims (3)
- 電子を発生する電子発生手段及び支持部材に支持されたX線ターゲットが真空管内に配置され、前記電子発生手段から前記X線ターゲットへ電子を照射することにより生じるX線を所定位置へ導くX線ガイド手段が真空管外に配置されているX線発生器において、
前記電子発生手段は、カーボンナノチューブを用いてなるコールドエミッタと、該コールドエミッタから電子を発生させる電極とを備え、
前記支持部材は突起部を有し、前記X線ターゲットは、ダイヤモンドを介して前記突起部に取付けられてあり、
前記X線ガイド手段は、管状に形成され、一端に入射したX線の内、内面に対する入射角度が全反射の臨界角よりも小さいX線を、内面で全反射することによって集光し、他端から前記所定位置へ照射する構成となっており、
前記X線ガイド手段及び前記電子発生手段は、前記X線ターゲットと向き合うように配置されており、
前記真空管は、内側へ凹んだ凹部を備え、
該凹部に前記X線ガイド手段の一端が挿入されていることを特徴とするX線発生器。 - 前記突起部及びダイヤモンドを介して該突起部に取付けられた前記X線ターゲットを合わせた表面形状は球面状であることを特徴とする請求項1記載のX線発生器。
- 電子を発生する電子発生手段及び支持部材に支持されたX線ターゲットが真空管内に配置され、前記電子発生手段から前記X線ターゲットへ電子を照射することにより生じるX線を所定位置へ導くX線ガイド手段が真空管外に配置されているX線発生器において、
前記支持部材は突起部を有し、前記X線ターゲットは、ダイヤモンドを介して前記突起部に取付けられてあり、
前記X線ガイド手段は、管状に形成され、一端に入射したX線の内、内面に対する入射角度が全反射の臨界角よりも小さいX線を、内面で全反射することによって集光し、他端から前記所定位置へ照射する構成となっており、
前記X線ガイド手段及び前記電子発生手段は、前記X線ターゲットと向き合うように配置され、
前記電子発生手段は、前記X線ガイド手段のX線ターゲット側の端部周辺に配置されたカーボンナノチューブを用いてなるコールドエミッタと、該コールドエミッタから電子を発生させる電極とを備えていることを特徴とするX線発生器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004311379A JP4982674B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | X線発生器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004311379A JP4982674B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | X線発生器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006125881A JP2006125881A (ja) | 2006-05-18 |
JP4982674B2 true JP4982674B2 (ja) | 2012-07-25 |
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ID=36720781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004311379A Expired - Fee Related JP4982674B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | X線発生器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4982674B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5032827B2 (ja) * | 2006-04-11 | 2012-09-26 | 高砂熱学工業株式会社 | 除電装置 |
JP2010526359A (ja) * | 2007-05-04 | 2010-07-29 | ボエグリ − グラビュル ソシエテ アノニム | 外被で覆われた客体表面の認証マークを識別する方法と装置 |
GB2453570A (en) * | 2007-10-11 | 2009-04-15 | Kratos Analytical Ltd | Electrode for x-ray apparatus |
JP5670111B2 (ja) * | 2009-09-04 | 2015-02-18 | 東京エレクトロン株式会社 | X線発生用ターゲット、x線発生装置、及びx線発生用ターゲットの製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5811079B2 (ja) * | 1976-10-05 | 1983-03-01 | 株式会社東芝 | X線源装置 |
JP3016439B2 (ja) * | 1991-02-18 | 2000-03-06 | 理学電機株式会社 | コリメータを備えたx線発生装置 |
JPH0513193A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Hitachi Ltd | X線束形成装置 |
JPH11339705A (ja) * | 1998-05-26 | 1999-12-10 | Rigaku Denki Kk | X線発生装置 |
US6289079B1 (en) * | 1999-03-23 | 2001-09-11 | Medtronic Ave, Inc. | X-ray device and deposition process for manufacture |
JP3497147B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2004-02-16 | 株式会社エー・イー・ティー・ジャパン | 超小形マイクロ波電子源 |
JP2004089445A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Konica Minolta Holdings Inc | X線発生装置およびx線画像撮像システム |
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2004
- 2004-10-26 JP JP2004311379A patent/JP4982674B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006125881A (ja) | 2006-05-18 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070822 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091216 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A711 | Notification of change in applicant |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
A521 | Written amendment |
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