JP4974545B2 - 太陽電池ストリングの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は太陽電池ストリングの製造方法に関し、特に、太陽電池の薄型化工程におけるインターコネクタの変形および破断の発生を低減することができる太陽電池ストリングの製造方法に関する。
太陽電池の中で発電効率が高く宇宙用の太陽電池に適している太陽電池として、半導体基板上に化合物半導体層を積層してなる化合物半導体太陽電池がある。この化合物半導体太陽電池を宇宙用の太陽電池として用いる場合には、その質量を低減することが重要であることから、発電に寄与しない半導体基板の厚みを薄くする、または半導体基板を除去することによって、化合物半導体太陽電池を薄型化して、軽量化が図られている。
図13に従来の化合物半導体太陽電池の模式的な断面図を示す。ここで、従来の化合物半導体太陽電池100は、半導体基板110上に複数の化合物半導体層が積層された積層体111を有しており、この積層体111に形成された第1電極101と第2電極102にそれぞれインターコネクタ103、インターコネクタ104が接続されている。そして、積層体111上には透明接着剤113が塗布され、保護フィルム112が貼り合わされて積層体111を保護している。ここで、インターコネクタ103およびインターコネクタ104はそれぞれストレスリリース機能を持たせるために複雑な形状となっている。
特開平6−196744号公報
しかしながら、図13に示す構成の従来の化合物半導体太陽電池においては、複雑な形状のインターコネクタ103およびインターコネクタ104をそれぞれ接続した状態で半導体基板110の薄型化または除去を行なわなくてはならないために、インターコネクタ103およびインターコネクタ104に力が加わり、インターコネクタ103およびインターコネクタ104が変形したり、破断したりするという問題があった。
上記の事情に鑑みて、本発明の目的は、太陽電池の薄型化工程におけるインターコネクタの変形および破断の発生を低減することができる太陽電池ストリングの製造方法を提供することにある。
本発明は、光電変換層を有する積層体と、この積層体に形成された第1電極と、この積層体に形成された第2電極と、第1電極に接続された第1インターコネクタと、第2電極に接続された第2インターコネクタとを含む化合物半導体太陽電池が、複数接続された太陽電池ストリングを製造する方法であって、光電変換層を有する積層体を形成する工程と、積層体に第1電極を形成する工程と、積層体に第2電極を形成する工程と、第1電極に第1インターコネクタを接続する工程と、第2電極に第2インターコネクタを接続する工程と、第1インターコネクタおよび第2インターコネクタが接続された化合物半導体太陽電池を薄型化する工程と、薄型化する工程の後に、第1の化合物半導体太陽電池の第1電極に接続された第1インターコネクタと、第2の化合物半導体太陽電池の第2電極に接続された第2インターコネクタとを導電性の材質からなる中間部材により接続する工程と、を含む、を含む太陽電池ストリングの製造方法である。
ここで、本発明の太陽電池ストリングの製造方法においては、中間部材がストレスリリース機能を有し得る。なお、ストレスリリース機能とは、太陽電池ストリングにおいてインターコネクタにより接続されている互いに隣接する太陽電池間の距離が変化した場合において、太陽電池とインターコネクタとの接続部に加わる力を低減する機能のことをいう。
また、本発明の太陽電池ストリングの製造方法においては、第1インターコネクタと第2インターコネクタとはそれぞれ互いに向き合わない位置にずらして設置されていてもよい。
また、本発明の太陽電池ストリングの製造方法においては、第1の化合物半導体太陽電池において第1電極と第1インターコネクタとの接続部が複数存在してもよく、第2の化合物半導体太陽電池において第2電極と第2インターコネクタとの接続部が複数存在していてもよい。また、本発明の太陽電池ストリングの製造方法は、第2インターコネクタを接続する工程と中間部材により接続する工程との間に、第1インターコネクタおよび第2インターコネクタのそれぞれの一部が透明接着剤から露出した状態になるように積層体上に保護フィルムを透明接着剤にて接着する工程を含んでいてもよい。
本発明によれば、太陽電池の薄型化工程におけるインターコネクタの変形および破断の発生を低減することができる太陽電池ストリングの製造方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。
図1に、本発明の太陽電池ストリングを構成する太陽電池の一例の模式的な断面図を示す。ここで、本発明の太陽電池ストリングを構成する太陽電池においては、金属膜20上に、バッファ層としての厚さ0.02μmのn型InGaP層21、厚さ0.02μmのn型GaAs層22、厚さ0.02μmのp型AlGaAs層23、裏面電界層としての厚さ0.1μmのp型InGaP層24、ベース層としての厚さ3μmのp型GaAs層25、エミッタ層としての厚さ0.1μmのn型GaAs層26、窓層としての厚さ0.03μmのn型AlInP層27、厚さ0.02μmのn型InGaP層28、厚さ0.02μmのp型AlGaAs層29、裏面電界層としての厚さ0.03μmのp型AlInP層30、ベース層としての厚さ0.5μmのp型InGaP層31、エミッタ層としての厚さ0.05μmのn型InGaP層32、窓層としての厚さ0.03μmのn型AlInP層33およびキャップ層としての厚さ0.5μmのn型GaAs層34がこの順序で積層されて化合物半導体層の積層体11を形成している。そして、n型GaAs層34の表面上に第1電極1が形成されており、n型GaAs層22の表面上には第2電極2が形成されている。また、第1電極1には第1インターコネクタ3が電気的に接続されており、第2電極2には第2インターコネクタ4が電気的に接続されている。そして、上記の積層体11の表面上に透明接着剤13を塗布し、保護フィルム12がこれに貼り合わせられている。
ここで、n型GaAs層22およびn型InGaP層28にはそれぞれn型ドーパントが他のn型の化合物半導体層よりも高濃度にドーピングされており、p型AlGaAs層23およびp型AlGaAs層29にはそれぞれp型ドーパントが他のp型の化合物半導体層よりも高濃度にドーピングされている。これにより、n型GaAs層22とp型AlGaAs層23とはトンネル接合となり、n型InGaP層28とp型AlGaAs層29とはトンネル接合となっている。
また、互いに接触しているp型GaAs層25とn型GaAs層26の積層体は光電変換層として機能する。また、互いに接触しているp型InGaP層31とn型InGaP層32の積層体も光電変換層として機能する。
このような構成の太陽電池は、たとえば以下のようにして作製することができる。まず、図2の模式的断面図に示すように、Siをドーピングした直径50mmの円板状のn型GaAs基板18上に、n型GaAs層19、n型InGaP層21、n型GaAs層22、p型AlGaAs層23、p型InGaP層24、p型GaAs層25、n型GaAs層26およびn型AlInP層27を順次エピタキシャル成長させる。
次に、n型AlInP層27上に、n型InGaP層28、p型AlGaAs層29、p型AlInP層30、p型InGaP層31、n型InGaP層32、n型AlInP層33およびn型GaAs層34を順次エピタキシャル成長させる。
ここで、エピタキシャル成長の際の条件としては、温度はたとえば約700℃とされる。また、GaAs層を成長させるための原料としては、たとえば、TMG(トリメチルガリウム)とAsH3(アルシン)を用いることができる。また、InGaP層を成長させるための原料としては、たとえば、TMI(トリメチルインジウム)、TMGおよびPH3(ホスフィン)を用いることができる。AlInP層を成長させるための原料としては、たとえば、TMA(トリメチルアルミニウム)、TMIおよびPH3を用いることができる。
また、n型GaAs層、n型InGaP層およびn型AlInP層を形成するための不純物原料としては、たとえば、SiH4(モノシラン)を用いることができる。また、p型GaAs層、p型InGaP層およびp型AlInP層を形成するための不純物原料としては、たとえばDEZn(ジエチル亜鉛)を用いることができる。
さらに、AlGaAs層を成長させるための原料としては、たとえば、TMA、TMGおよびAsH3を用いることができ、p型AlGaAs層を形成するための不純物原料としてはたとえばCBr4(四臭化炭素)を用いることができる。
続いて、n型GaAs層34の表面の全面にレジストを塗布し、たとえばフォトリソグラフィ法により一部のレジストを残し、レジストが残されていない部分のn型GaAs層34を図3の模式的断面図に示すように、たとえばアンモニア系およびHCl系のエッチング液によって、p型AlGaAs層23の表面が露出するまで所定のパターン状に除去する。そして、図4の模式的断面図に示すように、たとえばHCl系のエッチング液によって、露出しているp型AlGaAs層23を除去する。これにより、n型GaAs層22の表面を露出させる。
続いて、たとえばフォトリソグラフィ法によってレジストパターンし、そのレジストパターンの上方から、たとえば、Au−Ge膜、Ni膜、Au膜およびAg膜を順次蒸着して金属膜を形成する。
次いで、たとえばリフトオフ法によりレジストパターン上に形成された金属膜をレジストパターンごと除去し、その後、熱処理を行なう。これにより、図5の模式的断面図に示す第1電極1および第2電極2を同時に形成することができる。そして、50mm径のn型GaAs基板18をたとえば幅が20mmで長さが20mmの正方形の板状に切断して複数に分割することによって、図5に示す構成のウエハが作製される。
続いて、図6の模式的断面図に示すように、上記のようにして作製されたウエハの第1電極1に短い帯状の第1インターコネクタ3を溶接などにより電気的に接続し、第2電極2に短い帯状の第2インターコネクタ4を溶接などにより電気的に接続する。
そして、図7の模式的断面図に示すように、たとえばシリコーンからなる透明接着剤13を塗布し、たとえばPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムまたはPEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムからなる保護フィルム12をこれに貼り合わせ、所定の温度にて透明接着剤を硬化させることによって保護フィルム12を接着する。
その後、保護フィルム12の表面をたとえばレジストでカバーし、n型GaAs基板18とn型GaAs層19をたとえばアンモニア系のエッチング液で除去する。そして、露出したn型InGaP層21の表面上に、たとえば、Au膜およびAg膜を順次蒸着した後に熱処理することによって、露出したn型InGaP層21の表面の全面に金属膜20を形成する。これにより、図1に示す構成の太陽電池を作製することができる。
図8に、図1に示す太陽電池の模式的な上面図を示す。このような構成の太陽電池を複数用意し、互いに隣接する2つの太陽電池において、たとえば、図9の模式的上面図に示すように、第1の太陽電池10aの第1電極に接続された第1インターコネクタ3と第2の太陽電池10bの第2電極に接続された第2インターコネクタ4とがストレスリリース機能を有する中間部材50により電気的に接続されることによって、本発明の太陽電池ストリングを作製することができる。そして、この太陽電池ストリングを従来から公知の透明樹脂などに封止することにより本発明の太陽電池モジュールを作製することができる。
このように、本発明においては、太陽電池の薄型化工程において変形や破断しにくいたとえば短い帯状などの単純な形状のインターコネクタのみを接続した状態で太陽電池を薄型化し、薄型化した太陽電池の上記のインターコネクタ同士を中間部材で接続して太陽電池ストリングおよび太陽電池モジュールを作製することができる。したがって、本発明においては、従来と比べて、太陽電池の薄型化工程におけるインターコネクタの変形および破断の発生を低減することができる。
ここで、本発明に用いられる中間部材50はストレスリリース機能を有することが好ましい。中間部材50がストレスリリース機能を有する場合には、太陽電池モジュールの作製時ならびに太陽電池ストリングおよび太陽電池モジュールの使用時において、太陽電池同士の接続が外れるのを抑制することができる傾向にある。
また、図10の模式的上面図に示すように、第1インターコネクタ3と第2インターコネクタ4とをそれぞれ互いに向き合わない位置にずらして設置することにより太陽電池同士の間隔を狭めて取り付けることができるようになる。すなわち、この場合には、第1の太陽電池10aの第1インターコネクタ3および第2の太陽電池10bの第2インターコネクタ4がそれぞれ太陽電池の外側に突出している場合でも、第1インターコネクタ3と第2インターコネクタ4とが接触しないために第1の太陽電池10aと第2の太陽電池10bとの間隔を狭めて太陽電池ストリングおよび太陽電池モジュールを作製することができる。したがって、この場合には、太陽電池ストリングおよび太陽電池モジュールのそれぞれについて太陽光の受光面積を増大することができることから、発電量が増大する傾向にある。
また、図11の模式的上面図に示すように、中間部材50の形状を変更することにより太陽電池同士の間隔を狭めて取り付けることができるようになる。したがって、この場合にも、太陽電池ストリングおよび太陽電池モジュールのそれぞれについて太陽光の受光面積を増大することができることから、発電量が増大する傾向にある。なお、図11に示す中間部材50は、第1の太陽電池10aの第1インターコネクタ3の裏側(紙面の裏面側)および第2の太陽電池10bの第2インターコネクタ4の表側(紙面の表面側)にそれぞれ接続されている。
また、図12の模式的上面図に示すように、本発明の太陽電池ストリングにおいては、第1の太陽電池10aにおいて第1電極1と第1インターコネクタ3との接続部が複数存在し、第2の太陽電池10bにおいて第2電極2と第2インターコネクタ4との接続部が複数存在していてもよい。このような構成とすることによって、第1電極1と第1インターコネクタ3との接続部に加わる力および第2電極2と第2インターコネクタ4との接続部に加わる力をそれぞれ分散して、インターコネクタの変形および破断の発生を低減するすることができる傾向にある。
なお、本発明においては、積層体を構成する半導体層の積層数ならびに上記の積層体を構成する半導体層の材質および厚みは上記のものに限定されないことは言うまでもない。
また、本発明においては、第1電極および第2電極の材質も上記のものに限定されず、第1電極および第2電極の材質としては金属などの不透明導電材料の他、ZnO(酸化亜鉛)、SnO2(酸化スズ)またはITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料などを用いることもできる。なお、第1電極の極性と第2電極の極性とは互いに異なっており、それぞれ正または負のいずれかとなっている。
また、上記においては、半導体基板の一例であるn型GaAs基板が除去された太陽電池を用いたものについて説明したが、本発明においては半導体基板は除去されていても、除去されていなくてもよい。
また、本発明において、第1インターコネクタの材質、第2インターコネクタの材質および中間部材の材質はぞれぞれ導電性の材質であれば特に限定されない。また、第1インターコネクタの形状、第2インターコネクタの形状および中間部材の形状もそれぞれ特に限定されないが、第1インターコネクタの形状および第2インターコネクタの形状はそれぞれ太陽電池の薄型化工程において変形や破断しにくい短い帯状などの形状であることが好ましく、中間部材の形状は上述したようにストレスリリース機能を有する形状であることが好ましい。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本発明によれば、太陽電池の薄型化工程におけるインターコネクタの変形および破断の発生を低減することができる太陽電池ストリングの製造方法を提供することができる。
本発明の太陽電池ストリングを構成する太陽電池の一例の模式的な断面図である。 図1に示す太陽電池の作製工程の一部を図解する模式的な断面図である。 図1に示す太陽電池の作製工程の一部を図解する模式的な断面図である。 図1に示す太陽電池の作製工程の一部を図解する模式的な断面図である。 図1に示す太陽電池の作製工程の一部を図解する模式的な断面図である。 図1に示す太陽電池の作製工程の一部を図解する模式的な断面図である。 図1に示す太陽電池の作製工程の一部を図解する模式的な断面図である。 図1に示す太陽電池の模式的な上面図である。 本発明の太陽電池ストリングの一例の模式的な上面図である。 本発明の太陽電池ストリングの他の一例の模式的な上面図である。 本発明の太陽電池ストリングの他の一例の模式的な上面図である。 本発明の太陽電池ストリングの他の一例の模式的な上面図である。 従来の化合物半導体太陽電池の模式的な断面図である。
符号の説明
1 第1電極、2 第2電極、3 第1インターコネクタ、4 第2インターコネクタ、10 太陽電池、10a 第1の太陽電池、10b 第2の太陽電池、11 積層体、12 保護フィルム、13 透明接着剤、18 n型GaAs基板、19 n型GaAs層、20 金属膜、21 n型InGaP層、22 n型GaAs層、23 p型AlGaAs層、24 p型InGaP層、25 p型GaAs層、26 n型GaAs層、27 n型AlInP層、28 n型InGaP層、29 p型AlGaAs層、30 p型AlInP層、31 p型InGaP層、32 n型InGaP層、33 n型AlInP層、34 n型GaAs層、50 中間部材、100 化合物半導体太陽電池、101 第1電極、102 第2電極、103,104 インターコネクタ、110 半導体基板、111 積層体、112 保護フィルム、113 透明接着剤。

Claims (5)

  1. 光電変換層を有する積層体と、前記積層体に形成された第1電極と、前記積層体に形成された第2電極と、前記第1電極に接続された第1インターコネクタと、前記第2電極に接続された第2インターコネクタとを含む化合物半導体太陽電池が、複数接続された太陽電池ストリングを製造する方法であって、
    前記光電変換層を有する前記積層体を形成する工程と、
    前記積層体に前記第1電極を形成する工程と、
    前記積層体に前記第2電極を形成する工程と、
    前記第1電極に前記第1インターコネクタを接続する工程と、
    前記第2電極に前記第2インターコネクタを接続する工程と、
    前記第1インターコネクタおよび前記第2インターコネクタが接続された前記化合物半導体太陽電池を薄型化する工程と、
    前記薄型化する工程の後に、第1の化合物半導体太陽電池の前記第1電極に接続された前記第1インターコネクタと、第2の化合物半導体太陽電池の前記第2電極に接続された前記第2インターコネクタとを導電性の材質からなる中間部材により接続する工程と、を含む、太陽電池ストリングの製造方法。
  2. 前記中間部材がストレスリリース機能を有することを特徴とする、請求項1に記載の太陽電池ストリングの製造方法。
  3. 前記第1インターコネクタと前記第2インターコネクタとはそれぞれ互いに向き合わない位置にずらして設置されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の太陽電池ストリングの製造方法。
  4. 前記第1の化合物半導体太陽電池において前記第1電極と前記第1インターコネクタとの接続部が複数存在し、前記第2の化合物半導体太陽電池において前記第2電極と前記第2インターコネクタとの接続部が複数存在することを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の太陽電池ストリングの製造方法。
  5. 前記第2インターコネクタを接続する工程と前記中間部材により接続する工程との間に、前記第1インターコネクタおよび前記第2インターコネクタのそれぞれの一部が透明接着剤から露出した状態になるように前記積層体上に保護フィルムを前記透明接着剤にて接着する工程を含むことを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の太陽電池ストリングの製造方法。
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