JP4972781B2 - A micro scanner and an optical scanning device including the same. - Google Patents

A micro scanner and an optical scanning device including the same. Download PDF

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Description

本発明は、プロジェクタやレーザビームプリンタ等に用いられる光源からの光を走査するマイクロスキャナ(光スキャナ)に関する。また本発明は、そのような光スキャナを備えることにより光を高速に走査可能な光走査装置に関する。   The present invention relates to a micro scanner (optical scanner) that scans light from a light source used in a projector, a laser beam printer, or the like. The present invention also relates to an optical scanning apparatus that can scan light at high speed by including such an optical scanner.

従来から、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術を用いた小型の光スキャナ(マイクロスキャナ)は種々開発されている。例えば、図11に示すような特許文献1の光スキャナ101は、スキャン用のミラー部103、ミラー部103を支えるトーションバーTB、及びミラー部103に繋がる可動枠105を含んでおり、可動枠105上にはミラー部103を偏向させるためのユニモルフ駆動部106が配置されている。   Conventionally, various compact optical scanners (micro scanners) using MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) technology have been developed. For example, an optical scanner 101 of Patent Document 1 as shown in FIG. 11 includes a scanning mirror unit 103, a torsion bar TB that supports the mirror unit 103, and a movable frame 105 connected to the mirror unit 103. A unimorph drive unit 106 for deflecting the mirror unit 103 is disposed above.

そして、この光スキャナ101は、ミラー部103を極力大きく偏向させるために、可動枠105上に配置されるユニモルフ駆動部106の駆動周波数と、トーションバーTBを含むミラー部103の機械的共振周波数とを一致させている。このようにすれば、ユニモルフ駆動部106が低電圧駆動であっても、ミラー部103が共振して比較的大きく偏向するためである。   The optical scanner 101 includes a driving frequency of the unimorph driving unit 106 disposed on the movable frame 105 and a mechanical resonance frequency of the mirror unit 103 including the torsion bar TB in order to deflect the mirror unit 103 as much as possible. Are matched. This is because, even if the unimorph drive unit 106 is driven at a low voltage, the mirror unit 103 resonates and deflects relatively large.

しかしながら、ミラー部103に繋がる可動枠105の先端部110はねじれにくくなっている。そのため、可動枠105に生じる力が回転トルクとしてミラー部103に作用しにくい。したがって、ミラー部103が十分に偏向しているとはいいがたい。   However, the distal end portion 110 of the movable frame 105 connected to the mirror portion 103 is difficult to twist. Therefore, the force generated in the movable frame 105 is unlikely to act on the mirror unit 103 as a rotational torque. Therefore, it cannot be said that the mirror unit 103 is sufficiently deflected.

ここで、先端部110とミラー部103とが連結しないような光スキャナ101も考えられる。例えば、図12に示すような光スキャナ101である。この光スキャナ101は、固定枠102、ミラー部103、ユニモルフ駆動部106a〜106dによって変形する可動枠105、及びミラー部103と可動枠105とをつなぐ主軸部104を含んでいる。   Here, an optical scanner 101 in which the distal end portion 110 and the mirror portion 103 are not connected is also conceivable. For example, an optical scanner 101 as shown in FIG. The optical scanner 101 includes a fixed frame 102, a mirror unit 103, a movable frame 105 that is deformed by the unimorph drive units 106 a to 106 d, and a main shaft unit 104 that connects the mirror unit 103 and the movable frame 105.

そして、この光スキャナ101は、可動枠105の撓み変形に応じて、ミラー部103をX方向を基準に正逆回転させる(P方向へ回転またはR方向へ回転させる)。このようなミラー部103の偏向動作で撓み変形する可動枠105を示した図が、図13A及び図13Bになる。これらの図は図12のA−A’線矢視断面図であり、図13Aが正回転(P方向への回転)の場合を示し、図13Bが逆回転(R方向への回転)の場合を示す。   Then, the optical scanner 101 rotates the mirror unit 103 forward and backward based on the X direction (rotating in the P direction or rotating in the R direction) according to the bending deformation of the movable frame 105. FIGS. 13A and 13B show the movable frame 105 that is bent and deformed by the deflection operation of the mirror unit 103. These figures are cross-sectional views taken along the line AA ′ of FIG. 12, and FIG. 13A shows a case of forward rotation (rotation in the P direction), and FIG. 13B shows a case of reverse rotation (rotation in the R direction). Indicates.

なお、説明上、主軸部104の軸方向をX方向(X軸と称してもよい)、このX方向に対して直交する可動枠105の延び方向をY方向、X方向及びY方向に対する直交方向をZ方向とする。また、図12での紙面上側をY方向のプラス{Y(+)}、この+方向に対する逆方向をY方向のマイナス{Y(−)}とするとともに、図12での紙面表側をZ方向のプラス{Z(+)}、この+方向に対する逆方向をZ方向のマイナス{Z(−)}とする。   For the sake of explanation, the axial direction of the main shaft 104 is the X direction (may be referred to as the X axis), and the extending direction of the movable frame 105 orthogonal to the X direction is the Y direction, the X direction, and the orthogonal direction to the Y direction. Is the Z direction. Also, the upper side of the paper surface in FIG. 12 is the Y direction plus {Y (+)}, the opposite direction to the + direction is the Y direction minus {Y (−)}, and the front side of the paper surface in FIG. Plus {Z (+)}, and the opposite direction to the + direction is the minus Z in the Z direction {Z (-)}.

また、以降では、2つの可動枠105(可動枠105a、105b)のうち可動枠105aのみについて説明するが、この可動枠105aがミラー部103を正回転または逆回転させようとしている場合、残りの可動枠105bも同じようにミラー部103を正回転または逆回転させている。   In the following, only the movable frame 105a of the two movable frames 105 (movable frames 105a and 105b) will be described. However, when the movable frame 105a attempts to rotate the mirror unit 103 forward or backward, Similarly, the movable frame 105b rotates the mirror unit 103 forward or backward.

ミラー部103が正回転する場合、図13Aに示すように、Y(+)側のユニモルフ駆動部106aの圧電素子108が伸びることで、Y(+)側の可動枠105aにおける主軸部104側はZ(−)に垂れ下がる。一方、Y(−)側のユニモルフ駆動部106bの圧電素子108が縮むことで、Y(−)側の可動枠105aにおける主軸部104側はZ(+)に跳ね上がる。すると、波打つように可動枠105aが撓み、その撓みに追従して主軸部104も正回転して傾く。   When the mirror unit 103 rotates in the forward direction, as shown in FIG. 13A, the piezoelectric element 108 of the Y (+) side unimorph drive unit 106a extends, so that the main shaft unit 104 side of the movable frame 105a on the Y (+) side is It hangs down to Z (-). On the other hand, when the piezoelectric element 108 of the Y (−) side unimorph drive unit 106b contracts, the main shaft 104 side of the movable frame 105a on the Y (−) side jumps up to Z (+). Then, the movable frame 105a bends like a wave, and the main shaft portion 104 also rotates forward and tilts following the bend.

また、ミラー部103が逆回転する場合、図13Bに示すように、Y(+)側のユニモルフ駆動部106aの圧電素子108が縮むことで、Y(+)側の可動枠105aにおける主軸部104側はZ(+)に跳ね上がる。一方、Y(−)側のユニモルフ駆動部106bの圧電素子108が伸びることで、Y(−)側の可動枠105aにおける主軸部104側はZ(−)に垂れ下がる。すると、可動枠105aは、図13Aとは逆向きに波打って撓み、その撓みに追従して主軸部104も逆回転して傾く。
特開2005−128147号公報
When the mirror 103 rotates in the reverse direction, as shown in FIG. 13B, the piezoelectric element 108 of the unimorph drive unit 106a on the Y (+) side contracts, so that the main shaft part 104 in the movable frame 105a on the Y (+) side. The side jumps up to Z (+). On the other hand, when the piezoelectric element 108 of the Y (−) side unimorph drive unit 106b extends, the main shaft portion 104 side of the movable frame 105a on the Y (−) side hangs down to Z (−). Then, the movable frame 105a is waved and bent in the direction opposite to that in FIG. 13A, and the main shaft portion 104 is also reversely rotated and tilted following the bending.
JP 2005-128147 A

図12に示したような光スキャナ101をプロジェクタ等の走査型投影装置に用いる場合、ミラー部103の偏向角が投影可能な画面サイズを決定する大きな要因となる。また、ユニモルフ駆動部106の駆動周波数とミラー部103の振動周波数を一致させてミラー部103を共振させた場合、走査速度はサイン波形を描くため、走査中央部での走査速度が速く、走査両端側での走査速度が遅くなって画像ピッチが変動する。そのため、ミラー部103を共振させることなく、且つユニモルフ駆動部106a〜106dの僅かな変位でより大きな偏向角が得られるように、可動枠105の結合部107は他の部分に比べて湾曲し易くしておくことが望ましい。   When the optical scanner 101 as shown in FIG. 12 is used in a scanning projection apparatus such as a projector, the deflection angle of the mirror unit 103 is a major factor in determining the screen size that can be projected. In addition, when the driving frequency of the unimorph driving unit 106 and the vibration frequency of the mirror unit 103 are matched to cause the mirror unit 103 to resonate, the scanning speed draws a sine waveform. The scanning speed on the side becomes slow and the image pitch fluctuates. Therefore, the coupling portion 107 of the movable frame 105 is more easily curved than the other portions so that a larger deflection angle can be obtained without causing the mirror portion 103 to resonate and with a slight displacement of the unimorph driving portions 106a to 106d. It is desirable to keep it.

結合部107の湾曲性を高める方法としては、結合部107の厚みや幅を小さくする方法が考えられるが、この方法では結合部107の強度も低下する。そのため、ユニモルフ駆動部106a〜106dの変位により大きな応力が加えられた際に結合部107が破損するおそれがあった。また、結合部107全体の厚みを均一に精度良くエッチング加工することは加工条件のバラツキの影響を受けやすく困難であった。さらに、加工のバラツキを抑制するためにシリコン基板と表面シリコン層の間にSiO2を挿入したSOI基板を用いた場合、基板コストが高くなってしまい現実的ではなかった。 As a method for increasing the bendability of the coupling portion 107, a method of reducing the thickness or width of the coupling portion 107 is conceivable, but this method also reduces the strength of the coupling portion 107. Therefore, there is a possibility that the coupling portion 107 may be damaged when a large stress is applied due to the displacement of the unimorph driving portions 106a to 106d. Further, it is difficult to etch the entire thickness of the coupling portion 107 uniformly and accurately because it is easily affected by variations in processing conditions. Further, when an SOI substrate in which SiO 2 is inserted between the silicon substrate and the surface silicon layer in order to suppress processing variations, the substrate cost increases, which is not practical.

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであって、ミラー部と可動枠とを連結する結合部の湾曲性を向上させることにより、ミラーの偏向角を大きくするとともに応力による結合部の破損を防止可能な光スキャナ及びそれを備えた光走査装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and by improving the curvature of the coupling portion that couples the mirror portion and the movable frame, the deflection angle of the mirror is increased and the coupling portion due to stress is increased. An object of the present invention is to provide an optical scanner capable of preventing damage and an optical scanning device including the same.

上記目的を達成するために、本発明のマイクロスキャナは、変動部と、該変動部を揺動可能に支持する主軸部と、該主軸部を保持する変形可能な可動枠と、該可動枠を湾曲させて変動部を傾斜させる駆動手段と、可動枠を湾曲可能に支持する固定枠と、を含むマイクロスキャナであり、主軸部が連結される可動枠の結合部には、表面側及び裏面側に形成された主軸部に対し略平行な一対の溝部から成る屈曲部が主軸部の両側に形成されている。   In order to achieve the above object, a microscanner of the present invention includes a variable portion, a main shaft portion that supports the variable portion so as to be swingable, a deformable movable frame that holds the main shaft portion, and the movable frame. A microscanner including a driving means for bending and tilting the variable part, and a fixed frame that supports the movable frame so as to be bendable. Bending portions comprising a pair of groove portions substantially parallel to the main shaft portion formed on the first shaft portion are formed on both sides of the main shaft portion.

この構成によれば、結合部は屈曲部において比較的弱い力で変形するため、主軸部の回転量も大きくなる。そして、この増加した回転量に起因して、変動部は比較的大きく揺動する。その結果、マイクロスキャナは、変動部の偏向角を容易に増大させられる。また、一対の溝部の深さの和は結合部の厚みよりも大きくなっており、溝部は結合部の厚み方向に重ならない位置に形成される。これにより、屈曲部の断面がつづらおり状となって、湾曲性に加えて十分な強度も兼ね備えた屈曲部となる。   According to this configuration, since the coupling portion is deformed by a relatively weak force at the bent portion, the amount of rotation of the main shaft portion is also increased. And the fluctuation | variation part rock | fluctuates comparatively largely due to this increased rotation amount. As a result, the microscanner can easily increase the deflection angle of the variable portion. Further, the sum of the depths of the pair of groove portions is larger than the thickness of the coupling portion, and the groove portions are formed at positions that do not overlap in the thickness direction of the coupling portion. As a result, the cross section of the bent portion is formed in a serpentine shape, and the bent portion has sufficient strength in addition to bendability.

なお、屈曲部を構成する溝部は、例えば1つの基板から成る結合部の表裏面をエッチング加工することによって設けられており、マイクロスキャナ自身は一基板に形成されている。また、変動部が、金属膜を含むことで光を反射させるミラー部である場合、マイクロスキャナは光スキャナとも称せる。   In addition, the groove part which comprises a bending part is provided by etching the front and back of the coupling part which consists of one board | substrate, for example, and the micro scanner itself is formed in one board | substrate. In addition, when the variable part is a mirror part that reflects light by including a metal film, the microscanner can also be referred to as an optical scanner.

また、屈曲部は、可動枠の延び方向に沿って複数並んでいると望ましい。このようになっていると、結合部の撓み変形が並列する複数の屈曲部に分散され、個々の屈曲部に加わる捩れは少なくて済む。従って、基板の厚みが大きく応力分散効果が小さい場合や、駆動手段により発生する駆動力が小さい場合に特に有効である。駆動手段としては、圧電素子とそれを挟む電極から成るユニモルフ駆動部が好適に用いられる。   Further, it is desirable that a plurality of bent portions are arranged along the extending direction of the movable frame. With this configuration, the bending deformation of the coupling portion is distributed to the plurality of bending portions arranged in parallel, and the twist applied to each bending portion can be reduced. Therefore, it is particularly effective when the thickness of the substrate is large and the stress dispersion effect is small, or when the driving force generated by the driving means is small. As the driving means, a unimorph driving unit including a piezoelectric element and electrodes sandwiching the piezoelectric element is preferably used.

ただし、可動枠の延び方向に沿って複数並んでいる各屈曲部では、屈曲部を構成する溝部の溝幅及び深さのうち少なくとも一つが異なっていると望ましい。詳説すると、各溝部の溝幅及び深さのうち少なくとも一つは、主軸部から離れるにつれて小さくなっていると望ましい。   However, it is desirable that at least one of the groove widths and depths of the groove portions constituting the bent portions be different in each of the bent portions arranged in a plurality along the extending direction of the movable frame. More specifically, it is desirable that at least one of the groove width and depth of each groove portion becomes smaller as the distance from the main shaft portion increases.

通常、各屈曲部にかかるモーメントは主軸部から離れるほど大きくなる。また、溝幅及び深さが小さくなっている屈曲部ほど剛性は大きくなる。そこで、主軸部から離れるにつれて溝幅及び深さのうち少なくとも一つを小さくすることにより、モーメントの大きさに対して適正な剛性が得られることになり、主軸部から離れた屈曲部に過剰な捩れ変形が発生する事態は起きない。   Usually, the moment applied to each bent portion increases as the distance from the main shaft portion increases. Moreover, the rigidity becomes larger as the bent portion has a smaller groove width and depth. Accordingly, by reducing at least one of the groove width and depth as the distance from the main shaft portion decreases, an appropriate rigidity can be obtained with respect to the magnitude of the moment. There will be no occurrence of torsional deformation.

また、以上のマイクロスキャナを搭載する光走査装置も本発明といえる。   Further, an optical scanning device equipped with the above micro scanner can also be said to be the present invention.

本発明によれば、変動部と可動枠とを連結する結合部に、表裏面に形成され回転軸と平行な一対の溝部から成り、溝部の深さの和が結合部の厚みよりも大きい屈曲部を形成することにより、可動枠の撓み量が僅かであっても変動部を広角度に回転させることができる。これにより、マイクロスキャナの変動部の偏向角を容易に増大可能となる。また、可動枠の撓み変形により結合部に加わる応力が分散するため、結合部の曲げ疲労による破損を抑制することができる。   According to the present invention, the connecting portion connecting the variable portion and the movable frame is formed of a pair of groove portions formed on the front and back surfaces and parallel to the rotation shaft, and the sum of the depths of the groove portions is larger than the thickness of the connecting portion. By forming the portion, the variable portion can be rotated at a wide angle even if the amount of bending of the movable frame is slight. This makes it possible to easily increase the deflection angle of the variable part of the micro scanner. In addition, since the stress applied to the joint portion is dispersed by the bending deformation of the movable frame, it is possible to suppress damage due to bending fatigue of the joint portion.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、理解を容易にすべく、平面図であってもハッチングを付している。また、説明の便宜上、部材符号、ハッチングを省略する場合もあるが、かかる場合、他の図面を参照するものとする。また、図面上での黒丸は紙面に対し垂直方向を意味する。以下の実施形態では、マイクロスキャナの変動する部材(変動部)としてミラー部を例に挙げるとともに、このミラー部を変動させることで光を反射させスキャン動作を行う光スキャナを例に挙げる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In order to facilitate understanding, even plan views are hatched. In addition, for convenience of explanation, member symbols and hatching may be omitted, but in such a case, other drawings are referred to. Moreover, the black circle on the drawing means a direction perpendicular to the paper surface. In the following embodiments, a mirror part is taken as an example of a member (fluctuating part) that fluctuates in a micro scanner, and an optical scanner that performs a scanning operation by reflecting light by changing the mirror part is taken as an example.

図1は、本発明のマイクロスキャナ及び光走査装置を備える画像投影装置の一例を示すブロック図である。図1において、画像投影装置100は、例えばパソコンやテレビ等から出力される画像信号を入力し、その処理を行う光制御部20と、光制御部20から出力される信号を受けて光の走査を行い、例えばスクリーン30に画像光を投影する光走査装置40を含む構成である。   FIG. 1 is a block diagram illustrating an example of an image projection apparatus including a micro scanner and an optical scanning device according to the present invention. In FIG. 1, an image projection apparatus 100 receives an image signal output from, for example, a personal computer or a television, and scans light by receiving a light control unit 20 that performs processing and a signal output from the light control unit 20. For example, the optical scanning device 40 that projects image light onto the screen 30 is included.

光走査装置40は、図1に示すように、それぞれが赤色、緑色、青色(以下RGBと省略する)に対応する3つの光源21〜23と、色合成プリズム24と、コリメータレンズ25と、光スキャナ(マイクロスキャナ)1と、投影光学系26と、ミラー位置検知用光源27と、ミラー位置検出手段28と、光走査制御部29とから構成される。   As shown in FIG. 1, the optical scanning device 40 includes three light sources 21 to 23 corresponding to red, green, and blue (hereinafter abbreviated as RGB), a color synthesis prism 24, a collimator lens 25, and light. The scanner (microscanner) 1, a projection optical system 26, a mirror position detection light source 27, a mirror position detection means 28, and an optical scanning control unit 29 are configured.

そして、RGBに対応する3つの光源21〜23から出射された光は、色合成プリズム24、コリメータレンズ25の順に通過し、光スキャナ1で光走査された後、投影光学系27を透過して、例えばスクリーン30に結像する。   Then, light emitted from the three light sources 21 to 23 corresponding to RGB passes through the color synthesis prism 24 and the collimator lens 25 in this order, and after optical scanning with the optical scanner 1, passes through the projection optical system 27. For example, the image is formed on the screen 30.

次に光走査装置40の詳細について説明する。3つの光源21〜23は、例えば光源21が赤色の半導体レーザダイオード、光源22が緑色の半導体レーザダイオード、光源23が青色の半導体レーザダイオードに対応する。そして、それぞれの半導体レーザダイオードの波長は、例えば、赤色が660nm、緑色が532nm、青色が450nmに設定されている。   Next, details of the optical scanning device 40 will be described. For example, the light source 21 corresponds to a red semiconductor laser diode, the light source 22 corresponds to a green semiconductor laser diode, and the light source 23 corresponds to a blue semiconductor laser diode. The wavelengths of the respective semiconductor laser diodes are set to, for example, 660 nm for red, 532 nm for green, and 450 nm for blue.

なお、本実施形態では光源に半導体レーザダイオードを用いているが、これに限定される趣旨ではなく、本発明の目的を逸脱しない範囲で変更可能である。特に、緑色の半導体レーザダイオードは入手困難であることから、緑色のみ半導体レーザで結晶を励起する方式のDPSS(Diode Pomping Solid State)レーザを外部変調器で変調するものを用いて構わない。また、赤色、緑色、青色の全ての色について、半導体レーザダイオードに代えて、発光ダイオード(LED)や固体レーザ等を光源に用いても構わない。ただし、光源のサイズは小さい方が好ましく、その点で半導体レーザダイオードが好ましい。   In this embodiment, the semiconductor laser diode is used as the light source. However, the present invention is not limited to this, and can be changed without departing from the object of the present invention. In particular, since a green semiconductor laser diode is difficult to obtain, a DPSS (Diode Pomping Solid State) laser that excites a crystal with a semiconductor laser only in green may be modulated with an external modulator. Further, for all colors of red, green, and blue, a light emitting diode (LED), a solid state laser, or the like may be used as a light source instead of the semiconductor laser diode. However, the size of the light source is preferably small, and a semiconductor laser diode is preferable in that respect.

色合成プリズム24は、光源21〜23から出射されたレーザ光を合成する役割を果たし、光源21〜23から出射されたレーザ光はここで合成され、合成された色をスクリーン30に表示する。なお、本実施形態では色合成プリズムを用いているが、これに限定される趣旨ではない。例えば、図2に示すように2枚のダイクロイックミラー31a、31bを用いて、赤色光を反射し緑色光を透過するダイクロイックミラー31aで赤色と緑色の光源21、22から出射されたレーザ光を合成し、その後、青色光を反射し赤色光と緑色光は透過するダイクロイックミラー31bを用いて、先に合成されたレーザ光に青色の光源23から出射されたレーザ光を合成するような形態としても構わない。ただし、装置の部品点数を少なくすることと、装置全体のサイズを小さくできる点で色合成プリズム24を用いるのが好ましい。   The color synthesizing prism 24 plays a role of synthesizing the laser beams emitted from the light sources 21 to 23, and the laser beams emitted from the light sources 21 to 23 are synthesized here, and the synthesized color is displayed on the screen 30. In the present embodiment, a color synthesis prism is used, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 2, two dichroic mirrors 31a and 31b are used to synthesize laser beams emitted from red and green light sources 21 and 22 with a dichroic mirror 31a that reflects red light and transmits green light. Then, using the dichroic mirror 31b that reflects blue light and transmits red light and green light, the laser light emitted from the blue light source 23 is combined with the previously synthesized laser light. I do not care. However, it is preferable to use the color synthesizing prism 24 in terms of reducing the number of parts of the apparatus and reducing the size of the entire apparatus.

コリメータレンズ25は、光源21〜23から出射され、色合成プリズム24を通過してきた発散光を平行光へ変換するレンズである。また、コリメータレンズ25は、投影光学系27で発生する色収差を補正するようにピント位置が調整されている。光スキャナ1は、コリメータレンズ25を透過してきたレーザ光を走査することができ、本実施形態においては、スクリーン30に対して水平方向(図1の左右方向)と垂直方向(図1の紙面方向)にレーザ光を走査する。   The collimator lens 25 is a lens that converts divergent light emitted from the light sources 21 to 23 and passing through the color synthesis prism 24 into parallel light. The collimator lens 25 is adjusted in focus so as to correct chromatic aberration generated in the projection optical system 27. The optical scanner 1 can scan the laser light transmitted through the collimator lens 25, and in this embodiment, the horizontal direction (left-right direction in FIG. 1) and the vertical direction (paper surface direction in FIG. 1) with respect to the screen 30. ) Is scanned with a laser beam.

図3は、本発明の第1実施形態の光スキャナを示す平面図である。本実施形態の光スキャナ1は、X軸周り(図3の縦回り)の走査のみを行う一次元走査型の光スキャナであり、固定枠2、ミラー部3、主軸部4a、4b、可動枠5a、5b、ユニモルフ駆動部6a〜6dを含んでいる。なお、これらの部材は、変形可能なシリコン基板等をエッチングすることにより一体形成されている。   FIG. 3 is a plan view showing the optical scanner according to the first embodiment of the present invention. The optical scanner 1 of this embodiment is a one-dimensional scanning type optical scanner that performs only scanning around the X axis (vertical rotation in FIG. 3), and includes a fixed frame 2, a mirror unit 3, main shaft units 4a and 4b, and a movable frame. 5a, 5b and unimorph drive units 6a-6d. Note that these members are integrally formed by etching a deformable silicon substrate or the like.

ミラー部3は、光源等からの光を反射させる部材である。かかるミラー部3は、平面視で矩形状の基板に、開孔H(第1開孔H1、第2開孔H2)を並べて設けることで、図1に示すような固定枠2及びその内側に生じる島状部分(第1開孔H1と第2開孔H2との間に位置する残部)を形成し、島状部分に金やアルミニウム等の反射膜を貼り付けることで形成される。   The mirror unit 3 is a member that reflects light from a light source or the like. Such a mirror unit 3 is formed by arranging openings H (first opening H1 and second opening H2) side by side on a rectangular substrate in plan view so that the fixed frame 2 as shown in FIG. The resulting island-shaped portion (the remaining portion located between the first opening H1 and the second opening H2) is formed, and a reflective film such as gold or aluminum is attached to the island-shaped portion.

なお、第1開孔H1と第2開孔H2とが並ぶ方向をY方向と称し、第1開孔H1側のY方向をY方向のプラス{Y(+)}、この+方向に対する逆方向をY方向のマイナス{Y(−)}とする。さらに、ミラー部3の中心からY方向に伸びる方向をY軸と称する。   The direction in which the first opening H1 and the second opening H2 are arranged is referred to as the Y direction, the Y direction on the first opening H1 side is the Y direction plus {Y (+)}, and the direction opposite to the + direction. Is negative {Y (−)} in the Y direction. Further, a direction extending in the Y direction from the center of the mirror unit 3 is referred to as a Y axis.

主軸部4a、4bは、ミラー部3の外縁において対向する一端と他端とから外側に延びることで、そのミラー部3を挟持して支える部材である。かかる主軸部4a、4bは、ミラー部3に接する第1開孔H1、第2開孔H2の両隅を近接させることにより、基板の一部分を棒状にさせることで形成される。   The main shaft portions 4 a and 4 b are members that support the mirror portion 3 by sandwiching the mirror portion 3 by extending outward from one end and the other end facing each other at the outer edge of the mirror portion 3. The main shaft portions 4a and 4b are formed by making a part of the substrate into a rod shape by bringing both corners of the first opening H1 and the second opening H2 in contact with the mirror portion 3 close to each other.

なお、主軸部4a、4bは、Y方向に対して交差する方向(例えば直交方向)に延びている。そこで、この方向をX方向と称し、主軸部4b側のX方向をX方向のプラス{X(+)}、この+方向に対する逆方向をX方向のマイナス{X(−)}とする。さらに、主軸部4a、4bに重畳してX方向に伸びる方向をX軸(主軸方向/X軸方向)と称する。   The main shaft portions 4a and 4b extend in a direction intersecting the Y direction (for example, an orthogonal direction). Therefore, this direction is referred to as the X direction, the X direction on the main shaft portion 4b side is defined as the plus X in the X direction, and the opposite direction to the + direction is defined as the minus X in the X direction {X (−)}. Furthermore, a direction extending in the X direction so as to overlap the main shaft portions 4a and 4b is referred to as an X axis (main axis direction / X axis direction).

可動枠5a、5bは、主軸部4a、4bを保持すること(主軸部4a、4bに繋がること)によってミラー部3を保持する部材である。かかる可動枠5a、5bは、Y方向に延びた開孔H(第3開孔H3、第4開孔H4)と第1開孔H1、第2開孔H2との間に橋渡し状に残存する基板の残部で形成される。   The movable frames 5a and 5b are members that hold the mirror portion 3 by holding the main shaft portions 4a and 4b (connected to the main shaft portions 4a and 4b). The movable frames 5a and 5b remain in a bridging manner between the opening H (third opening H3 and fourth opening H4) extending in the Y direction and the first opening H1 and second opening H2. It is formed with the remainder of the substrate.

すなわち、第3開孔H3と第1開孔H1、第2開孔H2との間に位置する基板の残部と、第4開孔H4と第1開孔H1、第2開孔H2との間に位置する基板の残部とが可動枠5a、5bとなる。なお、このような残部から成る可動枠5a、5bは、Y方向に延びる形状(線状)となるので撓みやすい(すなわち、Y方向は可動枠5a、5bの延び方向である)。   That is, between the remaining portion of the substrate located between the third opening H3 and the first opening H1 and the second opening H2, and between the fourth opening H4 and the first opening H1 and the second opening H2. The remaining portions of the substrate located at the positions are movable frames 5a and 5b. The movable frames 5a and 5b made of such remaining portions are easily bent because they have a shape (linear shape) extending in the Y direction (that is, the Y direction is the extending direction of the movable frames 5a and 5b).

ユニモルフ駆動部6a〜6dは、電圧を力に変換するアクチュエータとして機能するものであり、分極処理されたPZT、ZnO、BST等の圧電素子61と、この圧電素子61を挟持する電極62とを含んでいる(後述の図4参照)。そして、この圧電素子61及び電極62が可動枠5a、5bの表面に貼り付けられることで、ユニモルフ駆動部6a〜6dが形成される。   The unimorph drive units 6a to 6d function as actuators that convert voltage into force, and include a piezoelectric element 61 such as PZT, ZnO, or BST that has been subjected to polarization processing, and an electrode 62 that sandwiches the piezoelectric element 61. (Refer to FIG. 4 described later). And the unimorph drive parts 6a-6d are formed by affixing this piezoelectric element 61 and the electrode 62 on the surface of movable frame 5a, 5b.

ここで、ユニモルフ駆動部6a、6bは、可動枠5a上に主軸部4aを挟持するようにして形成され、ユニモルフ駆動部6c、6dも可動枠5b上に主軸部4bを挟持するようにして形成される。そして、ユニモルフ駆動部6aと6bの間、及びユニモルフ駆動部6cと6dの間の領域は、主軸部4a、4bの一端と繋がる結合部7となっている。そのため、ユニモルフ駆動部6a、6b及びユニモルフ駆動部6c、6dにおける圧電素子61の伸縮変形に応じて、可動枠5a、5bも変形(撓み変形/曲げ変形)する。光スキャナ1では、この可動枠5a、5bの変形を利用して、ミラー部3が主軸部4a、4b(主軸方向)を基準に正逆回転方向に傾く(揺動可能となる)。なお、詳細については後述する。   Here, the unimorph drive portions 6a and 6b are formed so as to sandwich the main shaft portion 4a on the movable frame 5a, and the unimorph drive portions 6c and 6d are also formed so as to sandwich the main shaft portion 4b on the movable frame 5b. Is done. And the area | region between the unimorph drive parts 6a and 6b and the area | region between the unimorph drive parts 6c and 6d becomes the coupling | bond part 7 connected with the end of the main shaft parts 4a and 4b. Therefore, the movable frames 5a and 5b are also deformed (flexure deformation / bending deformation) in accordance with the expansion and contraction of the piezoelectric element 61 in the unimorph drive units 6a and 6b and the unimorph drive units 6c and 6d. In the optical scanner 1, using the deformation of the movable frames 5a and 5b, the mirror portion 3 is tilted (can be swung) in the forward and reverse rotation directions with respect to the main shaft portions 4a and 4b (main shaft direction). Details will be described later.

結合部7には、ミラー回転軸と平行な屈曲部8が設けられている。屈曲部8は、結合部7の表裏面に設けられた一対の溝部81、82(図4参照)から構成されており、主軸部4a、4bを挟んで対称の位置に一対ずつ設けられている。また、屈曲部8を構成する溝部81、82は、結合部7の厚み方向に重ならないような位置に形成されている。なお、結合部7の表面側{図4のZ(+)側}に形成される溝部を溝部81、結合部7の裏面側{図4のZ(−)側}に形成される溝部を溝部82とする。   The coupling portion 7 is provided with a bent portion 8 parallel to the mirror rotation axis. The bent portions 8 are composed of a pair of groove portions 81 and 82 (see FIG. 4) provided on the front and back surfaces of the coupling portion 7, and are provided in pairs at symmetrical positions with the main shaft portions 4a and 4b interposed therebetween. . Further, the groove portions 81 and 82 constituting the bent portion 8 are formed at positions that do not overlap with the thickness direction of the coupling portion 7. In addition, the groove part formed in the surface side {Z (+) side of FIG. 4} of the coupling part 7 is the groove part 81, and the groove part formed on the back surface side {Z (−) side of FIG. 4} of the coupling part 7 is the groove part. 82.

次に、光スキャナ1の製造方法の一例を説明する。光スキャナ1は、例えば厚さ100μm程度のシリコン基板を用いて作製される。まず、シリコン基板をフォトレジストとエッチングにより加工して開口H1〜H4を形成することにより、図3に示した固定枠2、ミラー部3、主軸部4a、4b、可動枠5a、5bを一体形成する。このとき、可動枠5a、5bの結合部7に溝部81、82を同時に形成して屈曲部8とする。次に、シリコン基板の表面側に電極62、圧電素子61、電極62を順に貼り付けてユニモルフ駆動部6a〜6dを形成する。そして、ミラー部3に反射膜となる金属膜を貼り付けて光スキャナ1を製造する。   Next, an example of a method for manufacturing the optical scanner 1 will be described. The optical scanner 1 is manufactured using, for example, a silicon substrate having a thickness of about 100 μm. First, the silicon substrate is processed by photoresist and etching to form openings H1 to H4, thereby integrally forming the fixed frame 2, the mirror portion 3, the main shaft portions 4a and 4b, and the movable frames 5a and 5b shown in FIG. To do. At this time, groove portions 81 and 82 are simultaneously formed in the coupling portion 7 of the movable frames 5a and 5b to form the bent portion 8. Next, the electrode 62, the piezoelectric element 61, and the electrode 62 are affixed in order on the surface side of a silicon substrate, and the unimorph drive parts 6a-6d are formed. Then, the optical scanner 1 is manufactured by attaching a metal film serving as a reflective film to the mirror unit 3.

なお、圧電素子61、電極62、及びミラー部3の金属膜は、シリコン基板上に直接薄膜形成することもできる。薄膜形成法としては、スパッタリング法、化学蒸着法(CVD法)、ゾルゲル法、エアロゾルデポジション法(AD法)などが挙げられるが、エアロゾルデポジション法が好ましい。これによれば、スパッタリング法、CVD法、ゾルゲル法に比べてエッチング工程等が省略でき、成膜速度の向上、工程短縮が可能となる。なお、エアロゾルデポジション法とは、あらかじめ他の手法で準備された微粒子、超微粒子原料をガスと混合してエアロゾル化し、減圧雰囲気下でノズルを通して基板に噴射して被膜を形成する技術のことを示している。   Note that the piezoelectric element 61, the electrode 62, and the metal film of the mirror unit 3 can be directly formed on the silicon substrate as a thin film. Examples of the thin film forming method include a sputtering method, a chemical vapor deposition method (CVD method), a sol-gel method, and an aerosol deposition method (AD method). The aerosol deposition method is preferable. According to this, compared with sputtering method, CVD method, sol-gel method, an etching process etc. can be omitted, and the film-forming speed can be improved and the process can be shortened. The aerosol deposition method is a technology that forms fine particles and ultrafine particles prepared in advance by other methods in advance by mixing them with gas to form an aerosol, which is then sprayed onto a substrate through a nozzle under a reduced pressure atmosphere to form a film. Show.

次に、本実施形態の光スキャナ1におけるミラー部3の偏向動作について、図4A及び図4Bを用いながら説明する。図4A及び図4Bは、図3におけるA−A’線矢視断面図である。   Next, the deflection operation of the mirror unit 3 in the optical scanner 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4A and 4B. 4A and 4B are cross-sectional views taken along line A-A 'in FIG.

図3の光スキャナ1は、主軸部4a、4b(主軸方向)を基準にミラー部3を回動させる。そこで、主軸方向周りの一方向(X(+)からX(−)に向いて時計回りの回転)を正回転、正回転に対して逆方向の回転(反時計回りの回転)を逆回転とし、図4Aに正回転する主軸部4aを示し、図4Bに逆回転する主軸部4aを示す(正回転方向をP、逆回転方向をRで図示)。   The optical scanner 1 in FIG. 3 rotates the mirror unit 3 with respect to the main shaft portions 4a and 4b (main shaft direction). Therefore, one direction around the main axis direction (clockwise rotation from X (+) to X (-)) is normal rotation, and reverse rotation (counterclockwise rotation) is normal rotation. 4A shows the main shaft portion 4a that rotates in the forward direction, and FIG. 4B shows the main shaft portion 4a that rotates in the reverse direction (P indicates the normal rotation direction and R indicates the reverse rotation direction).

また、X方向及びY方向に対して垂直な方向をZ方向(撓み方向)として図示し、便宜上、ミラー部3の光を受光する側をZ方向のプラス{Z(+)}、この+方向に対する逆方向をZ方向のマイナス{Z(−)}とする。さらに、X軸とY軸との交点からZ方向に伸びる方向をZ軸と称する。   In addition, the direction perpendicular to the X direction and the Y direction is illustrated as the Z direction (deflection direction), and for convenience, the light receiving side of the mirror unit 3 is the Z direction plus {Z (+)}, this + direction. The opposite direction to the negative is Z direction minus {Z (−)}. Furthermore, the direction extending in the Z direction from the intersection of the X axis and the Y axis is referred to as the Z axis.

なお、以降では、2つの可動枠5a、5bのうち可動枠5aのみについて説明し、可動枠5bについては説明を省略するが、この可動枠5aがミラー部3を正回転または逆回転させようとしている場合、可動枠5bも同じようにミラー部3を正回転または逆回転させている。   In the following, only the movable frame 5a of the two movable frames 5a and 5b will be described, and description of the movable frame 5b will be omitted. However, the movable frame 5a tries to rotate the mirror unit 3 forward or backward. In the case of the movable frame 5b, the mirror unit 3 is also rotated forward or backward in the same manner.

図4A及び図4Bに示すように、ユニモルフ駆動部6a、6bには、圧電素子61と、圧電素子61を挟んで対向する電極62とが含まれる。そして、この二枚の電極62間に、分極反転を起こさせない範囲で±の電圧(交流電圧)が印加されることで圧電素子61が伸縮し、その伸縮に応じてユニモルフ駆動部6a、6bが撓む。   As shown in FIGS. 4A and 4B, the unimorph drive units 6a and 6b include a piezoelectric element 61 and an electrode 62 facing each other with the piezoelectric element 61 interposed therebetween. The piezoelectric element 61 expands and contracts by applying a ± voltage (alternating voltage) between the two electrodes 62 within a range that does not cause polarization reversal, and the unimorph drive units 6a and 6b move according to the expansion and contraction. Bend.

具体的には、ミラー部3が正回転する場合、図4Aに示すように、ユニモルフ駆動部6aの圧電素子61を伸ばす電圧が印加されるとともに、ユニモルフ駆動部6bの圧電素子61を縮ませる電圧(ユニモルフ駆動部6a側に印加される電圧とは逆位相の電圧)が印加される。   Specifically, when the mirror unit 3 rotates in the forward direction, as shown in FIG. 4A, a voltage for extending the piezoelectric element 61 of the unimorph driving unit 6a is applied and a voltage for contracting the piezoelectric element 61 of the unimorph driving unit 6b. (Voltage having an opposite phase to the voltage applied to the unimorph drive unit 6a side) is applied.

このような電圧が印加されると、ユニモルフ駆動部6aが貼り付けられた可動枠5aの部分(可動片5aa)がZ(+)側を凸に撓む。その結果、可動片5aaの主軸部4a側はZ(−)に垂れ下がる。一方、ユニモルフ駆動部6bが貼り付けられた可動枠5aの部分(可動片5ab)が、Z(−)側を凸に撓む。その結果、可動片5abの主軸部4a側はZ(+)に跳ね上がる。そして、可動片5aa、5bbの撓みに伴い、結合部7を介して主軸部4aのY(+)側が押し下げられるとともにY(−)側が押し上げられ、主軸部4aが正回転する。   When such a voltage is applied, the portion of the movable frame 5a (movable piece 5aa) to which the unimorph drive unit 6a is attached bends in a convex manner on the Z (+) side. As a result, the main shaft portion 4a side of the movable piece 5aa hangs down to Z (−). On the other hand, the portion (movable piece 5ab) of the movable frame 5a to which the unimorph drive unit 6b is attached bends in the Z (−) side so as to protrude. As a result, the main shaft portion 4a side of the movable piece 5ab jumps up to Z (+). As the movable pieces 5aa and 5bb are bent, the Y (+) side of the main shaft portion 4a is pushed down and the Y (−) side is pushed up via the coupling portion 7, and the main shaft portion 4a rotates forward.

逆に、ミラー部3が逆回転する場合、図4Bに示すように、ユニモルフ駆動部6aの圧電素子61を縮ませる電圧が印加されるとともに、ユニモルフ駆動部6bの圧電素子61を伸ばす電圧が印加される。このような電圧が印加されると、可動片5aaがZ(−)側を凸に撓み、可動片5aaの主軸部4a側はZ(+)に跳ね上がる。一方、可動片5abはZ(+)側を凸に撓み、可動片5abの主軸部4a側はZ(−)に垂れ下がる。   On the contrary, when the mirror unit 3 rotates in reverse, as shown in FIG. 4B, a voltage for contracting the piezoelectric element 61 of the unimorph driving unit 6a is applied and a voltage for extending the piezoelectric element 61 of the unimorph driving unit 6b is applied. Is done. When such a voltage is applied, the movable piece 5aa is bent convexly on the Z (−) side, and the main shaft portion 4a side of the movable piece 5aa jumps up to Z (+). On the other hand, the movable piece 5ab bends convexly on the Z (+) side, and the main shaft portion 4a side of the movable piece 5ab hangs down to Z (−).

そして、可動片5aa、5bbの撓みに伴い、結合部7を介して主軸部4aのY(+)側が押し上げられるとともにY(−)側が押し下げられる。即ち、主軸部4aのY(+)側、Y(−)側が正回転の場合と逆に移動することで、主軸部4aが逆回転する。   As the movable pieces 5aa and 5bb are bent, the Y (+) side of the main shaft portion 4a is pushed up and the Y (−) side is pushed down through the coupling portion 7. That is, the main shaft portion 4a rotates in the reverse direction by moving the Y (+) side and the Y (−) side of the main shaft portion 4a in the reverse direction to the normal rotation.

ここで、結合部7には溝部81、82から成る屈曲部8が形成されているため、結合部7は屈曲部8部分で急峻に湾曲可能となり、ユニモルフ駆動部6a、6bのZ軸方向の変位が僅かであってもミラー回転軸(X軸)周りに大きく回転させることができる。また、溝部81、82により結合部7に加わる応力が分散するため、結合部7の曲げ疲労による破損を抑制することができる。このとき、屈曲部8を主軸部4aにできるだけ近接して設けておけば、ユニモルフ駆動部6a、6bの変位量に対する主軸部4aの回転角(偏向角)θをより大きくすることができる。   Here, since the bent portion 8 including the groove portions 81 and 82 is formed in the connecting portion 7, the connecting portion 7 can be sharply bent at the bent portion 8 portion, and the unimorph drive portions 6 a and 6 b can be bent in the Z-axis direction. Even if the displacement is slight, it can be largely rotated around the mirror rotation axis (X axis). Further, since the stress applied to the joint portion 7 by the groove portions 81 and 82 is dispersed, the breakage of the joint portion 7 due to bending fatigue can be suppressed. At this time, if the bent portion 8 is provided as close as possible to the main shaft portion 4a, the rotation angle (deflection angle) θ of the main shaft portion 4a with respect to the displacement amount of the unimorph drive portions 6a and 6b can be further increased.

なお、回転角θとは、ユニモルフ駆動部6a、6bの影響を受けることなく不動状態にあるミラー部3と、変動するミラー部3との間に生じる角度のことである。   Note that the rotation angle θ is an angle generated between the mirror unit 3 that is stationary without being affected by the unimorph drive units 6a and 6b and the mirror unit 3 that fluctuates.

また、屈曲部8を構成する溝部81、82は、光スキャナ1を構成する固定枠2、ミラー部3、主軸部4a、4b、可動枠5a、5b等の他の部分と同時にエッチング加工により容易に形成できるため、溝部81、82を形成するために精度の高い別工程を設ける必要もない。   The groove portions 81 and 82 constituting the bent portion 8 are easily etched by etching simultaneously with other portions such as the fixed frame 2, the mirror portion 3, the main shaft portions 4 a and 4 b, and the movable frames 5 a and 5 b constituting the optical scanner 1. Therefore, it is not necessary to provide a separate process with high accuracy in order to form the groove portions 81 and 82.

溝部81、82の深さや配置については、光スキャナ1の材料となるシリコン基板の厚みや結合部7に要求される湾曲性に応じて適宜設定することができる。例えば上述のように溝部81、82をエッチング加工により形成する場合、20程度のアスペクト比で加工することは十分可能であるため、シリコン基板の厚みを数十〜数百μm程度とすると、溝幅10μm以下で溝部81、82を形成できる。従って、主軸部4a、4bの連結部分からユニモルフ駆動部6a〜6dまでの距離が僅かな小型の光スキャナ1であっても、屈曲部8を容易に形成することができる。   About the depth and arrangement | positioning of the groove parts 81 and 82, it can set suitably according to the thickness of the silicon substrate used as the material of the optical scanner 1, and the curvature requested | required of the coupling | bond part 7. FIG. For example, when the grooves 81 and 82 are formed by etching as described above, it is sufficiently possible to process with an aspect ratio of about 20, and therefore, when the thickness of the silicon substrate is about several tens to several hundreds μm, the groove width The groove portions 81 and 82 can be formed with a thickness of 10 μm or less. Therefore, the bent portion 8 can be easily formed even if the optical scanner 1 is small in distance from the connecting portions of the main shaft portions 4a and 4b to the unimorph drive portions 6a to 6d.

また、結合部7に十分な湾曲性を付与するため、図5に示すように、屈曲部8を構成する一対の溝部81、82が結合部7の厚み方向に重ならないように設けるとともに、各溝部8a、8bの深さをD、結合部7の厚み(=シリコン基板厚)をTとするとき、0.5<D/T<1の関係を満たすように、言い換えれば溝の深さの和(2D)がシリコン基板厚Tよりも大きくなるように設定する。これにより、屈曲部8の断面がつづらおり状(蛇腹状)となり、湾曲性に加えて十分な強度も兼ね備えた屈曲部8となる。屈曲部8の湾曲性をより一層高めるには、溝の深さDをできる限り深くする(D/Tを1に近づける)ことが望ましい。なお、ここでは溝部81、82の深さDを同一としたが、溝の深さの和がシリコン基板厚Tよりも大きければ、溝部81、82の深さが異なっていても良い。   In addition, in order to give sufficient curvature to the coupling portion 7, as shown in FIG. 5, a pair of groove portions 81 and 82 constituting the bending portion 8 are provided so as not to overlap in the thickness direction of the coupling portion 7. When the depth of the groove portions 8a and 8b is D and the thickness of the coupling portion 7 (= silicon substrate thickness) is T, in other words, the groove depth is set so as to satisfy the relationship of 0.5 <D / T <1. The sum (2D) is set to be larger than the silicon substrate thickness T. As a result, the cross section of the bent portion 8 has a serpentine shape (bellows shape), and the bent portion 8 has sufficient strength in addition to bendability. In order to further enhance the bendability of the bent portion 8, it is desirable to make the depth D of the groove as deep as possible (D / T close to 1). Here, the depths D of the grooves 81 and 82 are the same, but the depths of the grooves 81 and 82 may be different as long as the sum of the depths of the grooves is larger than the silicon substrate thickness T.

図6は、結合部7に設けられる屈曲部8の他の例を示す断面拡大図である。図6(A)においては、主軸部4aの両側に複数箇所の屈曲部(ここでは3箇所の屈曲部8a、8b、8c)が設けられている。この構成とすれば、結合部7に加えられる捩れは屈曲部8a〜8cの3箇所に分散するため、個々の屈曲部に加わる捩れは少なくて済む。従って、シリコン基板の厚みが大きく応力分散効果が小さい場合や、ユニモルフ駆動部6a〜6dにより発生する駆動力が小さい場合に特に有効である。   FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view showing another example of the bent portion 8 provided in the coupling portion 7. In FIG. 6A, a plurality of bent portions (here, three bent portions 8a, 8b, 8c) are provided on both sides of the main shaft portion 4a. With this configuration, the twist applied to the coupling portion 7 is dispersed at the three portions of the bent portions 8a to 8c, so that the twist applied to each bent portion is small. Therefore, it is particularly effective when the thickness of the silicon substrate is large and the stress dispersion effect is small, or when the driving force generated by the unimorph driving units 6a to 6d is small.

また、各屈曲部にかかるモーメントはミラー回転軸(=主軸部4a)から離れるほど大きくなるため、図6(A)のように同一形状の溝を設けた場合はミラー回転軸から遠くなる屈曲部8a、8b、8cの順に大きな捩り変形が発生する。そこで、図6(B)においては、屈曲部8a、8b、8cの順に溝部81、82の深さを小さくしている。これにより、ミラー回転軸から遠い溝部ほど捩り剛性が高くなり、図6(A)の構成に比べて捩れ角のバランスが取れるようになる。   Further, since the moment applied to each bent portion increases as the distance from the mirror rotation axis (= main shaft portion 4a) increases, the bent portion that is farther from the mirror rotation axis when a groove having the same shape as shown in FIG. 6A is provided. Large torsional deformation occurs in the order of 8a, 8b, and 8c. Therefore, in FIG. 6B, the depths of the groove portions 81 and 82 are made smaller in the order of the bent portions 8a, 8b, and 8c. Thereby, the torsional rigidity becomes higher as the groove portion is farther from the mirror rotation axis, and the torsional angle can be balanced as compared with the configuration of FIG.

なお、図6(B)ではミラー回転軸からの距離に合わせて溝部81、82の深さを段階的に変化させたが、ミラー回転軸からの距離に合わせて溝部81、82の溝幅を段階的に変化させても良い。また、屈曲部8の断面形状についても任意に設定することができる。例えば図7(A)のように断面鋸歯状の溝部81、82から成る屈曲部8を設けても良いし、図7(B)のように断面階段状の溝部81、82から成る屈曲部8を設けても良い。   In FIG. 6B, the depths of the groove portions 81 and 82 are changed stepwise according to the distance from the mirror rotation axis. However, the groove widths of the groove portions 81 and 82 are adjusted according to the distance from the mirror rotation axis. It may be changed in stages. Further, the cross-sectional shape of the bent portion 8 can be arbitrarily set. For example, as shown in FIG. 7A, a bent portion 8 made up of groove portions 81 and 82 having a sawtooth cross section may be provided, or a bent portion 8 made up of groove portions 81 and 82 having a stepped cross section as shown in FIG. May be provided.

図8は、本発明の第2実施形態に係る光スキャナの平面図である。本実施形態の光スキャナ1は、X軸周り(図8の縦方向)及びY軸周り(図8の横方向)の走査を行う二次元走査型の光スキャナである。図3に示した一次元走査型の光スキャナ1とでは、主軸部4a、4b、可動枠5a、5b、ユニモルフ駆動部6a〜6d等は同じであり、ミラー部3の構成のみが異なる。そこで、ミラー部3を主として説明し、第1実施形態と共通する部分には同一の符号を付して説明を省略する。なお、ミラー部3に含まれる各部材は、第1実施形態と同様に、変形可能なシリコン基板等をエッチングすることにより形成される。   FIG. 8 is a plan view of an optical scanner according to the second embodiment of the present invention. The optical scanner 1 of the present embodiment is a two-dimensional scanning type optical scanner that performs scanning around the X axis (vertical direction in FIG. 8) and around the Y axis (horizontal direction in FIG. 8). In the one-dimensional scanning type optical scanner 1 shown in FIG. 3, the main shaft portions 4a and 4b, the movable frames 5a and 5b, the unimorph drive portions 6a to 6d and the like are the same, and only the configuration of the mirror portion 3 is different. Therefore, the mirror unit 3 will be mainly described, and the same reference numerals are given to the parts common to the first embodiment, and the description will be omitted. Each member included in the mirror unit 3 is formed by etching a deformable silicon substrate or the like, as in the first embodiment.

ミラー部3は、ミラー枠3a、ミラー片3b、及びミラー片トーションバー(副軸部)9a、9bを含んでいる。ミラー枠3aは、ミラー片3bを囲む部材である。詳説すると、ミラー枠3aは、枠内にミラー片3bを位置させつつ、ミラー片3bを挟持するように延びるミラー片トーションバー9a、9bに繋がっている。また、ミラー枠3aは主軸部4a、4bによって可動枠5a、5bに支持される。そのため、このミラー枠3aは第1実施形態のミラー部3と同様に、可動枠5a、5bの変形を利用して主軸部4a、4bを基準に正逆回転可能となっている。   The mirror unit 3 includes a mirror frame 3a, a mirror piece 3b, and mirror piece torsion bars (sub-shaft portions) 9a and 9b. The mirror frame 3a is a member surrounding the mirror piece 3b. More specifically, the mirror frame 3a is connected to mirror piece torsion bars 9a and 9b extending so as to sandwich the mirror piece 3b while positioning the mirror piece 3b in the frame. The mirror frame 3a is supported by the movable frames 5a and 5b by the main shaft portions 4a and 4b. Therefore, like the mirror part 3 of the first embodiment, the mirror frame 3a can be rotated forward and backward with reference to the main shaft parts 4a and 4b using the deformation of the movable frames 5a and 5b.

ミラー片3bは、ミラー枠3aにおいて並列する開孔H(第5開孔H5、第6開孔H6)によって生じる島状部分(第5開孔H5、第6開孔H6間に位置する残部)に、アルミニウム、金等の金属を反射膜として貼り付けることで形成される。つまり、ミラー片3bは、光を反射させる片材である。   The mirror piece 3b is an island-shaped portion (the remaining part located between the fifth opening H5 and the sixth opening H6) generated by the opening H (fifth opening H5, sixth opening H6) arranged in parallel in the mirror frame 3a. Further, it is formed by attaching a metal such as aluminum or gold as a reflective film. That is, the mirror piece 3b is a piece of material that reflects light.

ミラー片トーションバー9a、9bは、ミラー片3bの外縁において対向する一端と他端とから外側に延びることで、そのミラー片3bを挟持しつつ揺動可能に支える部材である。かかるミラー片トーションバー9a、9bは、ミラー片3bに接する第5開孔H5及び第6開孔H6の両端をY方向に沿って直線状に延ばすことで形成される。   The mirror piece torsion bars 9a and 9b are members that extend outward from one end and the other end that face each other on the outer edge of the mirror piece 3b, and support the mirror piece 3b so as to be swingable. The mirror piece torsion bars 9a and 9b are formed by extending both ends of the fifth opening H5 and the sixth opening H6 in contact with the mirror piece 3b in a straight line along the Y direction.

次に、本実施形態の光スキャナ1におけるミラー部3の偏向動作について説明する。なお、主軸部4a、4b方向(X軸方向)を基準とするミラー部3の偏向動作については図4A及び図4Bに示した第1実施形態の光スキャナ1と同様であるため説明は省略する。   Next, the deflection operation of the mirror unit 3 in the optical scanner 1 of the present embodiment will be described. The deflection operation of the mirror unit 3 with respect to the directions of the main shafts 4a and 4b (X-axis direction) is the same as that of the optical scanner 1 of the first embodiment shown in FIGS. .

図9A、図9Cは図8のB−B’線矢視断面図を示し、図9B、図9Dは図8のC−C’線矢視断面図を示している。本実施形態の光スキャナ1のY軸を基準とする回動動作について図9A〜図9Dを用いて説明する。なお、図9A及び図9BはY方向を基準とする正回転の動作を示す一方、図9C及び図9DはY方向を基準とする逆回転の動作を示す。ここで、Y軸を基準とする正回転とは、Y(+)からY(−)に向いて時計回りの回転であり、逆回転は正回転に対して逆方向となる回転のことである(正回転方向をP、逆回転方向をRで図示)。   9A and 9C show cross-sectional views taken along the line B-B 'of FIG. 8, and FIGS. 9B and 9D show cross-sectional views taken along the line C-C' of FIG. A rotation operation based on the Y axis of the optical scanner 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 9A to 9D. 9A and 9B show a forward rotation operation based on the Y direction, while FIGS. 9C and 9D show a reverse rotation operation based on the Y direction. Here, the normal rotation with respect to the Y axis is a clockwise rotation from Y (+) to Y (−), and the reverse rotation is a rotation in the opposite direction to the normal rotation. (The forward rotation direction is indicated by P and the reverse rotation direction is indicated by R).

ミラー部3がY方向を基準に正回転する場合、図9Aに示すように、可動枠5a(可動片5aa、5ab)のユニモルフ駆動部6a、6bを構成する圧電素子61を伸ばす電圧が印加される。このような電圧が印加されると、伸長する圧電素子61によって、ユニモルフ駆動部6a、6bが貼り付けられた可動片5aa、5abがZ(+)側を凸に撓む。その結果、可動片5aa、5abの主軸部4a側はZ(−)に垂れ下がり、主軸部4aもZ(−)に向かって変位する。   When the mirror unit 3 rotates forward with respect to the Y direction, as shown in FIG. 9A, a voltage is applied to extend the piezoelectric element 61 that constitutes the unimorph drive units 6a and 6b of the movable frame 5a (movable pieces 5aa and 5ab). The When such a voltage is applied, the movable pieces 5aa and 5ab to which the unimorph drive units 6a and 6b are attached are bent convexly on the Z (+) side by the extending piezoelectric element 61. As a result, the main shaft portion 4a side of the movable pieces 5aa and 5ab hangs down to Z (−), and the main shaft portion 4a is also displaced toward Z (−).

一方で、図9Bに示すように、可動枠5b(可動片5ba、5bb)のユニモルフ駆動部6c、6dを構成する圧電素子61を縮ませる電圧が印加される。このような電圧が印加されると、収縮する圧電素子61によって、ユニモルフ駆動部6c、6dが貼り付けられた可動片5ba、5bbがZ(−)側を凸に撓む。その結果、可動片5ba、5bbの主軸部4b側はZ(+)に跳ね上がり、主軸部4bもZ(+)に向かって変位する。   On the other hand, as shown in FIG. 9B, a voltage for contracting the piezoelectric elements 61 constituting the unimorph drive units 6c, 6d of the movable frame 5b (movable pieces 5ba, 5bb) is applied. When such a voltage is applied, the contracting piezoelectric element 61 causes the movable pieces 5ba and 5bb to which the unimorph driving units 6c and 6d are attached to bend in the Z (−) side convexly. As a result, the main shaft portion 4b side of the movable pieces 5ba and 5bb jumps up to Z (+), and the main shaft portion 4b is also displaced toward Z (+).

このように、可動枠5aが主軸部4aをZ(−)に向かって変位させ、可動枠5bが主軸部4bをZ(+)に向かって変位させると、主軸部4a及び4bによって挟持されているミラー枠3aは傾く。これに伴い、ミラー枠3aに備わっているミラー片3bも傾く。そして、この傾きはY軸からほぼ等間隔で乖離している主軸部4a及び主軸部4bの変位で生じる傾きである。そのため、Y軸を基準にして考えると、ミラー片3bはこのY軸を基準にして正回転することになる。   As described above, when the movable frame 5a displaces the main shaft portion 4a toward Z (-) and the movable frame 5b displaces the main shaft portion 4b toward Z (+), the movable frame 5a is sandwiched between the main shaft portions 4a and 4b. The mirror frame 3a is tilted. Along with this, the mirror piece 3b provided in the mirror frame 3a also tilts. This inclination is an inclination generated by the displacement of the main shaft portion 4a and the main shaft portion 4b that are deviated from the Y axis at substantially equal intervals. For this reason, considering the Y axis as a reference, the mirror piece 3b rotates forward with respect to the Y axis.

次に、ミラー部3がY方向を基準に逆回転する場合、図9Cに示すように、可動枠5aのユニモルフ駆動部6a、6bを構成する圧電素子61を縮ませる電圧が印加される。このような電圧が印加されると、収縮する圧電素子61によって、可動片5aa、5abがZ(−)に突き出るように撓む。その結果、可動片5aa、5abの主軸部4a側はZ(+)に跳ね上がり、主軸部4aもZ(+)に向かって変位する。   Next, when the mirror unit 3 rotates reversely with respect to the Y direction, as shown in FIG. 9C, a voltage is applied to contract the piezoelectric elements 61 that constitute the unimorph drive units 6a and 6b of the movable frame 5a. When such a voltage is applied, the movable pieces 5aa and 5ab are bent so as to protrude to Z (−) by the contracting piezoelectric element 61. As a result, the main shaft portion 4a side of the movable pieces 5aa and 5ab jumps up to Z (+), and the main shaft portion 4a is also displaced toward Z (+).

一方で、図9Dに示すように、可動枠5bのユニモルフ駆動部6c、6dを構成する圧電素子61を伸ばす電圧が印加される。このような電圧が印加されると、伸長する圧電素子61によって、可動片5ba、5bbがZ(+)側を凸に撓む。その結果、可動片5ba、5bbの主軸部4b側はZ(−)に垂れ下がり、主軸部4bもZ(−)に向かって変位する。   On the other hand, as shown to FIG. 9D, the voltage which extends the piezoelectric element 61 which comprises the unimorph drive parts 6c and 6d of the movable frame 5b is applied. When such a voltage is applied, the movable pieces 5ba and 5bb bend the Z (+) side convexly by the extending piezoelectric element 61. As a result, the main shaft portion 4b side of the movable pieces 5ba and 5bb hangs down to Z (-), and the main shaft portion 4b is also displaced toward Z (-).

このように、可動枠5aが主軸部4aをZ(+)に向かって変位させ、可動枠5bが主軸部4bをZ(−)に向かって変位させると、正回転の場合と逆方向にミラー片3bが傾き、ひいては、ミラー片3bはこのY軸を基準にして逆回転することになる。   As described above, when the movable frame 5a displaces the main shaft portion 4a toward Z (+) and the movable frame 5b displaces the main shaft portion 4b toward Z (-), the mirror is reversed in the reverse direction to the case of forward rotation. The piece 3b is inclined, and as a result, the mirror piece 3b rotates in reverse with respect to the Y axis.

ただし、以上のような、Y軸を基準とするミラー片3bの正逆回転の回転角θ(偏向角θ)は、比較的小さい。しかしながら、ミラー枠3aが傾くと、その傾きに追随して、Y軸(Y軸方向)に沿って延びているミラー片トーションバー9a、9bが回転しようとする。   However, the rotation angle θ (deflection angle θ) of forward / reverse rotation of the mirror piece 3b with respect to the Y axis as described above is relatively small. However, when the mirror frame 3a tilts, the mirror piece torsion bars 9a and 9b extending along the Y-axis (Y-axis direction) tend to rotate following the tilt.

そこで、本実施形態の光スキャナ1では、ミラー枠3aを傾かせるために用いる圧電素子61への印加電圧の周波数が、ミラー片トーションバー9a、9b(Y軸方向)を基準とするミラー片3bの、回転振動の共振周波数近傍の周波数となっている。このようになっていると、ミラー枠3aの傾き量が比較的小さかったとしても、ミラー片3bが圧電素子61に印加される電圧の周波数によって共振し、比較的大きく回動するためである。   Therefore, in the optical scanner 1 of the present embodiment, the frequency of the voltage applied to the piezoelectric element 61 used to tilt the mirror frame 3a is the mirror piece 3b based on the mirror piece torsion bars 9a and 9b (Y-axis direction). The frequency is near the resonance frequency of the rotational vibration. This is because, even if the tilt amount of the mirror frame 3a is relatively small, the mirror piece 3b resonates with the frequency of the voltage applied to the piezoelectric element 61 and rotates relatively large.

なお、実際に圧電素子61へ印加される電圧の信号は、X方向を基準にミラー部3を回動させる信号とY方向を基準にミラー部3を回動させる信号とを合成したものである。   The voltage signal actually applied to the piezoelectric element 61 is a combination of a signal for rotating the mirror unit 3 with respect to the X direction and a signal for rotating the mirror unit 3 with respect to the Y direction. .

本実施形態においても、結合部7に一対の溝部81、82(図5参照)から成る屈曲部8が形成されているため、結合部7は屈曲部8部分で急峻に湾曲可能となり、ユニモルフ駆動部6a、6bのZ軸方向の変位が僅かであっても、ミラー部3をX軸及びY軸周りに大きく回転させることができる。また、溝部81、82により結合部7に加わる応力が分散するため、結合部7の曲げ疲労による破損を抑制することができる。   Also in this embodiment, since the bent portion 8 including the pair of groove portions 81 and 82 (see FIG. 5) is formed in the connecting portion 7, the connecting portion 7 can be bent sharply at the bent portion 8 portion, and unimorph drive is performed. Even if the displacements in the Z-axis direction of the parts 6a and 6b are slight, the mirror part 3 can be largely rotated around the X-axis and the Y-axis. Further, since the stress applied to the joint portion 7 by the groove portions 81 and 82 is dispersed, the breakage of the joint portion 7 due to bending fatigue can be suppressed.

なお、屈曲部8を構成する溝部81、82の深さや溝幅、形状、屈曲部8の個数については第1実施形態と同様に設定可能である。また、光スキャナ1の製造方法についても第1実施形態と同様であるため説明を省略する。   The depth, groove width and shape of the groove portions 81 and 82 constituting the bent portion 8 and the number of the bent portions 8 can be set as in the first embodiment. Further, the manufacturing method of the optical scanner 1 is also the same as that of the first embodiment, so that the description thereof is omitted.

以上、第1及び第2実施形態の光スキャナ1について説明したが、光スキャナの構成は本実施形態の構成に限る趣旨ではなく、本発明の目的を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。例えば、ユニモルフ駆動部6a〜6dの形状やサイズ(面積)は特に限定されない。例えば、図3及び図8に示すように、矩形状のユニモルフ駆動部6a〜6dであってもよいし、台形状等の他の形状であってもよい。   The optical scanner 1 of the first and second embodiments has been described above, but the configuration of the optical scanner is not limited to the configuration of the present embodiment, and various modifications can be made without departing from the object of the present invention. . For example, the shape and size (area) of the unimorph drive units 6a to 6d are not particularly limited. For example, as shown in FIGS. 3 and 8, rectangular unimorph drive units 6 a to 6 d may be used, or other shapes such as a trapezoidal shape may be used.

また、ユニモルフ駆動部6a〜6dのサイズは、可動枠5a、5bの一面内に包含される程度の面積であってもよいし(可動枠5a、5bの面積よりも小さい面積;図3及び図8参照)、可動枠5a、5bの一面よりも大きな面積であってもよい。ただし、ユニモルフ駆動部6a〜6dのサイズが大きいほど、可動枠5a、5bを撓ませる力は大きくなるので望ましいといえる。   Further, the size of the unimorph drive units 6a to 6d may be an area included in one surface of the movable frames 5a and 5b (an area smaller than the areas of the movable frames 5a and 5b; FIG. 3 and FIG. 3). 8), the area may be larger than one surface of the movable frames 5a and 5b. However, it can be said that the larger the size of the unimorph drive units 6a to 6d, the greater the force to bend the movable frames 5a and 5b.

また、上記実施形態では、可動枠5a、5bを駆動する駆動手段として圧電ユニモルフ構造を有するユニモルフ駆動部を例に挙げて説明したが、可動枠5a、5bを変形させる部材(駆動部)は、可動枠5a、5bの両面に圧電素子61及び電極62を積層したバイモルフ構造の駆動部を用いても良い。また、ミラー部の駆動方式は圧電素子を用いた圧電駆動方式に限らず、電磁方式や静電方式等の他の駆動方式を用いることもできる。   Moreover, in the said embodiment, although the unimorph drive part which has a piezoelectric unimorph structure was mentioned as an example as a drive means which drives movable frame 5a, 5b, the member (drive part) which deform | transforms movable frames 5a, 5b is described. A drive unit having a bimorph structure in which the piezoelectric element 61 and the electrode 62 are laminated on both surfaces of the movable frames 5a and 5b may be used. Further, the driving method of the mirror unit is not limited to the piezoelectric driving method using the piezoelectric element, and other driving methods such as an electromagnetic method and an electrostatic method can be used.

例えば、図10に示すように、ユニモルフ駆動部6a〜6dに代えて、電磁コイル10と永久磁石11とから成る電磁ユニット13を駆動手段としてもよい。このような電磁ユニット13は、可動枠5a、5b(可動片5aa〜5ad)上に電磁コイル10を形成し、永久磁石11を可動枠5a(5b)の上又は下、若しくは上下に設け、電磁コイル10と永久磁石11の間に電磁力を発生させて可動枠5a、5bを撓ませ、ミラー部3を回転させる。なお、ここでは可動枠5aの一端(可動片5aa)のみを図示しているが、可動枠5aの他端及び可動枠5bについても同様の構成である。   For example, as shown in FIG. 10, an electromagnetic unit 13 including an electromagnetic coil 10 and a permanent magnet 11 may be used as a driving unit instead of the unimorph driving units 6 a to 6 d. In such an electromagnetic unit 13, the electromagnetic coil 10 is formed on the movable frames 5a and 5b (movable pieces 5aa to 5ad), and the permanent magnet 11 is provided above, below, or above and below the movable frame 5a (5b). Electromagnetic force is generated between the coil 10 and the permanent magnet 11 to bend the movable frames 5a and 5b and rotate the mirror unit 3. Although only one end (movable piece 5aa) of the movable frame 5a is shown here, the other end of the movable frame 5a and the movable frame 5b have the same configuration.

また、2個の電極から成る静電ユニットが駆動部であってもよい。このような静電ユニットでは、可動枠5a、5bの一面に一方の電極を配置するとともに、可動枠5a、5bから所定の間隔を隔てて他方の電極を配置し、両電極によって生じる静電力で可動枠5a、5bを撓ませる。   The electrostatic unit composed of two electrodes may be the drive unit. In such an electrostatic unit, one electrode is disposed on one surface of the movable frames 5a and 5b, and the other electrode is disposed at a predetermined interval from the movable frames 5a and 5b. The movable frames 5a and 5b are bent.

また、上記各実施形態では一枚のシリコン基板からマスキング及びエッチングにより光スキャナ1の各部材を一体形成することとしたが、光スキャナ1の製法は上述した方法に限定されず、固定枠2、ミラー部3、可動枠5a、5b等の各部材を別個に作成した後、接合することも可能である。   In each of the above embodiments, the members of the optical scanner 1 are integrally formed by masking and etching from a single silicon substrate. However, the manufacturing method of the optical scanner 1 is not limited to the above-described method, and the fixed frame 2, Each member such as the mirror unit 3 and the movable frames 5a and 5b can be separately formed and then joined.

なお、説明してきた光スキャナ1を搭載する光学機器は、種々想定される。例えば、図1に示したプロジェクタ(画像投影装置)の他、コピー機やプリンタ等の画像形成装置が一例として挙げられる。また、光スキャナ以外のマイクロスキャナとしては、ミラー部3に代えてレンズ(屈曲光学系)が搭載されたものや、光源(発光素子)が搭載されたものが挙げられる。   Note that various types of optical devices equipped with the optical scanner 1 described above are assumed. For example, in addition to the projector (image projection apparatus) shown in FIG. 1, an image forming apparatus such as a copier or a printer can be cited as an example. Further, examples of micro scanners other than the optical scanner include those equipped with a lens (bending optical system) instead of the mirror unit 3 and those equipped with a light source (light emitting element).

以上説明したように本発明のマイクロスキャナによれば、変動部と可動枠とを連結する結合部に回転軸と平行な一対の溝部から成り、溝部の深さの和が結合部の厚みよりも大きい屈曲部を形成した構成となっている。このため、簡易な構成で変動部を高速且つ広角度に回転でき、更にそのような条件で使用しても十分な耐久性を有するため、光走査装置に搭載することにより、高速に光走査を行う必要があるプロジェクタ等の画像表示装置や高速LBPへの適用が可能となる。また、光走査装置及びそれが搭載される画像表示装置の小型化、低コスト化にも寄与する。   As described above, according to the microscanner of the present invention, the coupling portion that couples the variable portion and the movable frame includes a pair of groove portions parallel to the rotation axis, and the sum of the depths of the groove portions is larger than the thickness of the coupling portion. A large bent portion is formed. For this reason, the variable part can be rotated at a high speed and a wide angle with a simple configuration, and has sufficient durability even when used under such conditions. Application to an image display device such as a projector or a high-speed LBP that needs to be performed is possible. It also contributes to the downsizing and cost reduction of the optical scanning device and the image display device on which it is mounted.

は、本発明の画像表示装置の概略構成を示すブロック図である。These are block diagrams which show schematic structure of the image display apparatus of this invention. は、色合成プリズムを用いない画像表示装置の構成例を示す説明図である。These are explanatory drawings which show the structural example of the image display apparatus which does not use a color synthetic | combination prism. は、本発明の第1実施形態に係る光スキャナの構成を示す平面図である。These are top views which show the structure of the optical scanner which concerns on 1st Embodiment of this invention. は、図3のA−A’線矢視断面図であり、図4(A)はX方向を基準に正回転する状態を示し、図4(B)はX方向を基準に逆回転する状態を示す。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 3, FIG. 4A shows a state of normal rotation with reference to the X direction, and FIG. 4B shows a state of reverse rotation with reference to the X direction. Indicates. は、第1実施形態の光スキャナにおける結合部の断面拡大図である。These are the expanded sectional views of the coupling | bond part in the optical scanner of 1st Embodiment. は、主軸部の両側に複数対の屈曲部を設けた例を示す断面拡大図である。These are the expanded sectional views which show the example which provided several pairs of bending parts in the both sides of the main-shaft part. は、結合部に設けられる屈曲部の他の形状を示す断面拡大図である。These are the expanded sectional views which show the other shape of the bending part provided in a coupling | bond part. は、本発明の第2実施形態に係る光スキャナの平面図である。These are the top views of the optical scanner which concerns on 2nd Embodiment of this invention. は、図8のB−B’線矢視断面図(図9(A)、(C))、及びC−C’線矢視断面図(図9(B)、(D))を示しており、図9(A)、(B)はY方向を基準とする正回転の動作を示し、図9(C)、(D)はY方向を基準とする逆回転の動作を示す。FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ in FIG. 8 (FIGS. 9A and 9C) and a cross-sectional view taken along the line CC ′ in FIG. 9 (FIGS. 9B and 9D). FIGS. 9A and 9B show the forward rotation operation based on the Y direction, and FIGS. 9C and 9D show the reverse rotation operation based on the Y direction. は、駆動手段として電磁方式を採用した光スキャナの部分平面図である。These are the partial top views of the optical scanner which employ | adopted the electromagnetic system as a drive means. は、従来の光スキャナの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a conventional optical scanner. は、図11とは異なる従来の光スキャナの平面図である。These are the top views of the conventional optical scanner different from FIG. は、図12のA−A’線矢視断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 12.

符号の説明Explanation of symbols

1 光スキャナ(マイクロスキャナ)
2 固定枠
3 ミラー部(変動部)
3a ミラー枠
3b ミラー片
4a、4b 主軸部
5a、5b 可動枠
6a〜6d ユニモルフ駆動部(駆動手段)
7 結合部
8 屈曲部
9a、9b ミラー片トーションバー
10 電磁コイル(駆動手段)
11 永久磁石(駆動手段)
21〜23 光源
24 色合成プリズム
40 光走査装置
61 圧電素子
62 電極
81 溝部(表面側)
82 溝部(裏面側)
100 プロジェクタ
1 Optical scanner (micro scanner)
2 Fixed frame 3 Mirror part (variable part)
3a Mirror frame 3b Mirror piece 4a, 4b Main shaft part 5a, 5b Movable frame 6a-6d Unimorph drive part (drive means)
7 Coupling portion 8 Bending portion 9a, 9b Mirror piece torsion bar 10 Electromagnetic coil (driving means)
11 Permanent magnet (drive means)
21-23 Light source 24 Color synthesis prism 40 Optical scanning device 61 Piezoelectric element 62 Electrode 81 Groove (front side)
82 Groove (Back side)
100 projector

Claims (8)

変動部と、
該変動部を揺動可能に支持する主軸部と、
該主軸部と垂直な方向に延び、前記主軸部を保持する変形可能な可動枠と、
可動枠上に設けられ、前記可動枠を湾曲させて前記変動部を傾斜させる駆動手段と、
前記可動枠を湾曲可能に支持する固定枠と、
を含むマイクロスキャナにあって、
前記可動枠は、前記駆動手段が設けられていない部分に前記主軸部が連結される結合部を有し、
前記結合部には、表面側及び裏面側に形成された前記主軸部に対し略平行な一対の溝部から成る屈曲部が前記主軸部の連結位置の両側に形成されており、
前記一対の溝部の深さの和は前記結合部の厚みよりも大きいことを特徴とするマイクロスキャナ。
Variable part,
A main shaft portion that swingably supports the variable portion;
A deformable movable frame extending in a direction perpendicular to the main shaft portion and holding the main shaft portion ;
Provided on the movable frame, and drive means for tilting the variable portion by curving the movable frame,
A fixed frame that supports the movable frame in a bendable manner;
Including a micro scanner,
The movable frame has a coupling portion to which the main shaft portion is coupled to a portion where the driving means is not provided,
In the coupling portion , a bent portion composed of a pair of groove portions substantially parallel to the main shaft portion formed on the front surface side and the back surface side is formed on both sides of the connection position of the main shaft portion,
The sum of the depth of a pair of said groove part is larger than the thickness of the said connection part, The micro scanner characterized by the above-mentioned.
前記屈曲部は、前記可動枠の延び方向に沿って前記主軸部の両側にそれぞれ複数箇所形成されることを特徴とする請求項1に記載のマイクロスキャナ。   2. The micro scanner according to claim 1, wherein a plurality of the bent portions are formed on both sides of the main shaft portion along the extending direction of the movable frame. 前記各屈曲部は、それを構成する溝部の溝幅及び深さのうち少なくとも一つが異なることを特徴とする請求項2に記載のマイクロスキャナ。   The micro scanner according to claim 2, wherein each of the bent portions is different in at least one of a groove width and a depth of a groove portion constituting the bent portion. 前記各屈曲部は、それを構成する溝部の溝幅及び深さのうち少なくとも一つが前記主軸部から遠ざかるにつれて段階的に小さくなるように形成されることを特徴とする請求項3に記載のマイクロスキャナ。   4. The micro of claim 3, wherein each of the bent portions is formed such that at least one of a groove width and a depth of a groove portion constituting the bent portion decreases stepwise as the distance from the main shaft portion increases. Scanner. 上記変動部は、金属膜を含むことで光を反射させるミラー部であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のマイクロスキャナ。   5. The micro scanner according to claim 1, wherein the variable portion is a mirror portion that reflects light by including a metal film. 6. 前記変動部、前記主軸部、前記可動枠及び前記固定枠は、シリコン基板を用いて一体形成されており、前記溝部はエッチング法により設けられることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のマイクロスキャナ。   The variable portion, the main shaft portion, the movable frame, and the fixed frame are integrally formed using a silicon substrate, and the groove portion is provided by an etching method. The micro scanner according to claim 1. 前記駆動手段は、圧電素子と、該圧電素子を挟む電極とが前記可動枠上に配置されたユニモルフ駆動部であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のマイクロスキャナ。   The said drive means is a unimorph drive part by which the piezoelectric element and the electrode which pinches | interposes this piezoelectric element are arrange | positioned on the said movable frame, The any one of Claim 1 thru | or 6 characterized by the above-mentioned. Micro scanner. 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のマイクロスキャナが搭載された光走査装置。   An optical scanning device on which the micro scanner according to claim 1 is mounted.
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