JP4954321B2 - 顕微鏡 - Google Patents
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Description
また、本発明の顕微鏡は、投影光学系により撮像素子に投影された第1対象物を撮像する撮像部と、前記撮像部で第2対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記第2対象物の計測を行う計測部と、前記撮像部における前記第1対象物の撮像に並行して前記計測部における前記第2対象物の計測を行う制御部と、を有し、前記第2対象物は検体を含み、前記計測部は、前記第2対象物の位置、姿勢、厚さ、うねりの少なくとも1つの計測、透過または反射光量の計測、前記検体の形状寸法の計測のいずれか1つ以上を行い、前記制御部は、前記計測部での計測結果を用いて前記撮像条件を設定することを特徴とする。
また、本発明の顕微鏡は、投影光学系により撮像素子に投影された第1対象物を撮像する撮像部と、前記撮像部で第2対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記第2対象物の計測を行う計測部と、前記撮像部における前記第1対象物の撮像に並行して前記計測部における前記第2対象物の計測を行う制御部と、を有し、前記撮像条件は、前記撮像部で前記第2対象物を撮像する際の前記第2対象物の位置または姿勢、前記第2対象物に照明する光の光量または波長、前記第2対象物を撮像する際の撮像領域、撮像時間、視野遮蔽領域、光路長補正量のいずれか1つ以上を含むことを特徴とする。
以下、本発明の第1実施形態に係る顕微鏡におけるシステム構成例について図面を用いて説明する。
第2実施形態について図3と図4を用いて説明する。ここで示すシステム構成は、第1実施形態とは主に対象物の搬送装置や計測部の構成が異なる。
2 計測部
10 第1対象物
15 第2対象物
20 第1照明ユニット
25 第2照明ユニット
30 第3照明ユニット
40 投影ユニット
50 第1撮像ユニット
61 第2撮像ユニット
100 制御部
Claims (17)
- 投影光学系により撮像素子に投影された第1対象物を撮像する撮像部と、
前記撮像部で第2対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記第2対象物の計測を行う計測部と、
前記計測部により計測を行う位置から前記撮像部により撮像を行う位置へ前記第2対象物を搬送する搬送部と、
前記撮像部における前記第1対象物の撮像に並行して前記計測部における前記第2対象物の計測を行う制御部と、を有し、
前記搬送部により前記第2対象物を搬送することに並行して、前記制御部は、前記計測部における前記第2対象物の計測結果を用いて前記撮像部で前記第2対象物を撮像する際に用いる前記撮像条件の設定を行うことを特徴とする顕微鏡。 - 投影光学系により撮像素子に投影された第1対象物を撮像する撮像部と、
前記撮像部で第2対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記第2対象物の計測を行う計測部と、
前記撮像部における前記第1対象物の撮像に並行して前記計測部における前記第2対象物の計測を行う制御部と、を有し、
前記第2対象物は検体を含み、
前記計測部は、前記第2対象物の位置、姿勢、厚さ、うねりの少なくとも1つの計測、透過または反射光量の計測、前記検体の形状寸法の計測のいずれか1つ以上を行い、
前記制御部は、前記計測部での計測結果を用いて前記撮像条件を設定することを特徴とする顕微鏡。 - 前記第2対象物は、更にカバーガラスを含み、
前記計測部は、前記第2対象物の位置、姿勢、厚さ、うねりの少なくとも1つの計測、透過または反射光量の計測、前記検体の形状寸法の計測、前記カバーガラスの厚さの計測のいずれか1つ以上を行い、
前記制御部は、前記計測部での計測結果を用いて前記撮像条件を設定することを特徴とする請求項2に記載の顕微鏡。 - 前記撮像部の光路中に出し入れ可能な光学素子を含み、
前記カバーガラスの厚さによって、前記光学素子の出し入れが決定されることを特徴とする請求項3に記載の顕微鏡。 - 前記撮像部の光路中に出し入れ可能な複数の光学素子を含み、
前記カバーガラスの厚さによって、前記複数の光学素子のうち前記光路中に入れられる光学素子が決定されることを特徴とする請求項3に記載の顕微鏡。 - 前記うねりの計測は、レーザ変位計または超音波変位計または斜入射型の光学式変位計を用いて行うことを特徴とする請求項2乃至5のいずれか1項に記載の顕微鏡。
- 前記撮像条件は、前記撮像部で前記第2対象物を撮像する際の前記第2対象物の位置または姿勢、前記第2対象物に照明する光の光量または波長、前記第2対象物を撮像する際の撮像領域、撮像時間、視野遮蔽領域、光路長補正量のいずれか1つ以上を含むことを特徴とする請求項2乃至6のいずれか1項に記載の顕微鏡。
- 投影光学系により撮像素子に投影された第1対象物を撮像する撮像部と、
前記撮像部で第2対象物を撮像する際に用いる撮像条件を設定するために前記第2対象物の計測を行う計測部と、
前記撮像部における前記第1対象物の撮像に並行して前記計測部における前記第2対象物の計測を行う制御部と、を有し、
前記撮像条件は、前記撮像部で前記第2対象物を撮像する際の前記第2対象物の位置または姿勢、前記第2対象物に照明する光の光量または波長、前記第2対象物を撮像する際の撮像領域、撮像時間、視野遮蔽領域、光路長補正量のいずれか1つ以上を含むことを特徴とする顕微鏡。 - 前記計測部により計測を行う位置から前記撮像部により撮像を行う位置へ前記第2対象物を搬送する搬送部を有することを特徴とする請求項2乃至8のいずれか1項に記載の顕微鏡。
- 前記搬送部により前記第2対象物を搬送することに並行して、前記制御部は、前記計測部における前記第2対象物の計測結果を用いて前記撮像部で前記第2対象物を撮像する際に用いる前記撮像条件の設定を行うことを特徴とする請求項9に記載の顕微鏡。
- 前記撮像素子は、部分読み出し可能なアドレス回路により制御されるCMOSセンサであり、
前記撮像部は、前記第1または第2対象物の撮像領域に応じて前記CMOSセンサの読み出し画素のアドレスを選択することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の顕微鏡。 - 前記投影光学系は、レンズとミラーとを含み、
少なくとも前記レンズまたは前記ミラーの、少なくとも位置または姿勢を調整することで前記投影光学系の収差補正を行う調整機構を有することを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の顕微鏡。 - 前記搬送部は、回転ステージであることを特徴とする請求項1、9及び10のいずれか1項に記載の顕微鏡。
- 前記回転ステージは、前記第2対象物を保持する微動ステージを含み、
前記回転ステージ及び前記微動ステージには、照明部からの光を通過させるための開口が設けられていることを特徴とする請求項13に記載の顕微鏡。 - 前記微動ステージは、前記第2対象物を真空吸着または機械的に保持することを特徴とする請求項14に記載の顕微鏡。
- 前記搬送部は、第1粗動ステージと第1微動ステージとを含み前記第1対象物を保持する第1搬送装置と、第2粗動ステージと第2微動ステージとを含み前記第2対象物を保持する第2搬送装置とを含み、
前記第2搬送装置によって、前記計測部により計測を行う位置から前記撮像部により撮像を行う位置へ前記第2対象物を搬送することに並行して、前記第1搬送装置によって、前記撮像部から前記第1対象物を搬出する位置へ前記第1対象物を搬送することを特徴とする請求項1、9及び10のいずれか1項に記載の顕微鏡。 - 前記第1及び第2対象物は、プレパラートであることを特徴とする請求項1乃至16に記載の顕微鏡。
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