JP4948022B2 - 光学フィルター - Google Patents

Description

本発明は、特定の構造を有する化合物を用いた光学フィルターに関する。該光学フィルターは、特に、画像表示装置用の光学フィルターとして有用である。

特定の光に対して強度の大きい吸収を有する化合物は、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、青色レーザ記録ディスク等の光学記録媒体の記録層や、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置の光学要素として用いられている。

液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置用の光学フィルターにおいては、３００〜１１００ｎｍの波長の光を吸収する各種化合物が、光吸収剤として用いられている。
更に近年、表示素子の色純度や色分離を十分にし、画像品質を高いものにするために、特に３８０〜５００ｎｍの波長を選択的に吸収する光吸収剤が求められている。これらの光吸収剤には、光吸収が特別に急峻であること、即ちλmaxの半値幅が小さいこと、また光や熱等により機能が失われないことが求められる。

例えば、下記特許文献１には、紫外線吸収剤を含有し、２００〜４１０ｎｍの光を遮断する有機ＥＬディスプレイ素子用フィルターが報告されている。しかし、この有機ＥＬディスプレイ素子用フィルターに用いられている紫外線吸収剤は、光学フィルター用の紫外線吸収剤としては、その吸収波長特性が必ずしも適合するものではなかった。

尚、下記特許文献２には、カラーフィルタ用光重合性組成物における増感剤として特定の構造を持つ化合物が開示されており、下記特許文献３には、特定の構造を持つ化合物を含有する光情報記録媒体が開示されているが、該化合物を光学フィルターとして用いることは何等示唆されていない。

特開２００４−１０２２２３号公報 特開平９−１０５８１１号公報 特開２００１−７１６３９号公報

従って、本発明の目的は、特に３８０〜５００ｎｍの波長の光に対する光学要素、とりわけ画像表示装置用の光学フィルターに用いられる光吸収剤に適した化合物を提供することにある。

本発明者等は、種々検討を重ねた結果、特定の構造を持つ化合物が、上記光学要素として満足する吸収波長特性を持つことを見出し、本発明に到達した。

本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を単位面積当たり１〜１０００ｍｇ含有してなる光学フィルターを提供するものである。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、アミノ基又は水酸基を表し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ²とＲ³、Ｒ³とＲ⁴及びＲ⁴とＲ⁵は、それぞれ連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ⁶は、シアノ基、−ＣＯＯＲ、−ＯＣＯＲ、−ＣＯＮＨＲ、−ＮＨＣＯＲ、−ＣＯＯＮＨＲ、−ＮＨＣＯＯＲ、−ＣＯＲ、−ＳＯ₂Ｒ、−ＳＯＲ、−ＳＯ₂ＮＲＲ’ 、ハロゲン原子、ニトロ基又はホスホノ基を表し、Ｒ及びＲ’は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表し、上記炭素原子数１〜８のアルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよい。）

本発明によれば、３８０〜５００ｎｍの波長の光に対する光学要素として適し、半値幅の狭い化合物を提供することができる。また、該化合物を用いた光学フィルターは、画像表示用光学フィルターとして好適なものである。

以下、本発明の光学フィルターを、その好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。

まず、上記一般式（Ｉ）で表される化合物について説明する。
上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵、並びにＲ⁶中の基であるＲ及びＲ’で表される炭素原子数１〜８のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ、Ｒ⁶中の基であるＲ及びＲ’で表される炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラセン−１−イル、フェナントレン−１−イル等が挙げられ、Ｒ⁶中の基であるＲ及びＲ’で表される炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられ、Ｒ⁶で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹とＲ²、Ｒ²とＲ³、Ｒ³とＲ⁴及びＲ⁴とＲ⁵が、それぞれ連結して形成する環構造としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、テトラヒドロピラン環、ピペリジン環、ピペラジン環、ピロリジン環、モルフォリン環、チオモルフォリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、オキサゾール環、イミダゾリジン環、ピラゾリジン環、イソオキサゾリジン環、イソチアゾリジン環等が挙げられ、これらの環は他の環と縮合されていたり、置換されていたりしてもよい。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵、並びにＲ⁶中の基であるＲ及びＲ’で表される炭素原子数１〜８のアルキル基、Ｒ⁶中の基であるＲ及びＲ’で表される炭素原子数６〜２０のアリール基、Ｒ⁶中の基であるＲ及びＲ’で表される炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵で表されるアミノ基は、いずれも、置換基を有していてもよい。該置換基としては、以下のものが挙げられる。尚、Ｒ¹〜Ｒ⁶並びにＲ及びＲ’が、上記の炭素原子数１〜８のアルキル基等の炭素原子を含有する基であり、且つ、それらの基が、以下の置換基の中でも、炭素原子を含有する置換基を有する場合は、該置換基を含めたＲ¹〜Ｒ⁶並びにＲ及びＲ’全体の炭素原子数が、規定された範囲を満たすものとする。
上記置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、シクロペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基；メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、第三アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、第三ヘプチルチオ、ｎ−オクチルチオ、イソオクチルチオ、第三オクチルチオ、２−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基；ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、２−プロペニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、イソブテニル、３−ペンテニル、４−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基；ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基；フェニル、ナフチル等のアリール基；フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基；フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基；ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル等の複素環基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；アセチル、２−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル（ベンゾイル）、フタロイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基；スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、トリアルキルシリル基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基等が挙げられ、これらの基は更に置換されていてもよい。また、カルボキシル基及びスルホ基は無機塩基又は有機塩基と塩、錯体又は複合体を形成していてもよい。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては、Ｒ⁶がシアノ基又は−ＣＯＯＲであるものが、耐光性が高く、安価に製造できるので好ましい。また、Ｒ³がアミノ基であるものが、半値巾が小さく、溶解性が高いので好ましい。

本発明の光学フィルターにおいて、上記一般式（Ｉ）で表される化合物は、単独又は複数種を組み合わせて用いることができる。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、下記化合物Ｎｏ．１〜２２が挙げられる。

本発明の光学フィルターにおいて、上記一般式（Ｉ）で表される本発明に係る化合物の使用量は、光学フィルターの単位面積当たり、１〜１０００ｍｇ／ｍ²、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²であり、１ｍｇ／ｍ²未満の使用量では、光吸収効果を十分に発揮することができず、１０００ｍｇ／ｍ²を超えて使用した場合には、フィルターの色目が強くなりすぎて表示品質等を低下させるおそれがあり、さらには、明度が低下するおそれもある。

次に、本発明の光学フィルターについて説明する。
本発明の光学フィルターは、上記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する。該化合物は、吸収極大波長を３８０〜５００ｎｍの範囲内又はその付近に持ち、一部の可視光線又は紫外線を選択的に吸収して遮断することができるので、該化合物を含有する本発明の光学フィルターは、表示画像の高品質化に用いられる画像表示装置用の光学フィルターとして特に好適なものである。本発明の光学フィルターは、画像表示装置用の他に、分析装置用、半導体装置製造用、天文観測用、光通信用、眼鏡レンズ等の各種用途にも用いることができる。

本発明の光学フィルターは、通常ディスプレイの前面に配置される。例えば、本発明の光学フィルターは、ディスプレイの表面に直接貼り付けてもよく、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）または裏側（ディスプレイ側）に貼り付けてもよい。

本発明の光学フィルターの形状に関しては、特に制限されるものではないが、通常、透明支持体に、必要に応じて下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層、保護層等の各層を設けたものが挙げられる。上記一般式（Ｉ）で表される本発明に係る化合物や、本発明に係る化合物以外の色素化合物である光吸収剤、各種安定剤の任意成分を本発明の光学フィルターに含有させる方法としては、例えば、（１）透明支持体又は任意の各層に含有させる方法、（２）透明支持体又は任意の各層にコーティングする方法、（３）透明支持体及び任意の各層から選択される任意の隣合う二者間の粘着剤層に含有させる方法、（４）任意の各層とは別に、本発明に係る化合物等の光吸収剤等を含有する光吸収層を設ける方法が挙げられる。

上記透明支持体の材料としては、例えば、ガラス等の無機材料；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル；ポリアミド；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリスチレン；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテルイミド；ポリオキシエチレン、ノルボルネン樹脂等の高分子材料が挙げられる。透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましい。また、上記透明支持体が樹脂である場合、該樹脂のＴｇは、本発明の光学フィルターを使用する装置（例えばプラズマディスプレイ等）の使用保証温度、好ましくは８５〜１６０℃であることが好ましい。樹脂のＴｇが使用保証温度未満であると、使用の際に樹脂中の色素化合物が樹脂あるいは他の添加剤等と相互作用したり、樹脂が外気中の水分を吸収して樹脂あるいは色素化合物の劣化が促進される場合がある。

上記透明支持体中には、上記一般式（Ｉ）で表される本発明に係る化合物以外の他の光吸収剤、紫外線吸収剤、フェノール系、リン系等の酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、無機微粒子、耐光性付与剤、芳香族ニトロソ化合物、アミニウム化合物、イミニウム化合物、ビスイミニウム化合物、遷移金属キレート化合物、レベリング剤、分散剤、界面活性剤、可塑剤等を添加することができ、また、上記透明支持体には、各種の表面処理を施すこともできる。

上記本発明に係る化合物以外の光吸収剤としては、例えば、光学フィルターを画像表示装置用途に用いる場合には、色調調整用、外光の反射や映り込み防止用の光吸収剤、あるいは、画像表示装置がプラズマディスプレイの場合には、赤外リモコン誤作動防止用の光吸収剤が挙げられる。

上記色調調整用の上記光吸収剤としては、５５０〜６００ｎｍのオレンジ光の除去のために用いられるものとして、トリメチンインドリウム化合物、トリメチンベンゾオキサゾリウム化合物、トリメチンベンゾチアゾリウム化合物等のトリメチンシアニン誘導体；ペンタメチンオキサゾリウム化合物、ペンタメチンチアゾリウム化合物等のペンタメチンシアニン誘導体；シアニン色素誘導体；アゾメチン色素誘導体；キサンテン色素誘導体；アゾ色素誘導体；オキソノール色素誘導体；ベンジリデン色素誘導体；ピロメテン色素誘導体；アゾ金属錯体誘導体：ローダミン色素誘導体；フタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体；ジピロメテン金属キレート化合物等が挙げられる。

上記の外光の反射や映り込み防止用の光吸収剤（４８０〜５００ｎｍ対応）としては、トリメチンインドリウム化合物、トリメチンオキサゾリウム化合物、トリメチンチアゾリウム化合物、インドリデントリメチンチアゾニウム化合物等のトリメチンシアニン誘導体；フタロシアニン誘導体；ナフタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体；ジピロメテン金属キレート化合物等が挙げられる。

上記赤外リモコン誤作動防止用の光吸収剤（７５０〜１１００ｎｍ対応）としては、ビスイミニウム誘導体；ペンタメチンベンゾインドリウム化合物、ペンタメチンベンゾオキサゾリウム化合物、ペンタメチンベンゾチアゾリウム化合物等のペンタメチンシアニン誘導体；ヘプタメチンインドリウム化合物、ヘプタメチンオキサゾリウム化合物、ヘプタメチンベンゾオキサゾリウム化合物、ヘプタメチンチアゾリウム化合物、ヘプタメチンベンゾチアゾリウム化合物等のヘプタメチンシアニン誘導体；スクアリリウム誘導体；ビス（スチルベンジチオラト）化合物、ビス（ベンゼンジチオラト）ニッケル化合物、ビス（カンファージチオラト）ニッケル化合物等のニッケル錯体；スクアリリウム誘導体；アゾ色素誘導体；フタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体；ジピロメテン金属キレート化合物等が挙げられる。

本発明の光学フィルターにおいて、上記の色調調整用の光吸収剤、外光の反射や映り込み防止用の光吸収剤の光吸収剤、及び赤外リモコン誤作動防止用の光吸収剤（近赤外線吸収剤）は、本発明に係る化合物と同一の層に含有されていてもよく、別の層に含有されていてもよい。それらの使用量はそれぞれ、通常光学フィルターの単位面積当たり１〜１０００ｍｇ／ｍ²の範囲であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²である。

また、透明支持体に添加することができる上記無機微粒子としては、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン等が挙げられる。

透明支持体に施すことができる上記の各種の表面処理としては、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理等が挙げられる。

上記下塗り層は、任意の各層とは別に光吸収剤を含有するフィルター層を設ける場合に、透明支持体と光フィルター層との間に用いる層である。上記下塗り層は、ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む層、フィルター層側の表面が粗面である層、又はフィルター層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成する。また、下塗り層は、フィルター層が設けられていない透明支持体の面に設けて、透明支持体とその上に設けられる層（例えば、反射防止層、ハードコート層）との接着力を改善するために設けてもよく、光学フィルターと画像表示装置とを接着するための接着剤と光学フィルターとの親和性を改善するために設けてもよい。下塗り層の厚みは、２ｎｍ〜２０μｍが好ましく、５ｎｍ〜５μｍがより好ましく、２０ｎｍ〜２μｍがさらに好ましく、５０ｎｍ〜１μｍがさらにまた好ましく、８０ｎｍ〜３００ｎｍが最も好ましい。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーは、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル又はメチルビニルエーテルの重合又はこれらの共重合により得ることができる。ガラス転移温度は、５０℃以下であることが好ましく、４０℃以下であることがより好ましく、３０℃以下であることがさらに好ましく、２５℃以下であることがさらにまた好ましく、２０℃以下であることが最も好ましい。下塗り層の２５℃における弾性率は、１〜１０００ＭＰａであることが好ましく、５〜８００ＭＰａであることがさらに好ましく、１０〜５００ＭＰａであることが最も好ましい。フィルター層の表面が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形成することで、透明支持体とフィルター層とを接着する。フィルター層の表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布により容易に形成することができる。ラテックスの平均粒径は、０．０２〜３μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。フィルター層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーとしては、アクリル樹脂、セルロース誘導体、アルギン酸、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、可溶性ナイロン及び高分子ラテックス等が挙げられる。また、本発明の光学フィルターには、二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤、硬膜剤等を添加してもよい。

上記反射防止層においては、低屈折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０であることがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、５０〜４００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−１３０１０３号、特開平６−１１５０２３号、特開平８−３１３７０２号、特開平７−１６８００４号の各公報記載）、ゾルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１号、特開平６−２９９０９１号、特開平７−１６８００３号の各公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５９２５０号、特開平５−１３０２１号、特開平６−５６４７８号、特開平７−９２３０６号、特開平９−２８８２０１号の各公報に記載）として形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間又は微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層は、３〜５０体積％の空隙率を有することが好ましく、５〜３５体積％の空隙率を有することがさらに好ましい。

広い波長領域の反射を防止するためには、上記反射防止層において、低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．９０であることが好ましく、１．５５〜１．７０であることがさらに好ましい。中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン共重合体、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアミド、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、環状（脂環式又は芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタン等が挙げられる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応により形成されたポリマーを用いてもよい。

さらに高い屈折率を得るため、上記ポリマーバインダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は硫化物としては、酸化チタン（例えば、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛等が挙げられる。これらの中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ等が挙げられる。被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物（例えばキレート化合物）、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成することもできる。

上記反射防止層の表面には、アンチグレア機能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能）を付与することができる。例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成してその表面に反射防止層を形成するか、あるいは、反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を有する反射防止層を得ることができる。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３〜３０％のヘイズを有する。

上記ハードコート層は、上記透明支持体の硬度よりも高い硬度を有する。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマー又はモノマー（例えば紫外線硬化型樹脂）等を用いて形成することができる。シリカ系材料からハードコート層を形成することもできる。

上記反射防止層（低屈折率層）の表面は、潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、低屈折率層表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例えばシリコンオイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤又はその誘導体を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍであることが好ましい。

上記一般式（Ｉ）で表される本発明に係る化合物を光学フィルターに含有させる際、前記「（３）透明支持体及び任意の各層から選択される任意の隣合う二者間の粘着剤層に含有させる方法」を採用する場合には、本発明に係る化合物等を粘着剤に含有させた後、該粘着剤を用いて、上述した透明支持体及び任意の各層のうちの隣合う二者を接着すればよい。該粘着剤としては、シリコン系、ウレタン系、アクリル系等の粘着剤、ポリビニルブチラール接着剤、エチレン−酢酸ビニル系接着剤等の公知の合わせガラス用透明接着剤を用いることができる。また、該粘着剤を用いる場合、必要に応じて、硬化剤として、金属キレート系、イソシアネート系、エポキシ系等の架橋剤を用いることができる。また、粘着剤層の厚みは、２〜４００μｍとすることが好ましい。

前記「（４）任意の各層とは別に、本発明に係る化合物等の光吸収剤を含有する光吸収層を設ける方法」を採用する場合、本発明に係る化合物は、そのまま使用して光吸収層を形成することもできるし、バインダーに分散させて光吸収層を形成することもできる。該バインダーとしては、例えば、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料、あるいは、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド等の合成高分子材料が用いられる。

上記バインダーを使用する際には、同時に有機溶媒を使用することもでき、該有機溶媒としては、特に限定されることなく公知の種々の溶媒を適宜用いることができ、例えば、イソプロパノール等のアルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類；アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；メチレンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で又は混合して用いることができる。

また、上記の下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層、フィルター層等は、一般的な塗布方法により形成することができる。塗布方法としては、バーコート法、ディップコート法、キスコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ブレードコート法、リップコート法、ホッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書記載）等が挙げられる。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法については、米国特許第２７６１７９１号、米国特許第２９４１８９８号、米国特許第３５０８９４７号、米国特許第３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発行）に記載がある。

以下、製造例、実施例及び比較例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるものではない。
製造例１は化合物Ｎｏ．１の製造例を示す。尚、実施例６〜１６で使用する上記一般式（Ｉ）で表される他の化合物についても、上記合成方法に準じて合成した。
実施例１〜５は、製造例１で得られた化合物を用いた本発明の光学フィルターの作成例を示し、実施例６〜１６は、上記一般式（Ｉ）で表される他の化合物を用いた本発明の光学フィルターの作成例を示し、比較例１は、比較化合物を用いた比較光学フィルターの作成例を示す。

[製造例１] 化合物Ｎｏ．１の合成
窒素置換した反応フラスコに、ジエチルアミノベンズアルデヒド３２８ｇ（１．８５ｍｏｌ）、シアノ酢酸エチル２５１ｇ（２．２２ｍｏｌ）及びエタノール５００ｇを仕込み、５０℃でトリエチルアミン１８．７ｇ（０．１８９ｍｏｌ）を滴下して７０℃で２．５時間加熱した。室温に冷却後、析出した固体をろ別した。エタノールで洗浄後、減圧乾燥を経て、橙色固体４６７ｇ（収率９３％）を得た。得られた橙色固体は、目的物である化合物Ｎｏ．１であることを確認した。得られた橙色固体についての分析結果を以下に示す。

（分析結果）
（１）¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（１．１２；ｔ；６）、（１．２６；ｔ；３）、（３．４４；ｑ；４）、（４．２３；ｑ；２）、（６．７９；ｄ；２）、（７．９２；ｄ：２）、（８．０５；ｓ；１）
（２）ＵＶ吸収測定（クロロホルム溶媒）
λｍａｘ；４２９．５ｎｍ、ε；５．５０×１０⁴
（３）分解温度（ＴＧ−ＤＴＡ：１００ｍｌ／分窒素気流中、昇温１０℃／分）
９６．９℃；融点、２７２．５℃；ピークトップ

〔実施例１〕光学フィルターの作成１
下記の配合にて塗工液を調製し、易密着処理した１８８μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該塗工液をバーコーター＃９により塗布した後、１００℃で３分乾燥させ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に膜厚１０μｍのフィルム層を有する光学フィルター（化合物No.1の含有量２．０ｍｇ／ｍ²）を得た。この光学フィルターについて、日本分光（株）製紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０で吸収スペクトルを測定したところ、λmaxが４３０ｎｍで半値幅が４７ｎｍであった。

（配合）
スミペックス ＬＧ ２．５ｇ
（住友化学（株）製アクリル系樹脂バインダー、樹脂分４０質量％）
化合物Ｎｏ．１ ２ｍｇ
メチルエチルケトン ２．５ｇ

〔実施例２〕光学フィルターの作成２
下記の配合にて粘着剤溶液を調製し、易密着処理した１８８μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該粘着剤溶液をバーコーター＃３０により塗布した後、１００℃で１０分間乾燥させ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にフィルム上に厚さ約１０μｍの粘着剤層を有する光学フィルター（化合物No.1の含有量２．０ｍｇ／ｍ²）を得た。この光学フィルターについて、日本分光（株）製紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０で測定したところ、λmaxが４２９ｎｍで半値幅が４８ｎｍであった。

（配合）
化合物Ｎｏ．１ ２．０ｍｇ
アクリル系粘着剤（デービーボンド５５４１：ダイアボンド社製） ２０ｇ
メチルエチルケトン ８０ｇ

〔実施例３〕光学フィルターの作成３
下記の配合をプラストミルで２６０℃にて５分間溶融混練した。混練後、直径６ｍｍのノズルから押出し水冷却ペレタイザーで色素含有ペレットを得た。このペレットを、電気プレスを用いて２５０℃で０．２５ｍｍ厚の薄板（化合物No.1の含有量２．０ｍｇ／ｍ²）に成形した。この薄板について、日本分光（株）製紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０で吸収スペクトルを測定したところ、λmaxが４２９．５ｍで半値幅が４７．５ｎｍであった。

（配合）
ユーピロンＳ−３０００ １００ｇ
（三菱瓦斯化学（株）製；ポリカーボネート樹脂）
化合物Ｎｏ．１ ０．０１ｇ

〔実施例４〕光学フィルターの作成４
下記の配合にてＵＶワニスを調製し、易密着処理した１８８μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該ＵＶワニスをバーコーター＃９により塗布した後、８０℃で３０秒乾燥させた。その後、赤外線カットフィルムフィルター付き高圧水銀灯にて紫外線を１００ｍＪ照射し、硬化膜厚約５μｍのフィルター層を有する光学フィルター（化合物No.1の含有量２．０ｍｇ／ｍ²）を得た。この光学フィルターについて、日本分光（株）製紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０で吸収スペクトルを測定したところ、λmax４２９．５ｎｍで半値幅が４７．６ｎｍであった。

（配合）
アデカオプトマーＫＲＸ−５７１−６５ １００ｇ
（旭電化工業（株）製ＵＶ硬化樹脂、樹脂分８０質量％）
化合物Ｎｏ．１ ０．５ｇ
メチルエチルケトン ６０ｇ

[実施例５]光学フィルターの作成５
下記の配合にて塗工液を調製し、易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該塗工液をバーコーター＃９により塗布した後、１００℃で３分間乾燥させ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に膜厚約１０μｍのフィルム層を有する光学フィルター（化合物No.1の含有量２．０ｍｇ／ｍ²）を得た。この光学フィルターについて、日本分光（株）製紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０で測定したところ、λmaxが４３０ｎｍで半値幅が４７ｎｍであった。

（配合）
ポリエスターＴＰ−２２０ １００ｇ
（日本合成化学製ポリエステル樹脂）
化合物Ｎｏ．１ １．０ｇ
メチルエチルケトン ６０ｇ

〔実施例６〜１６〕光学フィルターの作成６〜１６
化合物Ｎｏ．１の２ｍｇに替えて化合物Ｎｏ．３、Ｎｏ．４、Ｎｏ．７〜Ｎｏ．１１、Ｎｏ．１３〜１６の２ｍｇをそれぞれ用いた以外は実施例１と同様にして光学フィルターを作成し、得られた光学フィルターを日本分光(株) 製紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０で測定した結果を〔表１〕に示す。

[比較例１]比較光学フィルターの作成１
化合物Ｎｏ．１の２ｍｇに替えて比較化合物Ｎｏ．１の２．４ｍｇを用いた以外は実施例１と同様にして光学フィルターを作成し、得られた光学フィルターを日本分光(株) 製紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０で測定したところ、λmaxは３５４ｎｍ、半値幅は９２ｎｍであった。

比較例１の光学フィルターは、特定の波長（３８０〜５００ｎｍ）に吸収極大波長を有さず、また半値幅が大きいため、必要な光まで吸収してしまうおそれがある。これに対し、本発明のシアニン化合物を使用した実施例１〜１６の光学フィルターは、特定の波長（３８０〜５００ｎｍ）にシャープな吸収（半値幅５０ｎｍ以下）を有しており、画像表示装置、特にプラズマディスプレイ用の光学フィルターとしての性能に優れることが明らかである。

Claims (4)

1. 下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を単位面積当たり１〜１０００ｍｇ含有してなる光学フィルター。
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、アミノ基又は水酸基を表し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ²とＲ³、Ｒ³とＲ⁴及びＲ⁴とＲ⁵は、それぞれ連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ⁶は、シアノ基、−ＣＯＯＲ、−ＯＣＯＲ、−ＣＯＮＨＲ、−ＮＨＣＯＲ、−ＣＯＯＮＨＲ、−ＮＨＣＯＯＲ、−ＣＯＲ、−ＳＯ₂Ｒ、−ＳＯＲ、−ＳＯ₂ＮＲＲ’ 、ハロゲン原子、ニトロ基又はホスホノ基を表し、Ｒ及びＲ’は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表し、上記炭素原子数１〜８のアルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよい。）
2. 上記一般式（Ｉ）において、Ｒ⁶がシアノ基又は−ＣＯＯＲである請求項１記載の光学フィルター。
3. 画像表示装置用である請求項１又は２に記載の光学フィルター。
4. 上記画像表示装置がプラズマディスプレイである請求項３記載の光学フィルター。