JP4944690B2 - 位置検出装置の調整方法、位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
10 照明装置
12 光源
14 照明光学系
20 レチクル
25 レチクルステージ
27 ミラー
29 レーザ干渉計
30 投影光学系
40 ウエハ
42 ウエハアライメントマーク
45 ウエハステージ
47 ミラー
49a及び49b レーザ干渉計
50 ステージ基準プレート
52 レチクルアライメント検出系用基準マーク
54 ウエハアライメント検出系用基準マーク
60 フォーカス検出系
70及び75 レチクルアライメント検出系
80 ウエハアライメント検出系
801 照明光源
802 リレー光学系
803 開口絞り
804 照明系
805 偏光ビームスプリッター
806 λ/4位相板
807 対物レンズ
808 リレーレンズ
809 第1の結像光学系
810 光学部材
811 第2の結像光学系
812 光電変換素子
813乃至815 駆動部
90 制御部
Claims (13)
- 位置を変更可能な第1の光学部材及び第2の光学部材を含む光学系を備え、被検物体の位置を検出する位置検出装置の調整方法であって、
前記光学系の光軸に垂直な方向における前記第1の光学部材を位置決めすべき位置として互いに異なる複数の位置を設定する設定ステップと、
前記設定ステップで設定された前記複数の位置の各々について、前記被検物体を光電変換素子に対して相対的に前記光軸の方向に移動させながら、前記光学系を介して前記光電変換素子に入射する光を検出する検出ステップと、
前記複数の位置の各々について、前記検出ステップで検出された光の検出信号の非対称性を示す評価値を算出する算出ステップと、
前記複数の位置に対して、前記算出ステップで算出された前記評価値が鈍感である前記被検物体の前記光軸の方向の位置を特定する特定ステップと、
前記特定ステップで特定された前記被検物体の前記光軸の方向の位置において、前記評価値に基づいて、前記第2の光学部材の前記光軸に垂直な方向の位置を調整する第1の調整ステップとを有することを特徴とする調整方法。 - 前記特定ステップで特定された前記被検物体の前記光軸の方向の位置と異なる位置において、前記評価値に基づいて、前記第1の光学部材の前記光軸に垂直な方向の位置を調整する第2の調整ステップを更に有することを特徴とする請求項1記載の調整方法。
- 前記第1の光学部材は、前記被検物体を照明するための光を射出する光源又は前記光学系の瞳面に配置された開口絞りを含み、
前記第2の光学部材は、前記光学系の収差を調整する光学部材を含み、
前記設定ステップでは、前記光源又は前記開口絞りの前記光軸に垂直な方向の位置を設定することで互いに異なる複数の光軸ずれを設定し、
前記第1の調整ステップでは、前記光学部材を前記光軸に垂直な方向に駆動することで前記光学系の収差を調整し、
前記第2の調整ステップでは、前記光源又は前記開口絞りを前記光軸に垂直な方向に駆動することで前記光学系の光軸ずれを調整することを特徴とする請求項2記載の調整方法。 - 前記第1の調整ステップでは、前記光学部材は、前記評価値に基づいて、駆動部によって駆動されることを特徴とする請求項3記載の調整方法。
- 前記第1の光学部材は、前記光学系の収差を調整する光学部材を含み、
前記第2の光学部材は、前記被検物体を照明するための光を射出する光源又は前記光学系の瞳面に配置された開口絞りを含み、
前記設定ステップでは、前記光学部材の前記光軸に垂直な方向の位置を設定することで互いに異なる複数の収差を設定し、
前記第1の調整ステップでは、前記光源又は前記開口絞りを前記光軸に垂直な方向に駆動することで前記光学系の光軸ずれを調整し、
前記第2の調整ステップでは、前記光学部材を前記光軸に垂直な方向に駆動することで前記光学系の収差を調整することを特徴とする請求項2記載の調整方法。 - 前記第1の調整ステップでは、前記光源又は前記開口絞りは、前記評価値に基づいて、駆動部によって駆動されることを特徴とする請求項5記載の調整方法。
- 前記検出信号のコントラストを基準として、前記特定ステップで特定された前記被検物体の前記光軸の方向の位置に前記被検物体を移動させる移動ステップを更に有することを特徴とする請求項1記載の調整方法。
- 前記検出信号のコントラストが最大となる位置を基準として、前記特定ステップで特定された前記被検物体の前記光軸の方向の位置に前記被検物体を移動させる移動ステップを更に有することを特徴とする請求項1記載の調整方法。
- 前記被検物体は、前記被検物体を照明する光の波長をλとすると、λ/4の奇数倍の段差を有することを特徴とする請求項3記載の調整方法。
- 前記被検物体は、前記被検物体を照明する光の波長をλとすると、λ/8の奇数倍の段差を有することを特徴とする請求項5記載の調整方法。
- レチクルを介して基板を露光する露光装置に用いられ、位置を変更可能な第1の光学部材及び第2の光学部材を含む光学系を備え、前記レチクルの位置及び前記基板の位置の少なくとも一方を検出する位置検出装置であって、
前記光学系の光軸に垂直な方向における前記第1の光学部材を位置決めすべき位置として互いに異なる複数の位置を設定する設定手段と、
前記設定手段によって設定された前記複数の位置の各々について、前記レチクルの位置又は前記基板の位置を示すマークを光電変換素子に対して相対的に前記光軸の方向に移動させながら、前記光学系を介して前記光電変換素子に入射する光を検出する検出手段と、
前記複数の位置の各々について、前記検出手段によって検出された光の検出信号の非対称性を示す評価値を算出する算出手段と、
前記複数の位置に対して、前記算出手段によって算出された前記評価値が鈍感である前記マークの前記光軸の方向の位置を特定する特定手段と、
前記特定手段によって特定された前記マークの前記光軸の方向の位置において、前記評価値に基づいて、前記第2の光学部材の前記光軸に垂直な方向の位置を調整する調整手段とを有することを特徴とする位置検出装置。 - レチクルを介して基板を露光する露光装置であって、
請求項11記載の位置検出装置を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項12記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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