JP4937452B2 - プラズマトーチカートリッジとこれに取り付けられるプラズマトーチ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、プラズマトーチの分野に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
アークプラズマは、熱プラズマの類である。これらは、部分的ににはイオン化された導電性の気体であるが、大気圧の領域ではほぼ電気的に中性である。これらは、2つの電極間に維持されている電気的なアークを介して一つあるいはそれ以上のプラスマジーン気体を通過することによってプラズマトーチにより発生される。
【0003】
気体を高温と高い特定のエンタルピにするために、アークトーチの吹きつけが用いられる。これは、アークが2つの電極を備えたトーチ内に制限されて処理に使われる高温気体の高速ジェット(プラズマ)となることを意味している。
【0004】
図1は、このようなトーチの原理の非常に概略的な構成を示している。この種類のトーチは、互いに同心に配置された陽極1と陰極3からなる2つの電極を備え、それらの間に気体循環チャンネル7を配置している。
【0005】
これらの2つの電極1、3は、高電圧、高周波数(HV−HF)発生器と、直流発生器に接続されている。これらは、エネルギ冷却(水の循環によって)されてそれらの溶融を防ぐ必要がある。
【0006】
最初にHV−HF発生器によって、電気アーク8が、導き入れられて内部電極の空間を導電性にする気体をイオン化する2つの電極間(陰極と陽極)で発生する。直流発生器が、次いで、この空間内に流れてアークを維持する。
【0007】
トーチに供給される電力は、陽極と陰極間に確保される電圧の強度(調節できる)の積に等しい。この電圧は、使われる気体の種類や流れのようないくつかのパラメータに影響されるが、電極の消耗や破壊をもたらすようなものではない。プラズマ9の電力は、トーチに供給される電力から冷却水による損失を差し引いたものである。電極の消耗や破壊は、重大な不具合を生じさせる。これらは、それらの形状、それらの冷却効率、それらの同軸性、および、気体の種類と純度に影響される。
【0008】
アーク8にプラズマ9を発生させる機器は、溶射(表面処理)、気体加熱あるいは化学合成に使われるものである。電気アークによって気体に供給されるエネルギは、それらが10,000Kを超える温度に加熱されることを可能にする。
【0009】
プラスマジーン気体あるいは気体群の選択には、ほとんど制限がない。これは、処理(酸化、窒化、還元媒体における高温度など)の必要とするところによって定まる。電力の範囲は広範囲であって、数キロワットから数メガワットに及ぶ。作動範囲は、選択されるプラスマジーン気体の種類と流れによって定まることがしばしばである。トーチを発生させる技術がプラスマジーン気体の選択と必要な作業電力とに対応できる必要があるので、トーチは、与えられたアプリケーションに適するように設計されることがしばしばである。
【0010】
その大きさ、その形状およびその簡便性が、制限された悪い環境において作業する必要があるときは、重要になることがある。
【0011】
現在使われているトーチは、少なくとも10の部品(シール、ネジおよび流体コネクタを除く)からなる複雑なユニットからなる。電極の同軸性は、シールに関して製造された部品の許容できる誤差の累積に影響される。
【0012】
一つあるいは両方の電極の交換は、規則正しく(多くの場合、作業の数十時間後)行われねばならない仕事である。この仕事は、サブユニットを分解して再び組み立てる作業とシールを交換する作業をいつでも必要とする。
【0013】
これを説明するために、以下に、従来周知のプラズマトーチにおける3つの実例を簡単に示す。
【0014】
第1の従来周知のトーチは、空気/アルゴンあるいは酸素/アルゴンの混合で作動し、その電力はおよそ100キロワットである。このトーチは、15の製造部品、21のシール、22のネジ、6の流体コネクタにより構成されている。正常な磨耗を受ける部品は、陰極と陽極、絶縁ブッシュおよび射出ノズルである。使用の最適な状態において作業の100時間以内に最低限のメインテナンス(陰極と陽極の交換)を行う必要がある。
【0015】
第2の従来周知のトーチは、重炭化水素の熱分解のために開発されたものである。プラスマジーン気体は、トーチ出力においてメタンと混合されるアルゴンと水素である。このトーチは、溶射ガンに類似している。このトーチは、流体コネクタとネジを除いて、10の製造部品と、7のOリングからなる。
【0016】
第3の従来周知のトーチは、SULZER METCO社から販売されているもっとも簡単なトーチの一つといわれているものである。これは、溶射ガンF4−MBである。このタイプのトーチは、従来周知のように、アルゴン、ヘリウムおよび窒素単体で、あるいは、その混合で作動する。水素が、しばしば、電力(ピークアーク電圧)を得るために使われる。しかしながら、このトーチも、8の製造部品、14のOリング、12のネジ部品、および、3の流体コネクタを使っている。
【0017】
日本特許出願04−249096はプラズマトーチを開示しており、その際陽極と陰極の間にアークが発生する可能性を小さくするために、プラスマジーン気体は、渦流を可能にする通路を流れる。そのために、陽極と陰極間に配置される部品であるセンタリング装置10aは、センタリング装置の上面から側方面に設けられている開口106を備えている。陽極とセンタリング装置部品10との間に配置された他の導管102が、導かれるべき導管106から陽極の底部に気体が流れることを可能にしている。
導管107が、センタリング装置10の外側を後者の中心空洞105に接続している。この特殊性が、発生させられるべきプラスマジーン気体の渦流ジェットを可能にしている。このようにすることによって、陰極は、さらに均一に磨耗することになる。
【課題を解決するための手段】
この発明によるトーチの目的は、トーチそれ自身の組み立てをできるだけ簡単なものにするとともに、磨耗した部品を時々交換できるようにすることにある。これは、α放射体によって大きく汚染され塩素化された放射性廃棄物のための、熱分解ガス燃焼炉における気体加熱アプリケーションのために特に開発されたものである。この燃焼炉は、本発明によるプラズマトーチで構成され、グローブボックス内で作動することを目的としている。
【0018】
苛酷な環境の下(グローブボックス内であるいは遠隔マニピュレータにより作動することを強要されている放射性物質)での作業は、できるだけ簡素化されなければならない。サブユニットの通常の交換は、複雑なユニットにおける個々の部品の分解と再組み立てのためには好都合である。調整時間が短かいと、新規でかつ検査されるサブユニットの信頼性は、分解され再び組み立てられる複雑なユニットのそれよりも高くなる。
【0019】
そのために、この発明によるプラズマトーチは、2部品からなり、廃棄可能で交換可能なカートリッジが、カートリッジ接続保持構造に挿入されるプラズマ発生器を構成する。このカートリッジ接続保持構造は、カートリッジをプラズマ気体、冷却液および電流の供給源に接続するためのものである。この構造は、そのために第1のカートリッジ接続手段を備えている。
【0020】
この第1のカートリッジ接続手段は、電流、水および気体の供給源のための中間手段として機能する。この供給源は、従って、プラズマカートリッジから完全に分離されている。
【0021】
この構造は、カートリッジ固定手段に係合するあるいは係合することのない第2の手段を備えて電流、水および気体を供給する第1の手段に対してカートリッジを機構的に接続するようにしている。
【0022】
この発明は、特許請求の範囲第1項に記載の特徴を備えたプラズマトーチのためのプラズマを発生するカートリッジに関するものである。
【0023】
このようにして、プラスマジーン気体回路は、陽極の軸方向の空洞において陰極に固定されたセンタリング装置を軸方向に沿って押圧するような圧力の下で実行される単一の処理により、単一の補助部品、センタリング装置を用いるものである。陽極におけるセンタリング装置の固定と陽極の陰極アセンブリによって、陰極ユニットが完成する。陰極上の陽極のこのアセンブリは、さらに、プラスマジーン気体配分回路の一部分を構成している。好ましい実施例において、気体配分の連続性と規則性が、陽極を介したセンタリング装置の導管と気体流入導管間のリレーが、環状の配分空間によって行われることを保証している。環状の配分空間は、陽極上のあるいはセンタリング装置上のいずれかに、あるいは、陽極とセンタリング装置の両方に配置できる環状の溝によって形成できる。このようにして、この発明によるカートリッジは、トーチを作動させるのに必要な部品に窄孔するか加工するかあるいは成形することにより構成できるので、気体供給のためのいかなるジョイントも導管も必要としない。組み立てに関する限り、陽極を介したセンタリング装置導管と気体流入導管間に接続溝を用いることによって、陽極とセンタリング装置とを角度的に割り出す必要がないので、組み立てが簡易化される。
【0024】
センタリング装置導管の第1の端部において受け入れられたプラスマジーン気体は、センタリング装置の上方部分における上面に延びているいくつかの孔、すなわち、開口あるいは最終の気体配分溝によって陰極の回りに配分される。
【0025】
陰極が陰極位置決め手段を備えた支持体によって保持されているような好ましい実施例において、アセンブラと陽極の間に形成された環状の冷却空間は、カートリッジの外面から、好ましくは陽極からこの環状の空間に流体を導く導管を介して冷却流体を受け取る。環状の陽極と支持体からなるアセンブラは、共に軸AA′に中心を備えた環状溝の形の中空部分と、環状リングの形の突出部分とを有し、この突出部分は、この中空部分に密着嵌合している。環状空間シールが、突出リング各々の外径が、このリングが嵌合する溝の外径よりもわずかに大きくされているために実現されている。このようにして、この発明によるカートリッジは、トーチを作動させるのに必要な部品に窄孔するか加工するかあるいは成形することにより構成できるので、水供給のためのいかなるジョイントも導管も必要としない。アセンブラあるいはアセンブラ体は、冷却流体が通過する陽極回りの環状の空間を形成する機能とは別に、カートリッジの機構的な組み立て機能を持っている。これは、陰極支持と陽極の組み立てに寄与する。
【0026】
以下に説明されるこの発明による好ましい実施例において、アセンブラは、同軸の下方のリングと上方のリングを含む電気的な絶縁材料から構成されている部品である。下方のリングは支持溝内に固定され、上方のリングは陽極の溝に固定されている。この陽極の溝は、陽極のリングの周辺に位置している。この陽極のリングは、陽極の中心空洞を保持している。この実施例において、アセンブラの内側の大きさは、中心空洞を保持している陽極のリングの内側の大きさよりも少なくとも1つの軸方向部品分だけ大きい。陽極冷却流体の循環のための環状の空間は、かくして、この陽極リングとアセンブラとの間に用意される。この空間は、陽極、アセンブラあるいは支持体に孔を穿たれた導管によって冷却流体の入口と出口の導管に接続している。この発明による他の利点や利益は、添付の図面を参照して以下に説明される好ましい実施例およびその変形についての記述から明らかになるであろう。
【0027】
【発明の実施の形態】
この発明によるカートリッジ100の実施例を図2を用いて以下に説明する。なお、本明細書においては、図2に示すカートリッジ100の、軸AA′のA′側を「上」と、A側を「下」と呼ぶ。以下の図3、5、8、10、11、12においても同様である。この実施例において、カートリッジ100とその構成部品は、このカートリッジの軸である軸AA′に関して回転対称である。これらの部品は、組み立てられるとき、この発明によるカートリッジ100を一体的に形成する6つの部品からなる。これらは、電気銅から作られた陽極ノズル1と、電気銅から作られた陰極支持体2と、ドープされたタングステン陰極3と、プラスチック材料から作られた陰極センタリングディフューザ装置4と、プラスチック材料から作られたアセンブラ5と、および、セラミックインサート6である。
【0028】
これらが組み立てられると、部品1から6は、周知のようにこれらの間に、また、図1に明らかなように気体循環チャンネル7が、アーク8が創造される内部電極空間が、形成される。プラズマ9(図2には示されていない)が、陽極1のノズル13から放出される。
【0029】
これらの部品のそれぞれとそれらの組み立ての様子が、以下に説明される。
図3と図4に関連して以下に説明される陰極支持体2は、軸AA′に関して回転対称である形状の部分的な円筒形を備えている。軸AA′に直交する面に配置されている円形の基部あるいは下面21を備えている。この基部21の反対側には、中心から周辺に、側面34と底面35とを備えた中心孔23と、2つの側方のエッジ25、26である内方のエッジ25と、外方のエッジ26と、底部7とを備えた軸AA′の回りに回転された円形の溝24が設けられている。一つあるいはそれ以上の貫通孔28が、溝24の底部27を基部21に接続している。溝24と孔23の間には、支持体2が、基部21に平行な面に配置された上面30を備えたリング29を有している。このリングの側方のエッジは、溝24の内部側方エッジ25と孔23の側方面34によって形成されている。最終的に、支持体2は、基部21と上面37の径に等しい径を備えた側方の外面36を有する円周リング22を含んでいる。リング22の側方のエッジは、支持体2の側方の外面36と溝24の側方の外面26によって構成されている。
【0030】
大きさに関する限りにおいて、孔23の径は、陰極3に密着嵌合して受け入れるのに十分であり、これは、以下に陰極と支持体との良好な電気的な接触を確保している状況が説明される。溝24の幅が、すなわち、内方のエッジ25と外方のエッジ26との径の差が、アセンブラ5の第1のリング51における幅(すなわち、リング外径とリング内径の差)よりも大きくされている。他方、溝24の外壁26の径は、アセンブラ5におけるこのリング51の外径よりも小さいので、アセンブラ5のこのリング51は、溝24に密着嵌合できることになる。図3に示されているアセンブラ5におけるアセンブリリング51は、以下に説明される。
【0031】
組み付けられた位置にあるように図5と図6に示されている陰極3とセンタリング装置4が、説明される。
【0032】
陰極3は、平らな円形基部31と円錐ヘッド32とを備えた円筒形をなしている。これは、図5と図6において陰極3の回りの所定の位置に示されている陰極センタリング装置4に、包含されている。センタリング装置4は、また、軸AA′の回りに回転された円形をなしている。これは、小径の外径を備えた円筒部分42が突き出ている円筒形の基部41を有している。センタリング装置4の内径は、このセンタリング装置の全体の高さを通じて一定であるが、第1の実施例における変形として、基部41とは反対側にある上方端部43の径が、基部41の内径と、突き出ている円筒部分42の内径に対してわずかに大きくなっている。
【0033】
軸AA′に直交するセンタリング装置4の平面は、センタリング装置の基部41における下面46と上面47によって形成されている。基部41における下面46は、内側の円の直径が、センタリング装置4の内径に等しく、この下面46の外径が、基部41の外径に等しい2つの同心円により範囲を定められている。センタリング装置4の基部41における上面47は、外側の円の直径が、基部41の外径に等しく、内側の円の直径が、センタリング装置4の突き出ている円筒部分42の外径に等しい2つの同心円により範囲を定められている。軸AA′に直交するセンタリング装置4の平面は、また、上述の実施例においては、溝45の底部48、最終的には、センタリング装置4の上面49を構成する。
【0034】
溝45の底部45は、端部43の内径に等しい直径の外側の円によって範囲を定められ、また、陰極3の外径に等しい直径の内側の円によって範囲を定められている。
【0035】
最終的に、センタリング装置4の内側の軸方向の面は、陰極3の外径よりもわずかに小さな直径の部分41と42に対応する下面39によって形成され、および、溝45を備えた実施例においては、陰極3の外径よりもわずかに大きな直径の部分43に対応する上面40によって形成される。センタリング装置4の側方の外面は、2つあり、基部41に対応する側方の下面38と、部分42に対応するおよび溝45を備えた構成においては43に対応する側方の上面50である。
【0036】
大きさに関する限り、上に示されたように、センタリング装置4の内径は、陰極3の外径よりもわずかに小さく、従って、この陰極3は、センタリング装置4に密着嵌合できる。端部43の内径は、溝45を備えた実施例においては、陰極の外径よりもわずかに大きいので、陰極3と端部43は共に溝45を形成する。
【0037】
図5と図7を参照して、このセンタリング装置4の変形が以下に説明される。センタリング装置4の機能は、陰極3を陽極1に対してセンタリングすることと電気的に絶縁することにある。この機能は上方部42の側方の外面50によって与えられるが、組み立てられるカートリッジ100の以下の説明中に明らかにされるものであって、これは、陽極の孔の支持体として働く。以下に説明される変形例は、陽極1と陰極3との間の環状の空間において完全に配分されるプラスマジーン気体の配分に関してセンタリング装置の機能に関係する。
【0038】
図6と図7において上から見た2つの変形がある第1の変形例において、センタリング装置4は、数個の導管44を備えている。図6に示される好ましい実施例におけるこれらの導管44は、センタリング装置4の外面50を内面49に接続し、図7に示される開口95に延びるか、あるいは、溝の変形例として溝45の底部48に延びる(図6)。この好ましい実施例において、導管44の軸は、軸AA′に含まれるが、軸AA′を含む面には含まれず、気体の接線方向の噴射を生じさせてvortexと呼ばれる渦を誘導して陽極においてアークの足を転じさせて特定の点に引っ掛からないようにする。この変形実施例の好都合な点は、陰極周囲の均一な陰極磨耗分布にあってその寿命を延ばすことにある。逆に、これはプラズマ渦を生じさせ、プラズマを使うときの機能として常に好ましいというものではない。これが、第2の変形例において、導管144が径方向の面に配置されて軸方向に開口されている理由である(図7)。これらは、それぞれ、開口95に延びており、あるいは、溝45を備える実施例においては、溝45に達している。
【0039】
上述の変形実施例において、センタリング装置4の側方の外面50に配置される導管44あるいは144の端部は、好ましい態様においては、側方の面50に直接達するか、あるいは、この側方の面50から延びている径方向の溝148に達する。この溝は、図5と図7において破線で示されている。センタリング装置が、以下に説明される陽極1の環状の空洞10に十分に密着して嵌合することにより、密着性が確保される。
【0040】
陽極1とそのセラミックインサート6について、図8と図9に関して以下に説明する。
陽極1は、また、軸AA′回りの回転体である。これは、軸AA′の中心空洞10を含んでいる。この空洞は貫通空洞であり、陽極の上面11から陽極1の下面12の一部分134にまで軸方向に延びている。陽極の下面12は、上面11の反対側に位置しており、様々なレベルにある数個の部分からなっている。上面11から下面12の部分134まで、空洞10は、プラズマのためのノズルを形成している円筒形の上方部13を有している。次に、円錐の頂部を切り取った部分14が続く。部分14の上方部の直径は、部分13の直径に等しい。円錐の頂部を切り取った部分14の下方部の直径は、部分13の直径よりも大きい。最終的には、円錐の頂部を切り取った部分14の下方の基部16から軸方向に陽極1の下面12の部分134まで延びている円筒形の下方部15が存在することになる。空洞10におけるこの部分15の直径は、円錐の頂部を切り取った部分14の最大直径よりも大きい。円錐の頂部を切り取った部分14と円筒形15の部分は、面17によって接続されている。セラミックインサート6が、部分15の頂部において空洞10に収容されている。この簡単な部分は、陽極1の説明を続ける前にここで説明される。インサート6は、軸AA′回りの回転で矩形によって発生された円環形状のブッシュである。矩形の幅は、面17の幅に等しい。面17の幅それ自身は、下方部15の直径と円錐の頂部を切り取った部分14の下方部16の直径との差から得られる。
【0041】
このインサート6は、その上方面61が陽極1の面17を支持するように挿入される。インサートの側方の外面62は、陽極1における空洞10の部分15を支持する。
【0042】
陽極1の外側は、2つの円によって範囲を定められている上面11を有している。外側の円の直径は、支持体2の外側の直径に等しいことが好ましく、上面11の内側の円の直径は、空洞10の上部13の直径に等しい。陽極1の外側は、また、円筒形の外面19を有している。下面12は、異なるレベルにおいて軸方向に配置されている数個の部分からなる。外側から軸AA′に向かうのは、第1のリング121である。このリング121の外径は、円筒形の外面19の直径に等しい。このリング121の内径は、支持体2における溝24の外壁26の外径に等しいことが好ましい。このリングの下面133は、軸AA′に直交する平面である。下面133は、陽極1の下面12の一部分である。
【0043】
次に、溝122がある。この溝は、溝底面124を備えている。この面124は、陽極1の下面12の一部分である。この溝122は、その直径が第1のリング121の内径に等しい直径を備えた円筒形の外壁126を備えている。この直径は、支持体2における溝24の外壁26の外径に等しいことが好ましい。軸方向の溝122の内径は、支持体2における溝24の円筒形の内壁25の直径に等しいことが好ましい。
【0044】
最終的に、第2のリング123が存在する。このリング123は、軸AA′に直交する下面134を備えている。この下面134は、陽極1における下面12の一部分である。リング123は、円筒形の外壁125を備え、その一部分は、溝122の円筒形の内壁を構成している。
【0045】
円筒形の壁125は、支持体2における溝24の壁25の内径に等しいことが好ましい直径を備えている。
【0046】
陽極1に開口された2つの端部128、129を備えた1つあるいは好ましくは数個の第1の導管127の各々が、陽極1の外壁11、19の1つから空洞10の内壁18に流体が流れることを可能にしている。図8と図9に関連して示されている実施例において、導管127の各々は、上面11におけるその第1の端部128から空洞10における下部15の壁18に位置するその第2の端部129に繋がっている。これは、インサート6下方に位置する軸方向レベルにおいてこの空洞10に達している。この導管あるいはこれらの導管127は、プラスマジーン気体の配分のために用意されている。
【0047】
センタリング装置とその変形の説明において述べられた変形に関して、この導管あるいはこれらの導管は、陽極1の空洞10の側方面18に直接到達するのではなくこの面18に接続された径方向の環状溝135に到達することができる。図8と図9に示された好ましい実施例において、この導管あるいはこれらの導管127は、軸AA′に平行しており、中心空洞10を隠蔽しているリング123内に位置し、溝135に達している。
【0048】
2つの端部131,132を備えた一つあるいはそれ以上の第2の導管130の各々は、陽極1の外壁11、19の一方から溝122に接続している。図8と図9に関連して示された実施例において、導管130は、その周辺の円筒19にその第1の端部131を備え、その第2の端部132は、溝122の底部124に達している。
【0049】
組み立ての態様と部品1−6の組み立ては、共にこの発明によるプラズマトーチのためのカートリッジ100を構成するもので、以下に図2、3、5および8に関連して説明される。
【0050】
まず最初に、アセンブラ5について、図3、8および10を参照して説明する。
図3と図8において、アセンブラ5の下方部と上方部が示されていて、支持体2(図3)に対する位置(図3)と、陽極1に対する位置(図8)についてこのアセンブラ5をそれぞれ示している。
アセンブラ5は、図10においては軸方向の断面図が示されている。
【0051】
アセンブラ5は、下方の円筒形リング51を備えている。このリング51における円筒形の外面52の直径は、支持体2における溝24の壁26の直径よりもわずかに大きいので、このリング51は、この溝24に密着して固定できる。このリング51における内壁53の直径は、支持体2における溝24の内壁25の直径よりも大きい。このようにして、環状の軸方向の空間77が、これらの2つの壁24、53の間に用意される。リング51は、下面59を備えている。組み立てられた位置において、この面59は、溝24の底部の面27に接触していない。このようにして、環状の空間73が、これらの2つの面の間に用意される。
【0052】
このリング51は、やはりリングの形状を備えた中央部分54を突出させている。このリング54における内壁55の直径は、陽極1における円筒形の壁125の直径よりも大きい。従って、環状の軸方向の空間72が、これらの壁55、125の間に用意される。壁125が、陽極1における溝122の底部124から陽極1における第2のリング123の下面134に軸方向に延びていることに留意すべきである。この下面134は、陽極1のもっとも下方の面を形成している。
【0053】
図8の組み立てられた位置において示されているアセンブラ5の上方部も、リング56の形状をしている。このリングにおける外壁57の直径は、陽極1における溝122の外壁126の外径よりも大きい。リング56における外壁57の直径と壁126における直径との差は、このリング56が溝122に密着嵌合することを可能にしている。
【0054】
リング56における内壁58の直径は、陽極1における壁125の直径よりも大きい。従って、環状の軸方向の空間76が、これらの2つの壁58、125の間に用意される。陽極1におけるこの壁125が、溝122の底部124から陽極1の下面12の陽極のもっとも低いレベルに位置している部分134に軸方向に延びていることに留意すべきである。リング56は、上面60を備えている。組み立てられた位置において、この面60は、溝122の底部の面124には接触していない。このようにして、環状の空間が、これらの2つの面の間に用意される。
【0055】
アセンブラ5の中心部分は、上面65、下面66を備え、共に軸AA′に直交しており、またさらに、側方の外面67を備えている。
【0056】
アセンブラ5における中心部分54の上面65は、リング56の外径である直径を備えた円と、中心部分54の側方の外面67の直径である直径を備えた円とによって範囲を定められている。
【0057】
同様に、アセンブラ5における中心部分54の下面66は、下方のリングの外径である直径を備えた円と、側方の外面67の直径である直径を備えた円とによって範囲を定められている。
【0058】
上面65と下面66の範囲を定めている円は、同心円である。図面に示されている実施例において、中心軸方向空洞69の内径は一定であるので、この空洞の内部の軸方向面58、55、53は、単一かつ同一の面である。
【0059】
要約すると、アセンブラ5は、軸方向空洞69を貫通する中心を備えた回転部分として表現される。これは、中心部分54からなり、ここから中心部分54の外径よりも小さな外径を備えた円筒形部分56、51が、それぞれ、上下方向に延びている。この実施例において、上面65と下面66は、組み立て上のストッパとして機能する。陽極1におけるリング121の下面133は、中心部分54の上面65のストッパとして働く。陰極3における支持体2のリング22の上面37は、中心部分54の下面66のストッパとして働く。これらのストッパ、溝122、24の適合させられた大きさ、および、リング56,51の軸方向の長さによって環状の空間71と73を用意することが可能になる。
【0060】
トーチの組み立てについて、以下に説明する。
インサート6は、陽極1について上述したような位置に配置される。陰極3は、支持体2の開口23に挿入され、陰極の下面31は、開口23の底部35に接触し、陰極の側方面は、密着嵌合組み立てによって開口23の側方面34と接触する。このようにして、陰極3と支持体2との間の電気的な接触が、支持体2と陰極3に関係するすべての面に行われることになる。センタリング装置4が、上述したように陰極3の回りに配置される。センタリング装置4の下面46は、リング29の上面30と接触する。アセンブラ5が、次いで、圧力下にアセンブラ5のリング56を受け入れる陽極1の溝122の所定の位置に取り付けられる。リング56の上部および/あるいは溝122のエッジが、挿入を容易にするように斜めに形成される。アセンブラ5が所定の位置に配置されると、陽極1のリング121の下面133は、アセンブラ5の中心部分54の上面65によってストップされる。アセンブラ5の上面60は、溝122の底には位置せず、これは、すでに上述したように、環状の空間71が、陽極1の溝122の下面124とリング56の上面60の間に用意されていることを意味している。陽極1とそのインサート6は、かくして、組み立てられ、アセンブラ5は、次いで、支持ユニット2、陰極3およびセンタリング装置4と組み立てられ、リング51は、それ自身、支持体2の溝24に圧力をかけて挿入される。挿入を容易にするために、リング51の底部と溝24の上部は、傾斜を設けられている。固定動作が完了すると、図2において強調されて示されているように、アセンブラ5の中心部分54の下面66と支持体2のリング22の上面37との間に機能的な遊びが設定される。アセンブラ5のリング51の下面59は、溝24の溝底面27とは接触しないので、従って、環状の空間73が、すでに指摘されているように、リング51の下面59と支持体2の面27との間に設けられることになる。後に明らかにされるように、これらの面の間に設けられたこの環状の空間73は、冷却水を収容することを意図している。
【0061】
トーチの作動を以下に説明する。
トーチとして、作動はトーチの通常の作動であるが、冷却水流入回路とプラスマジーン気体回路を以下に説明する。示されている実施例において、アセンブラ5における上方リング56の中心部分54と58に設けた下方リング51、55の内壁53が、整合されることに留意すべきである。陽極1のリング123の外径、センタリング装置4の側方外面の直径および支持体2における溝24の内壁の直径は等しいので、陽極1の壁125、センタリング装置4の壁38および支持体2の壁25は、整合される。アセンブラ5の内径は、壁125、38および35の直径よりも大きいので、環状の空間72がアセンブラ5とこれらの壁の間に用意されることにも留意すべきである。この環状の空間72は、リング56の上部60からアセンブラ5におけるリング51の下方部59に対して軸方向に延びている。水は、開口131から導管130を介して陽極1の外面に導かれ、導管130の内端132は、溝122とリング56のそれぞれの面124と60間に設けられた環状空間72に接続している。この水は、陽極1の内壁125に沿って環状の空間72から環状リング51と溝24の底部27の間に設けられた環状空間73に流れることができる。この水は、環状の溝24の底部に配置された導管あるいは複数の導管28を介して流れる。水回路が、トーチ内部に対して密着シールを使わずに、それぞれ、溝24と122におけるリング51と56の密着組み立てによって準備されることが明らかである。自然に、水の流入と流出は別個に行われるが、水の循環が陽極1におけるリングを冷却することが重要なことである。
【0062】
同様にして、陽極1における開口128を介したプラスマジーン気体の流入は、シールを使わずに行われ、気体は、実施例の変形例によって、センタリング装置4における陰極3の回りに配置された開口95の導管44あるいは144、あるいは、溝45に接続される。陽極1の導管127とセンタリング装置4の導管44あるいは144間の接続は、陽極の溝135あるいはセンタリング装置4の溝148によって行われる。径方向の溝135と148は、共に存在することができる。この発明によって組み立てられたトーチは、従って、陽極1、支持体2、陰極3、センタリング装置4、アセンブラ5およびインサート6の6部品のみから構成される。このトーチは、組み立てられる部品の横方向の保持に専門家の工具を使うことができるときは、圧力下でわずかな操作で組み立てが可能となる。
【0063】
組み立てられるカートリッジ100を構成している異なる部品の機能に関して、陰極3が支持体2の開口23内に十分な密着嵌合しているときは、支持体2、陰極3、センタリング装置4、陽極1の空洞10に密着嵌合している部品42、および、陽極1は、組み立てられたユニットを形成していると見える。これらの状態において、陽極の支持体2と122の溝24に係合するアセンブラ5は、単なる水回路の部品として見ることができる。また、カートリッジ100のアセンブリは、保持接続構造における所定の位置にカートリッジ100を取り付けることによって強固なものになったことが後で明らかにされる。
【0064】
また、カートリッジ100はそのとおりに簡単なものであるので、これは、カートリッジの全体のアーキテクチャから生じていると見ることができよう。このようにして、プラスマジーン気体回路は、陽極の中心空洞10に直接隣接するリング123の形状において、陽極1の中心部分、組み立てられたカートリッジ100の中心部分にその全体がある。水回路に関しては、これは、中心空洞10に隣接する同じリング123の周辺に位置し、水回路あるいは気体回路が交錯することはない。
【0065】
このアセンブラが支持体の明確な部品として提供されていることが指摘されなければならない。これは、導電性材料により作られている支持体を陰極に接触させるアセンブラが、陽極と接触しているという事実による。従って、陽極と陰極間に短絡を生じないために、これは、電気的な絶縁材料から作られている。支持体を、陰極を接続するフィードスルーコンダクタを有する絶縁材料で作ることが可能なことは明らかである。この場合、アセンブラは、絶縁材料製の部品から構成され、支持体は、導電性材料製の部品から構成される。
【0066】
カートリッジ100の構成要素の材料に関するいくつかの注意点を、以下に述べる。
実施例において、電気銅から作られている陽極1と陰極支持体2は、導電性を有し、大きな熱流束を許容する、例えば金属のような他の材料であってもよい。
【0067】
陰極3のドープされたタングステンは、低い電子抽出能力を備えた金属材料から作り出すことができる。
センタリングディフューザ装置4は、プラスチック材料適合化要求に見合うように製造され、水に混合する際の良好な抵抗、強い誘電体特性、および、光線と温度に対する良好な機械的な抵抗を有することができる。
【0068】
アセンブラ体5は、簡単なプラスチック圧力によって組み立てに対する要求に適合するプラスチック材料により製造できる。
【0069】
絶縁性のインサート6が、温度ショックと光線に対する良い抵抗を備えるとともに窒化ホウ素のような強い誘電体特性を備えたセラミック材料から製造できる。
【0070】
適用された材料の対を含むアセンブラは、圧力の下で密着嵌合する。提供されたトーチの場合、アセンブラは、プラスチックと銅合金あるいはタングステン合金と銅合金の対から構成される。
【0071】
他の材料対が考えられ、圧力ヘッドとアセンブリプレスジャックとの間にバイブレータが挿入されるとき、特に、従来周知のように、セラミック材料は、プラスチック材料に置換できる。
【0072】
カートリッジ100の接続保持構造を、図11と図12に関連して簡単に説明する。接続保持構造80は、軸AA′に関して共に回転対称である2つの端部板81、82を備えている。下方の端部板81は、支持体2の外径に等しい内径を備えて開口83を遮蔽し、従って、この支持体2は、この端部板81に容易に挿入できるように構成されている。下方の端部板81は、84で示されるように水排出路および電流導入路を備えている。一つあるいはそれ以上のOリングが、従来周知のように密着性を確保することを可能にしている。
【0073】
接続保持構造の上方の端部板82は、陽極1の外径に等しい内径を備えて開口85を遮蔽し、従って、この陽極1は、この端部板82に容易に挿入できるように構成されている。この端部板82は、プラズマの通過を可能にするフレアのついた中心の軸方向の孔91を備えている。下方の端部板81と上方の端部板82、および、カートリッジ100は、スタラップ部材92によって組み立てられた状態を維持している。このスタラップ部材92は、U型をしている。このUの2つの平行なアームは、軸AA′に直交するネジ96によって上方の端部板82に回転を固定されている。ブッシュと絶縁ワッシャが、従来周知のように、設けられ、スタラップ部材と端部板82との電気的な接触を妨げている。下方の端部板81は、中心の凹部93によりその下方の面を取り付けられている。組み立てられた位置において、スタラップ部材92のU型の水平部分に取り付けられたネジ94は、ネジ96の回りのスタラップ部材92の回転を妨げ、軸方向への端部板81、82の移動を阻止するように凹部93に圧力を発生させている。端部板81とスタラップ部材との電気的な絶縁が、絶縁ブッシュ95と絶縁ワッシャによって行われる。ブロックロックナット97が、設けられている。スタラップ部材92の水平アームと端部板81の下面との間の距離が、十分に取られてカートリッジ100の端部板81、82の孔83、85それぞれからの係合解除を可能にしている。
【0074】
作動は、以下のようにして行われる。
カートリッジ100を分解するために、カートリッジ100が端部板81あるいは82の一方から取り出されるまで、ロックナット97がロック解除されるとともにネジ94が外される。この位置において、端部板82は、スタラップ部材92と依然として一体であり、端部板81は、所定の位置に保持されており、ネジ94は、依然として凹部93内に位置している。端部板のこの位置において、カートリッジ100は、ネジ96によって形成されている軸の回りのスタラップ部材92のわずかな回転によって他方の端部板から取り出される。この回転は、カートリッジ100の通路を解除する。再組み立てのために、逆の手続きが、勧められる。
【0075】
この組み立ての態様は、組み立て圧力が端部板81,82およびカートリッジ100に軸方向に自動的に働くという利点を与える。側方への歪みを生じる非対称的な圧力が発生する恐れがない。また、端部板81,82を所定の位置に保持する必要がなく、1本のネジによってカートリッジ100の組み立てと分解ができるので好都合であり、さらに、グローブボックス内で作業するとき、特に有利である。
【0076】
構造80にカートリッジ100を固定する他の機構的な手段は、当該技術に通常の知識を有する者にとってはその能力の範囲内において行えることである。
【0077】
密着嵌合は、シールにより達成でき、および、カートリッジ100が、開口83、85に嵌合されることにより達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 プラズマトーチの原理を示す。
【図2】 この発明により組み立てられたカートリッジの軸方向の断面図である。
【図3】 この発明により組み立てられた陰極支持体とアセンブラの下方部分の軸方向の断面図である。
【図4】 図3において示された支持体を上から見た図である。
【図5】 陰極センタリング装置とこのセンタリング装置に組み立てられた陰極の軸方向の断面図である。
【図6】 図5において示されたセンタリング装置と陰極を上から見た図である。
【図7】 図5において示されたセンタリング装置の他の例と陰極を上から見た図である。
【図8】 陽極と、この陽極に組み立てられたインサ−トと、および、この陽極に組み立てられたアセンブラの上方部分の軸方向の断面図である。
【図9】 図8に示された陽極とインサートを上から見た図である。
【図10】 アセンブラの軸方向の断面図を示す。
【図11】 概略を示されているカートリッジとともに組み立てられるこの発明によるカートリッジ接続保持構造の図12に示す面に直交する面に沿って見た軸方向の断面図である。
【図12】 カートリッジ100に組み立てられた構造80を右上部を部分的な断面図として示した前面図である。
【符号の説明】
1 陽極
3 陰極
4 センタリング装置
5 側方の外面
10 中心空洞
38 側方の外面
39、40 側方の内面
42、43 上方部分
44 導管
46 下面
49 上面
50 側方の外面
100 カートリッジ
123 環状リング
127 導管
144 導管
Claims (14)
- 軸AA′を中心とした環状のリング(123)で形成され、当該軸AA′を中心とした陰極(3)を受け入れる中心空洞(10)を有し、当該陰極(3)との間にアークを発生させる環状空間を備えた陽極(1)と、
当該陽極(1)と前記陰極(3)との間の前記環状空間に、配分された気体を供給するプラスマジーン気体配分手段と、
入口と出口を備えた、冷却流体のための冷却導管で構成された冷却手段と、
前記陽極(1)と陰極の支持体(2)の間に備えられ、前記軸を中心とした空洞(69)に前記陰極(3)を収容する環状リング形状のアセンブラ(5)と、
前記軸を中心とした空洞を有し、下面(46)と、上面(49)と、側方の外面(38、50)と、側方の内面(39、40)とを備え、少なくとも1つの上方部(42)が、前記陽極の中心空洞(10)内部に嵌合する、センタリング装置(4)と、
前記陽極の中心空洞(10)に収容された前記センタリング装置(4)の、側方の外面(50)に第1の端部を備え、当該センタリング装置(4)の上部(42、43)の上面(49)に第2の端部を備えた、プラズマジーンガスを配分するためのセンタリング装置の導管(44、144)と、
をさらに備えたプラズマトーチのためのプラズマを発生させるカートリッジ(100)において、
前記センタリング装置(4)の前記軸を中心とした空洞が、前記軸を中心として前記陰極(3)と密着し、
前記センタリング装置の導管(44、144)が、一つあるいはそれ以上のプラズマジーンガスを配分するための陽極(1)の導管(127)と接続し、当該陽極の導管(127)のそれぞれが、前記陽極(1)の外壁(11、19)に配置された前記第1の端部(128)と、前記陽極(1)の中心空洞の内壁に配置された前記第2の端部(129)の、2つの端部を備えるカートリッジ(100)。 - 前記センタリング装置(4)の導管(44、144)が、前記センタリング装置(4)の前記外面(50)を、前記センタリング装置(4)と前記陰極の間に形成された前記センタリング装置(4)の軸方向の環状の溝(45)に接続した請求項1に記載のカートリッジ(100)。
- 前記センタリング装置の導管(44、144)が、前記センタリング装置(4)の径方向の面には含まれない軸方向の線を備えている請求項1又は2に記載のカートリッジ(100)。
- 前記センタリング装置の導管(44、144)が、前記センタリング装置(4)の側方の外面(50)に形成された、環状の溝(148)に接続する請求項1から3のいずれか一項に記載のカートリッジ(100)。
- 前記センタリング装置の導管(44、144)が、前記陽極の中心空洞(10)の環状の溝(135)に接続する、請求項1から3のいずれか一項に記載のカートリッジ(100)。
- 前記センタリング装置の導管(44、144)は、前記センタリング装置(4)の側方の外面に形成された、環状の溝(148)に接続し、当該溝(148)が、前記陽極の中心空洞(10)の環状の溝(135)に接続する請求項1から3のいずれか一項に記載のカートリッジ(100)。
- 前記陽極の導管(127)が、前記陽極の中心空洞(10)を包囲する、前記陽極の環状のリング(123)の径方向の面に含まれる軸方向の線を備えている請求項1から6のいずれか一項に記載のカートリッジ(100)。
- 前記センタリング装置(4)が、前記陽極(1)の環状のリング(123)の外径と、同じ外径を備えた下方の肩(41)で嵌合し、前記肩が、下面(46)と上面(47)とを備え、当該肩の下面が、前記センタリング装置(4)の前記下面(46)を形成し、前記肩の上面(47)が、前記陽極の中心空洞(10)を遮蔽する、前記環状のリング(123)の下面(134)と接触する請求項1から7のいずれか一項に記載のカートリッジ(100)。
- 前記陰極(3)の基部(31)が、支持体(2)のリング(29)の開口(23)に収容され、前記リング(29)が、前記陽極の環状のリング(123)の外径と同じ外径を備え、前記センタリング装置の下面(46)が、前記支持体のリング(29)の上面(30)に接触する請求項8に記載のカートリッジ(100)。
- 前記陽極(1)が、前記陽極の中心空洞(10)を遮蔽する前記環状のリング(123)の回りに形成された環状の溝(122)を備え、前記支持体(2)が、前記陰極の基部(31)を収容している、前記開口(23)を遮蔽する前記リング(29)の回りに形成された環状溝(24)を備え、前記環状の溝(122)と、当該環状溝(24)とが、同一の外径を備え、内部に前記軸を中心とした空洞(69)を備える前記アセンブラ(5)が、前記支持体(2)の前記環状溝(24)に密着嵌合する下方のリング(51)と、および、前記陽極(1)の前記環状の溝(122)に密着嵌合する上方の環状リング(56)とを備え、前記アセンブラの前記軸を中心とした空洞(69)の直径が、前記陽極の環状のリング(123)の直径よりも大きく、従って、第1の環状の空間(72)が、前記陽極(1)と前記センタリング装置(4)と前記支持体(2)と前記アセンブラ(5)の間に構成され、前記環状の空間(72)を介して、前記支持体(2)の冷却導管(28)と前記陽極(1)の冷却導管(130)が前記支持体(2)の外面(21、36)と前記陽極(1)の外面(11、19)により接続される請求項9に記載のカートリッジ(100)。
- 組み立てられた状態において、前記アセンブラの上方の環状リング(56)の上面(60)が、前記陽極の環状の溝(122)の底部(124)に接触せず、従って、第2の環状空間(71)が、前記上面(60)と前記底部(124)の間に構成され、前記陽極(1)の冷却導管(130)が、前記空間(71)に接続する請求項10に記載のカートリッジ(100)。
- 組み立てられた状態において、前記アセンブラの下方のリング(51)の下面(59)が、前記支持体の環状溝(24)の底部(27)に接触せず、従って、第3の環状空間(73)が、前記下面(59)と前記底部(27)の間に構成され、前記支持体(2)の冷却導管(28)が、前記空間(73)に接続する請求項11に記載のカートリッジ(100)。
- 請求項1項から12のいずれか一項に記載のプラズマトーチのためにカートリッジ(100)を、所定の位置に接続、保持する構造(80)を備えたプラズマトーチにおいて、
前記カートリッジの前記陽極(1)を受け入れる開口(85)と、前記陽極の中心空洞(10)の上部のノズル(13)の直径に等しい直径か、あるいはより大きな直径を備えた前記軸を中心とした孔(91)とを有する上方の端部板(82)と、および、前記カートリッジの支持体(2)を受け入れる孔(83)を備えた下方の端部板(81)とを有し、前記構造が、前記カートリッジ(100)を固定するとともに、冷却流体とプラスマジーン気体のための入口(86、87)を接続する手段(92、96、94)と、前記冷却流体を排出する手段(84)とを備え、
前記カートリッジ(100)が組み立てられるとき、前記カートリッジ(100)の陽極の導管(127)および冷却導管(130)に、対向した位置決めが行われるプラズマトーチ。 - 前記接続保持構造(80)を前記カートリッジ(100)に固定する手段が、前記カートリッジの前記陽極(1)を受け入れる孔(85)を備えた、前記構造(80)の前記上方の端部板(82)に回転を固定されたスタラップ部材(92)と、前記カートリッジ(100)の前記支持体(2)を受け入れる前記孔(83)を備えた、前記構造(80)の前記下方の端部板(81)に支持体として働く前記スタラップ部材(92)に取り付けられたネジ(94)とからなる請求項13に記載のプラズマトーチ。
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