JP4929772B2 - 印刷版及びそれを用いた印刷物の製造方法 - Google Patents
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Description
そこで、印刷法の一つとしてインクジェット法が検討されている。インクジェット法は所定の部分にのみ所定の材料をパターニングできることから、材料の利用効率が高く、版も必要としないことから、最も簡便なパターニング方法として期待されている。しかしながら、現状のインクジェットのインク液滴の直径は数十μm程度であり、着弾精度も数μm程度であるため、精密なパターニングのためには、予め基板上にフォトリソ工程による隔壁などの形成が必要である。そのため、カラーフィルタのブラックマトリクスや印刷方式の薄膜トランジスタの配線などの10μm程度のパターニング方法としては、採用することができない。
本発明における可撓性基材としては、ガラスやプラスチック版などの可撓性を有さないもの以外であれば適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。印刷に適用するインキの乾燥条件に合わせて選定すればよく、耐熱性のものとしてはポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドなどが好適である。また、無機フィラーを樹脂に添加して耐熱性を向上させた材料からなる基材でもよい。フィルムおよびシートは、延伸フィルムでもよく、未延伸フィルムでもよく、また、長尺状のものでも枚葉状のものでもよい。また、可撓性基材には必要に応じて、ガスバリア層や平滑化層、すべり層から選ばれる一層または複数層が、印刷面および/または他の面に積層されていても良い。
ガラス基板上にEB蒸着によりクロムを50nm製膜し(図1(a))、フォトリソグラフィーとエッチング(図1(b)、(c))、レジスト剥離により開口部180μm、クロム部420μmのストライプパターンを形成した(図1(d))。開口部に撥インキ性を与えるために、長鎖フルオロアルキルシラン(GE東芝シリコーン製TSL8233)をイソプロピルアルコールに1重量%溶解させ、30分撹拌した溶液を前記ガラス基板にスピンコートにより塗布し、120℃で10分間乾燥させた(図1(e))。再度、エッチングをしてクロムを除去した部分に、n−オクタデシルトリメトキシシランをイソプロピルアルコールに1重量%溶解させて30分撹拌した溶液を前記ガラス基板にスピンコートにより塗布した後、120℃で10分間乾燥させた。これにより、撥インキ性パターン以外の部分にインキ剥離性の処理を施したガラス基板を得た(図1(f))。
(イ)赤色顔料
・C.I.Pigment Red 254(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレット B−CF」) 18重量部
・C.I.Pigment Red 177(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッド A2B」) 2重量部
(ロ) アクリルワニス(固形分20%) 108重量部
(ハ)上記分散体 100重量部
(ニ)メチル化メチロースメラミン:MW−30(三洋化成工業株式会社) 20重量部
(ホ)レベリング剤:メガファックF−483SF(大日本インキ化学工業株式会社)1重量部
(へ)プロピレングリコールモノメチルエーテル 85重量部
(ト)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 45重量部
ガラス基板上に、EB蒸着によりクロムを50nm製膜し(図2(a))、フォトリソとエッチング(図2(b)、(c))、レジスト剥離により開口部180μm、クロム部420μmのストライプパターンを形成した(図2(d))。開口部に撥インキ性を与えるために、加水分解性基含有シロキサン(信越シリコーン製KPN−3504)をイソプロピルアルコールに1重量%溶解させ、30分撹拌した溶液を前記ガラス基板にスピンコートにより塗布し、120℃で10分間乾燥させた(図2(e))。再度エッチングをしてクロムを除去した部分に、メチルトリメトキシシランをイソプロピルアルコールに1重量%溶解させて30分間撹拌した溶液を前記ガラス基板にスピンコートにより塗布した後、120℃で10分間乾燥させた。これにより、撥インキ性パターン以外の部分にインキ剥離性の処理を施したガラス基板を得た(図2(f))。
11 クロム
12 レジスト
21 撥インキ性パターン
22 インキ剥離性処理
30 インキ
41 可撓性基材
42 インキ受理層
Claims (4)
- ガラス基板上にシロキサン基またはフッ素原子を有するシランカップリング剤からなる撥インキ性パターンと、シリコーン樹脂またはシランカップリング剤からなるパターン形成されたインキ剥離性の処理層と、を有することを特徴とする印刷版。
- 請求項1に記載の印刷版を用いた印刷物の製造方法であって、
ガラス基板上にクロム層及び該クロム層上のレジスト層を形成する工程と、
次に、フォトリソグラフィー、エッチング、レジスト剥離により前記クロム層をクロムのストライプパターンと開口部とを形成する工程と、
次に、前記開口部にシロキサン基またはフッ素原子を有するシランカップリング剤を塗布して撥インキ性パターンを形成する工程と、
次に、エッチングをして前記クロム層のストライプパターンを除去し、前記クロム層のストライプパターンを除去したガラス基板上にシリコーン樹脂またはシランカップリング剤を塗布してインキ剥離性の処理を行う工程と、
次に、前記ガラス基板にインキを塗布してインキ液膜を形成する工程と、
次に、該インキ液膜を予備乾燥させる工程と、
次に、予備乾燥させた該インキ液膜を可撓性基材に転写する工程と、
からなることを特徴とする印刷物の製造方法。 - 前記可撓性基材の印刷面にインキ受理層が積層されていることを特徴とする請求項2に記載の印刷物の製造方法。
- 前記インキが顔料を分散させた着色インキ、または銀を分散させた導電性インキであることを特徴とする請求項2又は3に記載の印刷物の製造方法。
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