JP4929296B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
(1)図6に示すフローを縦,横,斜めの各パターンにて行い,それぞれで補正係数σ0,σπ/2,σπ/4を求める(図16参照)。
(2)図17(b)の連立方程式を解くことで,未知数a,b,θを求める。なお,第2式のπ/2は横パターンのパターン方向であり,第3式のπ/4は斜めパターンのパターン方向である。この連立方程式を解析的に解くのは困難であるが,数値計算を行えばa,b,θは一意に求まる。
σn=(smax 2-sn 2)1/2
により算出される。この計算結果を,第1の実施の形態と同様に図12に示したようなルックアップテーブルに登録し,第1の実施の形態と同様に図14(b)に示す方法で,プロファイルあるいは画像の補正を行う。
ステージ移動→1本のパターンエッジ上の複数箇所で画像を撮像(図20(a))→ステージ移動→1本のパターンエッジ上の複数箇所で画像を撮像(図20(b))→・・・を繰り返すことで,種々のイメージシフト位置における画像を撮像する。全体フローを図21に示す。図21のフローは、1本のパターンエッジを測定する毎にステージを移動する他は、図6で説明したフローと同様である。
Claims (7)
- 試料上に収束した一次荷電粒子線を走査して,試料から放出される二次荷電粒子を検出して得られるラインプロファイルを用いて前記試料上のパターン寸法を計測する荷電粒子線装置であって,
イメージシフト位置と前記一次荷電粒子線のビーム径変化を関連づけるルックアップテーブルを作成し保有する手段と,
前記ラインプロファイル取得時の前記イメージシフト位置を記憶する手段と,
前記記憶されたイメージシフト位置を前記ルックアップテーブルに当てはめることにより前記ラインプロファイル取得時のビーム径変化を算出する手段と,
前記算出されたビーム径変化を寸法計測処理に反映する手段とを有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料上に収束した一次荷電粒子線を走査して,試料から放出される二次荷電粒子を検出して得られるラインプロファイルを用いて試料上のパターン寸法を計測する荷電粒子線装置であって,
イメージシフト位置と前記一次荷電粒子線のビーム径変化を関連づけるルックアップテーブルを作成し保有する手段と,
前記ルックアップテーブルを参照して,前記イメージシフト位置と前記一次荷電粒子線のビーム径変化の関係が,規定の条件を満たすか否かの判断する手段を有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1ないし2に記載の荷電粒子線装置であって,前記ルックアップテーブルが撮像条件とリンクしていることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項1ないし2に記載の荷電粒子線装置であって,
前記イメージシフト位置と前記一次荷電粒子線のビーム径変化を関連づけるモデルを作成し保有する手段は,
種々のイメージシフト位置にてステップエッジを有する試料のラインプロファイルを取得し,前記ラインプロファイル上の試料のエッジ部に相当する箇所の波形の急峻さを定量化した特徴量と前記イメージシフト位置を関連づけたものであることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1ないし2に記載の荷電粒子線装置であって,前記ビーム径変化が二次元のガウス関数で表現されることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子線装置であって,前記ビーム径変化を寸法計測処理に反映する手段は,前記ラインプロファイルに対して,前記ビーム径の変化を補償するガウス関数の畳み込みにより実施されることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 複数の荷電粒子線装置からなる測定システムにおいて,
前記荷電粒子線装置は、試料上に収束した一次荷電粒子線を走査して,試料から放出される二次荷電粒子を検出して得られるラインプロファイルを用いて前記試料上のパターン寸法を計測する荷電粒子線装置であって,
イメージシフト位置と前記一次荷電粒子線のビーム径変化を関連づけるルックアップテーブルを作成し保有する手段と,
前記ラインプロファイル取得時の前記イメージシフト位置を記憶する手段と,
前記記憶された前記イメージシフト位置を前記ルックアップテーブルに当てはめることにより前記ラインプロファイル取得時のビーム径変化を算出する手段と,
前記算出されたビーム径変化を寸法計測処理に反映する手段とを有し、
前記ルックアップテーブルは複数の前記荷電粒子線装置の寸法計測値を共通に補正するものであることを特徴とする測定システム。
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