JP4905838B2

JP4905838B2 - 有機ｅｌパネル

Info

Publication number: JP4905838B2
Application number: JP2007272139A
Authority: JP
Inventors: 正寛皆川
Original assignee: Nippon Seiki Co Ltd
Current assignee: Nippon Seiki Co Ltd
Priority date: 2007-10-19
Filing date: 2007-10-19
Publication date: 2012-03-28
Anticipated expiration: 2027-10-19
Also published as: JP2009099485A

Description

本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を用いた有機ＥＬパネルに関し、特にパッシブ駆動の有機ＥＬパネルに関する。

従来、自発光素子である有機ＥＬ素子を透光性の基板上に設けてなる有機ＥＬパネルにおいて、その駆動方式としてパッシブ駆動方式が知られている。パッシブ駆動の有機ＥＬパネルは、透光性基板上に第一電極を複数のライン状に形成し、第二電極を前記第一電極と交差するように複数のライン状に形成して前記第一電極と前記第二電極との交差位置を発光画素とするマトリクス構造を有するものである（例えば特許文献１参照）。前記第二電極は、ライン状に形成される隔壁によって分離形成されるのが一般的である。かかる有機ＥＬパネルは、線順次走査された画像が前記表示部に表示される。パッシブ駆動の有機ＥＬパネルは、アクティブ駆動方式と比較して製造が容易であるといった利点がある。

近年、情報の多量化及び多様化によってディスプレイにはさらなる大型化・高精細化が求められている。しかし、有機ＥＬ素子の主に陽極となる第一電極に用いられるＩＴＯ等の透光性導電材料は比較的電気抵抗が高く、微細なライン状に形成する場合には電圧降下によって発光画素における輝度ムラなどが生じ、表示品位を低下させるという問題がある。

また、パッシブ駆動の有機ＥＬパネルの電極構造として、例えば特許文献２に開示されるいわゆる多重マトリクス構造が知られている。かかる多重マトリクス構造においても各発光画素間に配置される信号電極（第一電極）の配線部が細くなる部分ができるため、配線抵抗が大きくなるという問題点がある。
特開２００３−１４２２５８号公報特開２００１−２１７０８１号公報特開２０００−２１５６６号公報特開２００３−２５７６６３号公報

上記の問題点に対して、配線抵抗を小さくするために前記第一電極上に電気抵抗の小さい補助電極を配置する方法が知られている（例えば特許文献３参照）。しかし、前記補助電極を形成した場合、前記第二電極を分離形成するための前記隔壁をフォトリソグラフィー法によって形成する場合、パネル上面から照射された紫外線が前記補助電極によって反射され前記隔壁としての良好な形状（断面が逆テーパー状）が得られないといった問題点があった。また、特許文献４において、前記隔壁との交差個所において前記補助電極を分断する方法が開示されているが、前記補助配線を分断して断続的な構造とすると配線抵抗の低減が不十分であるという問題点があった。

本発明は、前述した問題点に着目し、配線部による電気抵抗の上昇を抑制し、また、隔壁を良好な形状で形成することが可能な有機ＥＬパネルを提供することを目的とする。

本発明は、前記課題を解決するために、基板上に互いに交差するように対向配置される第一電極と第二電極との間に少なくとも発光層を有する有機層を積層形成してなる有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬパネルであって、前記第二電極は、前記第一電極と交差するように形成される隔壁によってライン状に分離形成され、前記第一電極上に、前記第一電極よりも電気抵抗の低い材料からなり少なくとも前記隔壁との対向個所に他の個所よりも幅が細い幅細部を有する補助電極が連続的に形成されてなることを特徴とする。

また、前記第一電極は、前記第二電極との交差方向に複数配置される画素電極と前記画素電極に接続される配線電極とを有し、前記補助電極は、前記配線電極上に形成されてなることを特徴とする。

また、前記第一電極は、それぞれ異なる前記配線電極と接続される前記画素電極が前記第二電極との交差方向に複数個隣り合って１ユニットを構成するように形成され、前記第二電極は、前記画素電極の１ユニットと対向するように形成されてなることを特徴とする。

本発明は、有機ＥＬ素子を用いた特にパッシブ駆動の有機ＥＬパネルに関するものであり、配線部による電気抵抗の上昇を抑制し、また、隔壁を良好な形状に形成することが可能となる。

以下、本実施形態である有機ＥＬパネルについて説明する。有機ＥＬパネルは、その基本構成として、透光性のガラス基板上に形成される第一電極と第二電極との間に少なくとも発光層を有する有機層を積層形成してなるものである。

図１は、前記有機ＥＬパネルの電極構造を示すものである。前記有機ＥＬパネルは、画素電極１ａと配線電極１ｂとを有し陽極となる信号電極（第一電極）１と、信号電極１と交差するように形成され陰極となる走査電極（第二電極）２と、を有する。前記有機ＥＬパネルは、画素電極１ａと走査電極２との対向（交差）個所を発光画素（有機ＥＬ素子）とし、この発光画素をマトリクス状に複数配置して発光部を構成している。なお、走査電極２の下方には発光画素となる部分を除いて絶縁層が形成されており、信号電極１と走査電極２との短絡を防止している。また、図２は前記有機ＥＬパネルの要部拡大図であり、信号電極１の配線電極１ｂ上には補助電極３が形成されている。また、図３は、前記有機ＥＬパネルの要部断面図であり、４は前述の短絡防止用の絶縁層であり、５は少なくとも発光層を含む有機層であり、６は走査電極２を分離形成するためのリブ（隔壁）であり、７はガラス基板である。

信号電極１は、複数列のライン状に形成され、列方向（走査電極２との交差方向）に複数配置される画素電極１ａと、画素電極１ａに接続される配線電極１ｂとをそれぞれ有するものである。信号電極１は、画素電極１ａの列方向に隣り合う複数個（本実施形態では２個）を１ユニットとし、１ユニット内の画素電極１ａがそれぞれ異なる配線電極１ｂと接続されるように形成されている。すなわち信号電極１は、２ラインで前記発光画素の１列を構成するように形成される。

画素電極１ａは、例えばＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）等の透光性の導電材料をスパッタリング法等の方法で前記ガラス基板上に層状に形成し、例えばフォトリソグラフィー法にて所定形状にパターニングしてなるものである。本実施形態においては、各画素電極１ａは略矩形状に形成され、ガラス基板７上にマトリクス状に配置される。

配線電極１ｂは、画素電極１ａと同材料からなり、画素電極１ａとともに形成されるものである。配線電極１ｂは、画素電極１ａの各列の間に走査電極２と交差するように配線形成され、画素電極１ａの各列において各画素電極１ａと交互に接続される。また、配線電極１ｂはそれぞれ前記ガラス基板の一辺側に向けて配線され、信号電極側駆動回路８に接続される。信号電極側駆動回路８は、後述する走査電極側駆動回路９による走査電極２の順次走査に応じて所定の画像を表示するべく信号電極１に給電するものである。

走査電極２は、アルミニウム（Ａｌ）やマグネシウム（Ｍｇ）、コバルト（Ｃｏ）、リチウム（Ｌｉ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）あるいはそれらの合金等の信号電極１よりも導電率が高い金属性導電材料を蒸着法等によって層状に形成するとともに、絶縁性の樹脂材料をライン状に形成してなるリブ６によって複数行のライン状に分離形成してなるものである。走査電極２は、それぞれ信号電極１と交差し、列方向において画素電極１ａの１ユニットと対向するように形成される。また、走査電極２はそれぞれ走査電極側駆動回路９に接続される。走査電極側駆動回路９は、所定のＤｕｔｙ比で走査電極２を順次走査するものである。

補助電極３は、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）あるいはそれらの合金等の画素電極１ａの構成材料よりも電気抵抗の低い材料をスパッタリング法等の方法で層状に形成し、例えばフォトリソグラフィー法にて所定形状にパターニングしてなるものである。なお、補助電極３は異種材料を複数層形成してなるものであってもよい。補助電極３は、各配線電極１ｂ上に形成され、リブ６との対向個所において他の個所よりも幅が細く形成される幅細部３ａを有する。

かかる有機ＥＬパネルは、いわゆる多重マトリクス構造となるものであり、走査電極２の１ライン走査時に発光画素の２行が点灯制御されるものである。

本実施形態の有機ＥＬパネルは、補助電極３によって配線抵抗の上昇を抑制することができる。また、補助電極３は、リブ６との対向個所を他の個所よりも幅の細い幅細部３ａとすることによって、補助電極３が連続的に形成されることから配線抵抗を許容範囲内に抑えることができ、また、リブ６の形成時に紫外線の反射する面積が低減されることからリブ６を良好な形状に形成することができる。

また、本実施形態においては、２個の画素電極１ａで１ユニットを構成し、１ユニット内の各画素電極１ａを異なる配線電極１ｂに接続するものであったが、本発明は、３個以上の画素電極で１ユニットを構成するものであっても良い。すなわち、走査電極の１ラインに対して異なる配線電極に接続される３つ以上の画素電極が対向して配置される構成とするものであっても良い。また、信号電極１を単にライン状に形成する単純マトリクス構造であっても良い。この場合、信号電極１の発光画素に対応しない個所（例えば端部）上に補助電極が形成されることとなる。これらの構成においても本発明を適用することによって、同様の効果を得ることができる。

本発明の実施形態である有機ＥＬパネルの電極構造を示す概観図である。同上有機ＥＬパネルの要部拡大図である。同上有機ＥＬパネルの要部断面図である。

符号の説明

１信号電極（第一電極）
１ａ画素電極
１ｂ配線電極
２走査電極（第二電極）
３補助電極
３ａ幅細部
４絶縁層
５有機層
６リブ（隔壁）
７ガラス基板
８信号電極側駆動回路
９走査電極側駆動回路

Claims

基板上に形成される第一電極とこの第一電極と交差するように形成される第二電極との間に少なくとも発光層を有する有機層を積層形成してなる有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬパネルであって、
前記第二電極は、前記第一電極と交差するように形成される隔壁によってライン状に分離形成され、
前記第一電極上に、前記第一電極よりも電気抵抗の低い材料からなり少なくとも前記隔壁との対向個所に他の個所よりも幅が細い幅細部を有する補助電極が連続的に形成されてなることを特徴とする有機ＥＬパネル。
前記第一電極は、前記第二電極との交差方向に複数配置される画素電極と前記画素電極に接続される配線電極とを有し、
前記補助電極は、前記配線電極上に形成されてなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
前記第一電極は、それぞれ異なる前記配線電極と接続される前記画素電極が前記第二電極との交差方向に複数個隣り合って１ユニットを構成するように形成され、
前記第二電極は、前記画素電極の１ユニットと対向するように形成されてなることを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬパネル。