JP4889223B2 - 酸化アルミニウム質焼結体とこれを用いた半導体製造装置用部材並びに液晶製造装置用部材 - Google Patents
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Description
面近傍の気孔を少なくし、例えば、焼結体表面にプラズマが照射された場合においては、焼結体の粒界に存在する空隙部分を抑制でき耐プラズマ性を向上させることができる。
ローソーダ酸化アルミニウム粉末対して、副成分として水酸化マグネシウム、炭酸カルシウムおよび酸化ケイ素の少なくとも一種とリンを添加し、高速分散型ミルで水中に分散、スラリー化した後、噴霧乾燥してセラミック粉末を得た。このセラミック粉末を直径60mm×厚さ60mmの成形体に1000kg/cm2で加圧成形し、1650℃で2時間加熱して酸化アルミニウム質焼結体を得た。
次に、実施例1と同じ酸化アルミニウム粉末に対して、副成分として水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、および酸化珪素を少なくとも一種とリンを添加し、実施例1と同様にして酸化アルミニウム質焼結体を得た。
次に、実施例1および2と同様にして酸化アルミニウム質焼結体を得た。得られた焼結体を用いて、焼結体の表面近傍の密度と内部の密度、エッチングレート、および4点曲げ強度、および平均結晶粒径の測定を行った。
Claims (8)
- 含有量が99重量%以上の酸化アルミニウムと、酸化マグネシウム、酸化カルシウムおよび酸化珪素から選ばれる少なくとも1種類とを含有してなる酸化アルミニウム質焼結体であって、リンを含み、該酸化アルミニウム質焼結体100重量部に対して、リンを0.0025重量部以下含有していることを特徴とする酸化アルミニウム質焼結体。
- 焼結体内部の密度差が0.05g/cm3以下であることを特徴とする請求項1記載の酸化アルミニウム質焼結体。
- 誘電正接が10×10−4以下であることを特徴とする請求項1または2記載の酸化アルミニウム質焼結体。
- 上記酸化アルミニウムの含有量が99.2重量%以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の酸化アルミニウム質焼結体。
- 上記酸化マグネシウムを0.05重量%以上含有するとともに、平均結晶粒径が10μm以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の酸化アルミニウム質焼結体。
- 表面の密度が3.90g/cm3以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の酸化アルミニウム質焼結体。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の酸化アルミニウム質焼結体からなることを特徴とする半導体製造装置用部材。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の酸化アルミニウム質焼結体からなることを特徴とする液晶製造装置用部材。
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