JP4884149B2 - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の露光を行う露光装置、露光方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。

表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置は、感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布した基板へ、マスクを介して露光光を照射することにより、マスクのパターンを基板へ転写するものである。

一般に、露光装置の露光光照射装置は、露光光を発生する光源と、光源が発生した露光光を遮断するシャッターとを備え、シャッターの開放時間を調節することにより、露光時間を調節して、露光光の光量を一定に保っている。この様な露光光照射装置のシャッター機構として、例えば、特許文献１に記載のものがある。
特開平１１−６７６５６号公報

露光光の光量は、露光光の照度と露光時間とに比例する。近年、表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、露光光照射装置の光源により輝度の高いものを使用する様になってきた。光源の輝度が高い程、露光光の照度が高くなり、露光時間が短く済んでタクトタイムが短縮され、スループットが向上する。

一方、近年、高感度のフォトレジストが実用化されるに伴い、露光に必要な露光光の少量化が進んでいる。露光光の照度が高く、露光に必要な露光光の光量が少ない場合、シャッターの開放時間を短くして、露光時間を短くしなければならない。しかしながら、特許文献１に記載の様に２枚のシャッター板を交互に動作させる従来のシャッターでは、シャッターの開放時間を各シャッター板の動作時間より短くすることができなかった。

また、特許文献１に従来の技術として記載されている従来の回転式シャッター機構は、露光光の光路径の２倍以上の大きさのシャッター板が必要であり、大型のシャッター板の回転を急速に開始及び停止するのが困難であるため、シャッターの開放時間を短くするには限界があった。

本発明の課題は、シャッターの動作を高速化して、露光光の光量を微少に調節することである。また、本発明の課題は、品質の高い基板を短いタクトタイムで製造することである。

本発明の露光装置は、露光光を遮断するシャッターが、露光光の光路内で露光光の進行方向とほぼ直交する方向に回転軸を有し、回転軸を含む平面に回転軸を中心として左右に構成され、回転軸の方向の長さが露光光の光路径より大きく、かつ回転軸と直交する方向の幅が露光光の光路径より小さい複数の回転板を備え、隣り合う各回転板が、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て互いに一部重なる様に設けられ、各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光の照度分布を均一にするレンズを有し、各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光により基板を露光するものである。

また、本発明の露光方法は、露光光を遮断するシャッターとして、露光光の光路内で露光光の進行方向とほぼ直交する方向に回転軸を有し、回転軸を含む平面に回転軸を中心として左右に構成され、回転軸の方向の長さが露光光の光路径より大きく、かつ回転軸と直交する方向の幅が露光光の光路径より小さい複数の回転板を設け、隣り合う各回転板を、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て互いに一部重なる様に設け、各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光の照度分布を均一にするレンズを設け、各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光により基板を露光するものである。

露光光を遮断するシャッターとして、複数の回転板を設け、各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光により基板を露光するので、露光光の光量は、回転板の回転速度により調節される。各回転板は、従来の回転式シャッター機構のシャッター板とは異なり、露光光の光路内で露光光の進行方向とほぼ直交する方向に回転軸を有し、回転軸を含む平面に回転軸を中心として左右に構成され、回転軸の方向の長さが露光光の光路径より大きく、かつ回転軸と直交する方向の幅が露光光の光路径より小さいので、回転を急速に開始及び停止することができる。従って、シャッターの動作が高速化されて、シャッターの開放時間を短くすることが可能となり、露光光の光量が微少に調節される。

また、回転板の数を増やすことによって、各回転板の回転軸と直交する方向の幅を抑えたまま、露光光の光路径の増大に対応することができる。

さらに、本発明の露光装置は、隣り合う２つの回転板が、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設けられたものである。また、本発明の露光方法は、隣り合う２つの回転板を、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設けるものである。

もし、複数の回転板が露光光を遮断するとき一列に並ぶ様に構成すると、露光光の漏れを防止するために、各回転板の縁を高精度に加工しなければならず、また各回転板の回転軸を高精度に調整しなければならない。本発明では、隣り合う２つの回転板を、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設けるので、各回転板の縁を高精度に加工する必要がなく、また各回転板の回転軸を高精度に調整する必要がない。従って、各回転板の加工及び調整が容易となる。

さらに、本発明の露光装置は、隣り合う２つの回転板が、互いに逆方向に回転するものである。また、本発明の露光方法は、隣り合う２つの回転板を、互いに逆方向に回転するものである。

上述の様に、隣り合う２つの回転板を、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設ける場合、もし、隣り合う２つの回転板を同方向に回転すると、２つの回転板の衝突を防止するために、開くときは閉じたときの逆回転を行うか、あるいは、２つの回転板を露光光の進行方向にかなり離して設置しなければならない。本発明では、隣り合う２つの回転板を、互いに逆方向に回転するので、各回転板を逆回転する必要がなく、各回転板の駆動が容易となる。そして、２つの回転板を、露光光の進行方向に少し離して設置するだけで、２つの回転板の衝突を防止できるので、露光光が回折して漏れる心配がなく、また露光光の進行方向の設置面積が小さく済む。

本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかの露光装置又は露光方法を用いて、マスクのパターンを基板へ転写するものである。上記の露光装置又は露光方法を用いることにより、シャッターの動作が高速化されて、露光光の光量が微少に調節されるので、高品質な基板が短いタクトタイムで製造される。

本発明の露光装置及び露光方法によれば、露光光を遮断するシャッターとして、露光光の光路内で露光光の進行方向とほぼ直交する方向に回転軸を有し、回転軸を含む平面に回転軸を中心として左右に構成され、回転軸の方向の長さが露光光の光路径より大きく、かつ回転軸と直交する方向の幅が露光光の光路径より小さい複数の回転板を設け、隣り合う各回転板を、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て互いに一部重なる様に設け、各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光の照度分布を均一にするレンズを設け、各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光により基板を露光することにより、シャッターの動作を高速化して、露光光の光量を微少に調節することができる。

また、回転板の数を増やすことによって、各回転板の回転軸と直交する方向の幅を抑えたまま、露光光の光路径の増大に対応することができる。

さらに、本発明の露光装置及び露光方法によれば、隣り合う２つの回転板を、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設けることにより、各回転板の加工及び調整を容易にすることができる。

さらに、本発明の露光装置及び露光方法によれば、隣り合う２つの回転板を、互いに逆方向に回転することにより、各回転板の駆動を容易にすることができる。そして、２つの回転板を、露光光の進行方向に少し離して設置するだけで、２つの回転板の衝突を防止できるので、露光光が回折して漏れる心配がなく、また露光光の進行方向の設置面積が小さく済む。

本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、シャッターの動作を高速化して、露光光の光量を微少に調節することができるので、高品質な基板を短いタクトタイムで製造することができる。

図１は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の例を示している。露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、Ｚ−チルト機構９、チャック１０、マスクホルダ２０、露光光照射装置３０、入出力装置４０、積算照度計５０、制御装置６０、及びモータ駆動回路７０を含んで構成されている。なお、露光装置は、これらの他に、基板１を搬入する搬入ユニット、基板１を搬出する搬出ユニット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。

図１において、チャック１０は、基板１の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスクホルダ２０によってマスク２が保持されている。基板１は、露光位置から離れた受け渡し位置において、図示しない搬入ユニットによりチャック１０へ搭載され、また図示しない搬出ユニットによりチャック１０から回収される。

チャック１０は、Ｚ−チルト機構９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に沿ってＸ方向（図面横方向）へ移動する。Ｘステージ５のＸ方向への移動によって、チャック１０は受け渡し位置と露光位置との間を移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に沿ってＹ方向（図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８はθ方向へ回転し、Ｚ−チルト機構９はＺ方向（図面縦方向）へ移動及びチルトする。

露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転によって、基板１の位置決めが行われる。また、Ｚ−チルト機構９のＺ方向への移動及びチルトによって、マスク２と基板１とのギャップ制御が行われる。

マスクホルダ２０の上空には、露光光照射装置３０が設けられている。露光光照射装置３０は、ランプ３１、集光鏡３２、第１平面鏡３３、レンズ３４ａ，３４ｂ、シャッター３５、コリメーターレンズ３６、第２平面鏡３７、及びモータ３８ａ，３８ｂを含んで構成されている。

ランプ３１で発生した露光光は、集光鏡３２により集光され、第１平面鏡３３で反射する。第１平面鏡３３で反射した露光光は、フライアイレンズ又はロットレンズ等からなるレンズ３４ａへ入射し、レンズ３４ａを透過して照度分布が均一になる。シャッター３５が開いているとき、シャッター３５を通過した露光光は、フライアイレンズ又はロットレンズ等からなるレンズ３４ｂへ入射し、レンズ３４ｂを透過して照度分布が再び均一になる。そして、コリメーターレンズ３６を透過して平行光線束となり、第２平面鏡３７で反射して、マスク２へ照射される。

図２は、シャッターの外観図である。図２（ａ）はシャッターが閉じた状態を示し、図２（ｂ）はシャッターが開いた状態を示す。本実施の形態では、シャッター３５が、２枚の回転板３５ａ，３５ｂにより構成されている。

なお、シャッターを構成する回転板の数はこれに限らず、３枚以上の回転板でシャッターを構成してもよい。

回転板３５ａ，３５ｂは、矢印で示す露光光の進行方向と交わる方向に回転軸Ｒを有し、回転軸Ｒと直交する方向の幅Ｗが露光光の光路径より小さい。回転板３５ａ，３５ｂの回転軸Ｒには、モータ３８ａ，３８ｂがそれぞれ接続されている。モータ３８ａ，３８ｂは、図１のモータ駆動回路７０により駆動されて、それぞれ回転板３５ａ，３５ｂを回転する。

なお、本実施の形態では、回転板３５ａ，３５ｂの回転軸Ｒが、露光光の進行方向とほぼ直交しているが、本発明では、回転板の回転軸が露光光の進行方向と平行でなければよい。

図２（ａ）に示す様に、回転板３５ａと回転板３５ｂは、露光光の進行方向に距離Ｌだけ離して設置されており、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設けられている。従って、シャッターが閉じた状態では、露光光の進行方向に見て、回転板３５ａ，３５ｂの間に隙間はなく、露光光が回転板３５ａ，３５ｂにより遮断される。一方、図２（ｂ）に示す様に、シャッターが開いた状態では、回転板３５ａ，３５ｂの回転により、回転板３５ａ，３５ｂの両脇に隙間が発生し、露光光が通過する。

もし、回転板３５ａ，３５ｂが露光光を遮断するとき一列に並ぶ様に構成すると、露光光の漏れを防止するために、回転板３５ａ，３５ｂの縁を高精度に加工しなければならず、また回転板３５ａ，３５ｂの回転軸Ｒを高精度に調整しなければならない。本実施の形態では、隣り合う２つの回転板３５ａ，３５ｂを、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設けるので、回転板３５ａ，３５ｂの縁を高精度に加工する必要がなく、また回転板３５ａ，３５ｂの回転軸Ｒを高精度に調整する必要がない。従って、回転板３５ａ，３５ｂの加工及び調整が容易となる。

図１において、入出力装置４０には、基板１の大きさ、露光時間、基板１の露光に必要な露光光の光量等の情報が入力される。制御装置６０は、入出力装置４０に入力された情報に基づき、回転板３５ａ，３５ｂの回転速度を決定し、回転指示信号をモータ駆動回路７０へ出力する。モータ駆動回路７０は、制御装置６０からの回転指示信号に従って、モータ３８ａ及びモータ３８ｂを駆動し、両モータを同期制御して、回転板３５ａ，３５ｂを指示された回転速度で回転する。露光装置は、回転板３５ａ，３５ｂの回転で発生する隙間を通過した露光光により基板１の露光を行う。

回転板３５ａ，３５ｂの回転が終了すると、モータ駆動回路７０は、動作終了信号を制御装置６０へ出力する。積算照度計５０は、シャッター３５を通過した露光光の光量を測定し、測定結果を制御装置６０へ出力する。制御装置６０は、積算照度計５０の測定結果を入出力装置４０に表示する。

図３及び図４は、シャッターの動作を説明する図である。図３及び図４は、図１の回転板３５ａ，３５ｂを上から見た状態を示している。本実施の形態では、シャッターを開閉するとき、隣り合う２つの回転板３５ａ，３５ｂを、互いに逆方向に回転する。

なお、図３及び図４では、回転板３５ａを反時計回りに回転し、回転板３５ｂを時計回りに回転しているが、回転板３５ａを時計回りに回転し、回転板３５ｂを反時計回りに回転してもよい。

待機状態では、図３（ａ）に示す様に、回転板３５ａ，３５ｂが露光光の進行方向と垂直になっており、シャッターは閉じている。まず、回転板３５ａ，３５ｂを各矢印の方向へそれぞれ回転して、シャッターを開く。図３（ｂ），（ｃ），（ｄ）に示す様に、回転板３５ａ，３５ｂを回転していくと、露光光の進行方向に見て、２つの回転板の両脇に隙間が発生し、発生した隙間が段々大きくなる。図３（ｄ）に示す様に回転板３５ａ，３５ｂが９０度回転すると、シャッターが完全に開いた状態となる。

続いて、回転板３５ａ，３５ｂを各矢印の方向へそれぞれさらに回転して、シャッターを閉じる。図４（ａ）は、図３（ｄ）と同じ状態を示す。図４（ｂ），（ｃ），（ｄ）に示す様に、回転板３５ａ，３５ｂをさらに回転していくと、露光光の進行方向に見て、２つの回転板の両脇に発生した隙間が段々小さくなる。図４（ｄ）に示す様に回転板３５ａ，３５ｂが１８０度回転した状態で、回転板３５ａ，３５ｂの回転を停止する。このとき、回転板３５ａ，３５ｂが再び露光光の進行方向と垂直になって、シャッターが閉じる。

隣り合う２つの回転板３５ａ，３５ｂを、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設ける場合、もし、隣り合う２つの回転板３５ａ，３５ｂを同方向に回転すると、２つの回転板３５ａ，３５ｂの衝突を防止するために、開くときは閉じたときの逆回転を行うか、あるいは、２つの回転板３５ａ，３５ｂを露光光の進行方向にかなり離して設置しなければならない。本実施の形態では、隣り合う２つの回転板３５ａ，３５ｂを、互いに逆方向に回転するので、回転板３５ａ，３５ｂを逆回転する必要がなく、回転板３５ａ，３５ｂの駆動が容易となる。そして、２つの回転板３５ａ，３５ｂを、露光光の進行方向に少し離して設置するだけで、２つの回転板３５ａ，３５ｂの衝突を防止できるので、露光光が回折して漏れる心配がなく、また露光光の進行方向の設置面積が小さく済む。

本実施の形態において、露光光の光量は、回転板３５ａ，３５ｂの回転速度により調節される。回転板３５ａ，３５ｂの回転速度を遅くすると、露光光の光量が多くなり、回転板３５ａ，３５ｂの回転速度を速くすると、露光光の光量が少なくなる。

なお、本実施の形態では、シャッターの開閉を一連の動作で行っているが、露光時間が長い場合には、図３（ｄ）に示す状態で、回転板３５ａ，３５ｂの回転を一旦停止してもよい。その場合、露光光の光量は、回転板３５ａ，３５ｂの回転速度と、回転板３５ａ，３５ｂの回転を一旦停止する停止時間とに依存する。

回転板３５ａ，３５ｂは、従来の回転式シャッター機構のシャッター板とは異なり、露光光の進行方向と交わる方向に回転軸Ｒを有し、回転軸Ｒと直交する方向の幅Ｗが露光光の光路径より小さいので、回転を急速に開始及び停止することができる。従って、モータ駆動回路７０は、回転板３５ａ，３５ｂの回転速度を低速から高速まで広範囲かつ高精度に調節することが可能となり、露光光の光量が広範囲かつ高精度に制御される。

以上説明した実施の形態によれば、露光光を遮断するシャッター３５として、露光光の進行方向と交わる方向に回転軸Ｒを有し、かつ回転軸Ｒと直交する方向の幅Ｗが露光光の光路径より小さい回転板３５ａ，３５ｂを設け、回転板３５ａ，３５ｂの回転で発生する隙間を通過した露光光により基板１を露光することにより、シャッターの動作を高速化して、露光光の光量を微少に調節することができる。

また、回転板の数を増やすことによって、各回転板の回転軸Ｒと直交する方向の幅Ｗを抑えたまま、露光光の光路径の増大に対応することができる。

さらに、隣り合う２つの回転板３５ａ，３５ｂを、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て一部重なる様に設けることにより、回転板３５ａ，３５ｂの加工及び調整を容易にすることができる。

さらに、隣り合う２つの回転板３５ａ，３５ｂを、互いに逆方向に回転することにより、回転板３５ａ，３５ｂの駆動を容易にすることができる。そして、２つの回転板３５ａ，３５ｂを、露光光の進行方向に少し離して設置するだけで、２つの回転板３５ａ，３５ｂの衝突を防止できるので、露光光が回折して漏れる心配がなく、また露光光の進行方向の設置面積が小さく済む。

本発明は、プロキシミティ露光装置に限らず、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影する投影露光装置にも適用することができる。

本発明の露光装置又は露光方法を用いて、マスクのパターンを基板へ転写することにより、シャッターの動作を高速化して、露光光の光量を微少に調節することができるので、高品質な基板を短いタクトタイムで製造することができる。

例えば、図５は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、ガラス基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、ガラス基板上にＴＦＴアレイが形成される。

また、図６は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、ガラス基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。

図５に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図６に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明の露光装置又は露光方法を適用することができる。

本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。 シャッターの外観図である。 シャッターの動作を説明する図である。 シャッターの動作を説明する図である。 液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。 液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。

符号の説明

１ 基板
２ マスク
３ ベース
４ Ｘガイド
５ Ｘステージ
６ Ｙガイド
７ Ｙステージ
８ θステージ
９ Ｚ−チルト機構
１０ チャック
２０ マスクホルダ
３０ 露光光照射装置
３１ ランプ
３２ 集光鏡
３３ 第１平面鏡
３４ａ，３４ｂ レンズ
３５ シャッター
３５ａ，３５ｂ 回転板
３６ コリメーターレンズ
３７ 第２平面鏡
３８ａ，３８ｂ モータ
４０ 入出力装置
５０ 積算照度計
６０ 制御装置
７０ モータ駆動回路

Claims (6)

1. 露光光を遮断するシャッターが、露光光の光路内で露光光の進行方向とほぼ直交する方向に回転軸を有し、回転軸を含む平面に回転軸を中心として左右に構成され、回転軸の方向の長さが露光光の光路径より大きく、かつ回転軸と直交する方向の幅が露光光の光路径より小さい複数の回転板を備え、
   隣り合う各回転板が、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て互いに一部重なる様に設けられ、
   各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光の照度分布を均一にするレンズを有し、
   各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光により基板を露光することを特徴とする露光装置。
2. 隣り合う２つの回転板が、互いに逆方向に回転することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 露光光を遮断するシャッターとして、露光光の光路内で露光光の進行方向とほぼ直交する方向に回転軸を有し、回転軸を含む平面に回転軸を中心として左右に構成され、回転軸の方向の長さが露光光の光路径より大きく、かつ回転軸と直交する方向の幅が露光光の光路径より小さい複数の回転板を設け、
   隣り合う各回転板を、露光光を遮断するとき露光光の進行方向に見て互いに一部重なる様に設け、
   各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光の照度分布を均一にするレンズを設け、
   各回転板の回転で発生する隙間を通過した露光光により基板を露光することを特徴とする露光方法。
4. 隣り合う２つの回転板を、互いに逆方向に回転することを特徴とする請求項３に記載の露光方法。
5. 請求項１又は請求項２に記載の露光装置を用いて、マスクのパターンを基板へ転写することを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
6. 請求項３又は請求項４に記載の露光方法を用いて、マスクのパターンを基板へ転写することを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。

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