JP4882384B2 - 面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置及びデバイスの製造方法 Download PDFInfo
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Description
P=A・sin[2π/T(t−t0)]
但し、
P:走査位置
A:換算係数
T:走査周期
t:時間
t0:基準となる振動中心の時間
である。
Claims (8)
- 所定のパターンが形成されたパターン部材の前記所定のパターンを介した光を被検面に斜め方向から照射する送光光学系、および前記被検面によって反射された前記光をもとに前記所定のパターンの空間像を形成する受光光学系を含む結像光学系と、
前記空間像が形成される位置に配置され、前記光が通過可能な受光スリットを有する受光スリット部材と、
前記空間像と前記受光スリットとを所定方向に相対的に走査させる走査手段と、
前記受光スリットを通過した前記光を光電変換する光電変換手段と、
前記光電変換手段の変換結果に基づき、前記受光スリット上に形成された前記空間像の光強度分布を取得し、該光強度分布に基づいて前記被検面の面位置を検出する検出手段と、を備え、
前記所定方向に関する前記受光スリットの幅は、前記所定方向に関する前記空間像の幅より細いことを特徴とする面位置検出装置。 - 前記結像光学系は、スリット状の前記空間像を形成し、
前記受光スリットの短手方向の幅は、前記空間像の短手方向の幅より細く設定され、
前記走査手段は、前記空間像と前記受光スリットとを、前記空間像および前記受光スリットの長手方向と異なる方向に相対的に走査させることを特徴とする請求項1に記載の面位置検出装置。 - 前記走査手段は、前記送光光学系または前記受光光学系内に設けられ、前記所定方向に対応する方向に振動しつつ前記光を反射するミラー素子を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の面位置検出装置。
- 前記送光光学系は、前記パターン部材のうち前記送光パターンが形成された面と前記被検面とがシャインプルーフの関係を満足するように設けられ、
前記受光光学系は、前記受光スリット部材のうち前記受光スリットが設けられた面と前記被検面とがシャインプルーフの関係を満足するように設けられることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の面位置検出装置。 - 所定のパターンを介した光を被検面に斜め方向から照射し、該被検面によって反射された前記光をもとに前記所定のパターンの空間像を形成する空間像形成工程と、
前記空間像が形成される位置に配置され前記光が通過可能な受光スリットと、前記空間像とを所定方向に相対的に走査させる走査工程と、
前記受光スリットを通過した前記光を光電変換する光電変換工程と、
前記光電変換工程の変換結果に基づき、前記受光スリット上に形成された前記空間像の光強度分布を取得し、該光強度分布に基づいて前記被検面の面位置を検出する検出工程と、
を含み、
前記所定方向に関する前記受光スリットの幅は、前記所定方向に関する前記空間像の幅より細いことを特徴とする面位置検出方法。 - 前記空間像形成工程は、スリット状の前記空間像を形成し、
前記受光スリットの短手方向の幅は、前記空間像の短手方向の幅より細く設定され、
前記走査工程は、前記空間像と前記受光スリットとを、前記空間像および前記受光スリットの長手方向と異なる方向に相対的に走査させることを特徴とする請求項5に記載の面位置検出方法。 - 投影光学系を介して感光性基板に露光光を照射する露光装置であって、
前記投影光学系に対する前記感光性基板の面位置を検出する請求項1〜4のいずれか一項に記載の面位置検出装置を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項7に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006011634A JP4882384B2 (ja) | 2006-01-19 | 2006-01-19 | 面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置及びデバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006011634A JP4882384B2 (ja) | 2006-01-19 | 2006-01-19 | 面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置及びデバイスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007192685A JP2007192685A (ja) | 2007-08-02 |
JP4882384B2 true JP4882384B2 (ja) | 2012-02-22 |
Family
ID=38448504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006011634A Expired - Fee Related JP4882384B2 (ja) | 2006-01-19 | 2006-01-19 | 面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置及びデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4882384B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7982884B2 (en) | 2007-11-28 | 2011-07-19 | Nikon Corporation | Autofocus system with error compensation |
NL2005821A (en) | 2009-12-23 | 2011-06-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of applying a pattern to a substrate. |
NL2009612A (en) * | 2011-11-21 | 2013-05-23 | Asml Netherlands Bv | Level sensor, a method for determining a height map of a substrate, and a lithographic apparatus. |
WO2013168457A1 (ja) * | 2012-05-07 | 2013-11-14 | 株式会社ニコン | 面位置計測装置、面位置計測方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
WO2013168456A1 (ja) * | 2012-05-07 | 2013-11-14 | 株式会社ニコン | 面位置計測装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2016015371A (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-28 | ウシオ電機株式会社 | 厚さ測定装置、厚さ測定方法及び露光装置 |
CN114598986B (zh) * | 2020-12-04 | 2023-05-26 | 维沃移动通信有限公司 | 副链路sl上的定位方法、装置及终端 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0739955B2 (ja) * | 1988-06-23 | 1995-05-01 | 株式会社ニコン | 表面変位検出装置 |
JP2001074419A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-23 | Nova Measuring Instruments Ltd | パターン化された構造体の測定方法及び測定装置 |
JP3647022B2 (ja) * | 2000-04-03 | 2005-05-11 | 株式会社リガク | 熱天秤装置の回動量検出装置 |
JP2002196222A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-12 | Nikon Corp | 面位置検出装置、露光装置 |
JP2003294413A (ja) * | 2002-04-01 | 2003-10-15 | Keyence Corp | 光学式検出器 |
JP4289158B2 (ja) * | 2004-01-13 | 2009-07-01 | 株式会社ニコン | 面位置検出装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
-
2006
- 2006-01-19 JP JP2006011634A patent/JP4882384B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007192685A (ja) | 2007-08-02 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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