JP4875037B2 - 磁気メモリ、その再生方法、および書き込み方法 - Google Patents
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Description
F. J. Albert, et al., Appl. Phy. Lett. 77, 3809 (2000)
を特徴とする。
また、本発明の第4の態様による磁気メモリの書き込み方法は、第1の態様による磁気メモリにおいて、前記第3強磁性層に電気的に接続されるとともに前記第3強磁性層に対して相対運動が可能でかつ自身の磁化の方向を変えることの可能な磁性プローブを更に有し、前記第2強磁性層の磁化は、前記磁性プローブの磁化の方向に応じて膜面に略垂直な方向に向くように制御される磁気メモリの書き込み方法であって、前記磁性プローブの磁化の向きを調整することにより、前記第2強磁性層の磁化を膜面に略垂直方向に向かせるステップと、前記第2強磁性層から前記第1強磁性層もしくは前記第3強磁性層に向けて電子を流すことにより、電子が流入した前記第1強磁性層もしくは前記第3強磁性層の磁化の向きを前記第2強磁性層の磁化と同じ向きとなるように変化させるステップと、を備えていることを特徴とする。
まず、本発明の第1実施形態による磁気メモリを説明する。本実施形態による磁気メモリは、マトリクス状に配列された複数のメモリセルを有している。本実施形態に係るメモリセルの基本構成を図1(a)、1(b)に示す。このメモリセル1は、強磁性層を有する第1磁気記録層2、第1バリア層4、強磁性層を有する磁気参照層6、第2バリア層8、および、強磁性層を有する第2磁気記録層10がこの順序で積層された積層構造を有している。磁気記録層2、10は情報を蓄える記録する層であり、磁気参照層6は磁気記録層2、10に情報を記録再生するための参照層である。
次に、本実施形態の磁気メモリのメモリセル1に記録する方法を説明する。
第1磁気記録層の磁化を上向き→下向きに変化
図10(a)を参照して第1磁気記録層2の磁化を上向きから下向きへ反転させる例を説明する。磁性体プローブ30の磁化Mの方向を下向きにして、電子が磁気参照層6から記録したい磁気記録層に流入する方向(この場合は、磁気参照層6から第1磁気記録層2に向けて電子が流れるように)に通電を行う。磁性体プローブ30の磁化Mの方向を下向きにすることで磁気参照層6の磁化方向は下方向を向く。さらに電子を磁気参照層6から第1磁気記録層2に流す(電流を磁気参照層6から磁性プローブ30に流す)ことで、磁気参照層6から第1磁気記録層2へは下向きのスピンが流入し、スピントランスファー効果により第1磁気記録層2の磁化は下向きのトルクを受ける。さらに、第1磁気記録層2の磁化は、磁性プローブ30および磁気参照層6からの磁界によるアシストを受けるため低電流で早く回ることができる。図10(a)中、記号STは磁気参照層6からくる電子により磁気記録層2にかかるスピントランスファートルク、記号Hは磁気参照層6および磁性プローブ30により磁気記録層2にかかる磁界トルクを示す。また、記号「+」は向けたい方向にアシストする状況、記号「−」は逆に不安定な方向に作用する状況を示している。図10(a)においては、第1磁気記録層2にとってはスピントランスファートルクSTも磁界による磁界トルクHもアシスト(すなわち記録しやすい方向)状況であることを示している。また、磁界印加が行われ続けているため磁気参照層6の磁化が第1磁気記録層2から反射される上向きスピンの電子で回転しない。
第1磁気記録層2の磁化を下向きから上向きに反転する場合を図12(a)、12(b)を参照して説明する。磁性プローブ30の向きを上向きにして磁気参照層6の磁化を上向きにし、電子を書き換えたい層に磁気参照層6から流入させる。この場合は、磁気参照層6から第1磁気記録層2に流入させることによって達成できる。第2磁気記録層10に対するスピントランスファートルクSTおよび磁界トルクHの影響は、第2磁気記録層10の磁化が磁性プローブ30の磁化Mと逆向きである図12(a)に示す場合は、図10(b)に示す場合に相当し、同じ向きである図12(b)の場合は、図10(a)に示す場合に相当する。したがって、第1磁気記録層2の磁化を下向きから上向きに反転する場合も、第1磁気記録層2の磁化を上向きから下向きに反転する場合と同様に、安定に第1磁気記録層2のみを記録することができる。
第2磁気記録層10の磁化を反転させる場合を、図13(a)、13(b)を参照して説明する。電子が磁気参照層6から記録したい第2磁気記録層10に流入する方向に通電を行う。図10(a)、10(b)、図12(a)、12(b)に示したように第1磁気記録層2を記録する時と同様の作用が第2磁気記録層10に働く。図13(a)は第1磁気記録層2の磁化が上向きで磁気参照層6の磁化と同じ方向の場合を示し、図13(b)は第1磁気記録層2の磁化が下向きで磁気参照層6の磁化と逆方向の場合を示している。第2磁気記録層10に関しては、スピントランスファートルクSTが「+」、磁界トルクHが「+」であり、安定に低電流でかつ早く磁化回転を起こす(記録される)。第1磁気記録層2は、図13(a)に示す場合においては、スピントランスファートルクSTが「−」で、磁界トルクHが「+」であり、図13(b)に示す場合では、スピントランスファートルクSTが「+」で、かつ磁界トルクHが「−」であるので、2つのトルクのうち一方のトルクで不安定になるのを、もう一方トルクでキャンセルする状態となっている。したがって、第2磁気記録層10を上向きおよび下向き(図示せず)に記録する場合も、第2磁気記録層10にはスピントランスファーSTおよび磁界トルクHがアシストで加わり、さらにスピントランスファーSTは反平行→平行への記録であるので、低電流で記録することができる。この記録したい方向に磁気参照層6を向けるのは常に反平行→平行へのスピントランスファー作用を及ぼすことになる。そのため、スピントランスファーで記録を行う、磁気参照層が1層で磁気記録層が1層で構成される一般的なMRAMのように反平行→平行(電流小)、平行→反平行(電流大)の動作にくらべて小電流密度なメモリセルの省電力化設計ができる。そのため、バリア層を厚くして大出力化を図ってS/Nを向上させることが可能となる。
本実施形態の磁気メモリにおいて、図3に示すように、磁性プローブ30がメモリセル1の上面に来ていないメモリセルにおける磁気参照層6の磁化方向は一様ではないことがわかる。例えば、第2磁気記録層10の磁化が上(下)向きで、第1磁気記録層2の磁化が下(上)向きのメモリセル1a(メモリセル1d)では、磁気参照層6の磁化は略面内を向く。一方、第2磁気記録層10の磁化が上(下)向きで、第1磁気記録層2の磁化の向きも上(下)向きのメモリセル1c(メモリセル1b)では、磁気参照層6の磁化は略面垂直を向く。これは、本実施形態では、磁性プローブ30からの影響を受けないときは、図15(a)、15(b)に示すような垂直磁化が互いに向き合う磁性層を作らないように設計されている。図15(a)に示すような非磁性層202を挟んで磁性層201と、磁性層203が積層された積層構造、または図15(b)に示すような磁性層201、非磁性層202、磁性層203、非磁性層204、および磁性層205が積層された積層構造の場合は、非磁性層202を挟んで磁性層201、磁性層203の磁化が対向することになる。この場合、お互いにそれぞれの磁性層からバイアス磁界を加えあうため、熱的安定性を保つためにはさらに大きな磁気異方性をそれぞれの磁性層に付与することが必要となり、プロセス設計が複雑となってコスト上昇につながる。そのため、本実施形態においは、第1および第2磁気記録層2、10との間に、バリア層4、8を介して磁気参照層6を挟み、第1および第2磁気記録層2、10の磁化が互いに向き合う時には、第1および第2磁気記録層2、10の磁化と、磁気参照層6の磁化が対向しないように、磁気参照層6が設計されている。
(1/2)dMs2 > Ku ・・・ (1)
を満たせば、磁気参照層6は磁化方向が膜面垂直からずれて効果を発揮する。
次に、再生方法について図16(a1)乃至図16(d2)を参照して説明する。図16(a1)、図16(b1)、図16(c1)、図16(d1)は、第1および第2磁気記録層2、10における磁化状態の4つの組み合わせを示す図であり、図16(a2)、図16(b2)、図16(c2)、図16(d2)は、図16(a1)、図16(b1)、図16(c1)、図16(d1)に示す場合のそれぞれの抵抗値を示す図である。
次に、本発明の第2実施形態による磁気メモリを図18(a1)乃至図18(d2)を参照して説明する。
磁気参照層および磁気記録層は、例えば、Fe(鉄)、Co(コバルト)、Ni(ニッケル)、Mn(マンガン)、Cr(クロム)のグループから選択される1つ以上の元素を含む磁性金属により構成する。
2 第1磁気記録層
4 第1バリア層
6 磁気参照層
8 第2バリア層
10 第2磁気記録層
12 磁性挿入層
14 磁性挿入層
16 磁性挿入層
18 磁性挿入層
19 キャップ層
20 軟磁性下地層
22 金属下地層
30 磁性プローブ
32 励磁コイル
Claims (8)
- 第1強磁性層と、
前記第1強磁性層上に形成される第1非磁性層と、
前記第1非磁性層上に形成される第2強磁性層と、
前記第2強磁性層上に形成される第2非磁性層と、
前記第2非磁性層上に形成される第3強磁性層と、
を有するメモリセルと、
前記メモリセルに対して前記第3強磁性層側から電気的に接続されるとともに前記メモリセルに対して相対運動が可能でかつ自身の磁化の方向を変えることの可能な磁性プローブと、
を備え、
前記第1および第3強磁性層はそれぞれ膜面に垂直な磁化容易軸を有し、
前記第2強磁性層は前記第1および第3強磁性層に比べて保磁力が小さくかつ磁化容易軸が膜面に垂直な方向に対して0度より大きく90度以下の角度をなして傾いており、
前記第2強磁性層の磁化は、前記磁性プローブから印加される磁界により膜面に垂直でかつ前記磁性プローブの磁化の方向に応じた方向に向くように制御されることを特徴とする磁気メモリ。 - 前記第1および第3強磁性層の磁化が互いに逆向きのときは、前記第2強磁性層は磁化が膜面に平行な方向を向き、
前記第1および第3強磁性層の磁化が同じ向きのときは、前記第2強磁性層は磁化が膜面に垂直な方向を向くことを特徴とする請求項1記載の磁気メモリ。 - 第1強磁性層と、前記第1強磁性層上に形成される第1非磁性層と、前記第1非磁性層上に形成される第2強磁性層と、前記第2強磁性層上に形成される第2非磁性層と、前記第2非磁性層上に形成される第3強磁性層と、を有するメモリセルを備え、前記第1および第3強磁性層はそれぞれ膜面に垂直な磁化容易軸を有し、前記第2強磁性層は前記第1および第3強磁性層に比べて保磁力が小さくかつ磁化容易軸が膜面に垂直な方向に対して0度より大きく90度以下の角度をなして傾いている磁気メモリの再生方法であって、
前記第1強磁性層から前記第2強磁性層へ電子を流入させることで前記第2強磁性層の磁化の向きを変化させるステップと、
前記第2強磁性層と前記第3強磁性層との相対的な磁化の向きによる抵抗を測定することにより、前記第1強磁性層の磁化の向きを検知するステップと、
を備えたことを特徴とする磁気メモリの再生方法。 - 前記第1および第3強磁性層の磁化が互いに逆向きのときは、前記第2強磁性層は磁化が膜面に平行な方向を向き、
前記第1および第3強磁性層の磁化が同じ向きのときは、前記第2強磁性層は磁化が膜面に垂直な方向を向くことを特徴とする請求項3記載の磁気メモリの再生方法。 - 請求項1または2記載の磁気メモリの再生方法であって、
前記磁性プローブの磁化の方向を調整することによって前記第2強磁性層の磁化を膜面に垂直な方向に向けさせるステップと、
前記磁性プローブを用いて前記第1強磁性層と前記第3強磁性層間に電流を流すことにより、前記第1強磁性層と前記第2強磁性層との間の電気抵抗と、前記第2強磁性層と前記第3強磁性層との間の電気抵抗との和を読みとるステップと、
を備えていることを特徴とする磁気メモリの再生方法。 - 膜面に垂直な前記第2強磁性層の磁化の向きを、前記磁性プローブの磁化を調整することにより、反転させるステップと、
前記第2強磁性層の磁化の反転前後における前記第1および第3強磁性層の相対的な磁化の方向を読み取るステップと、
を備えていることを特徴とする請求項5記載の磁気メモリの再生方法。 - 請求項1または2記載の磁気メモリの書き込み方法であって、
前記磁性プローブの磁化の向きを調整することにより、前記第2強磁性層の磁化を膜面に垂直方向に向かせるステップと、
前記磁性プローブからの磁界が印加された状態で前記第2強磁性層を介して前記第1強磁性層と前記第3強磁性層との間で電子を流すことにより、前記第1強磁性層および前記第3強磁性層のうち、前記第2強磁性層を通って電子が流入した方の強磁性層の磁化の向きを前記第2強磁性層の磁化と同じ向きとなるように変化させるステップと、
を備えていることを特徴とする磁気メモリの書き込み方法。 - 前記第1強磁性層もしくは前記第3強磁性層の一方の磁化の向きを前記第2強磁性層の磁化の向きとなるように変化させた後、前記磁性プローブの磁化の向きを調整して前記第2強磁性層の磁化の向きを反転するとともに前記磁性プローブからの磁界が印加された状態で電子の流す向きを逆向きにして前記第1および第3強磁性層のうちのもう一方の磁化の向きを反転させるステップを更に備えていることを特徴とする請求項7記載の磁気メモリの書き込み方法。
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