JP4871145B2 - 露光方法及び露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、被露光体を搬送しながら、被露光体の基準パターンを撮像し、複数のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、上記基準パターン上に露光パターンを露光する露光方法に関し、詳しくは、撮像位置の調整を容易にして上記基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上しようとする露光方法及び露光装置に係るものである。

従来の露光装置は、搬送手段で被露光体を所定の速度で搬送し、被露光体の搬送方向と直交する方向に並べて配置されたマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーにそれぞれ対応させて、被露光体の搬送方向と直交する方向に並べ、且つ搬送方向に先後して並べて配置した撮像手段の複数の受光素子で投影レンズを介して被露光体からの光を受光して、被露光体上の露光位置の搬送方向手前側を撮像し、その画像の画像データに基づいて制御手段でマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを駆動制御し、該マイクロミラーで光源からの露光光を反射して該露光光に強度変調を与えて射出し、投影レンズで該強度変調された露光光を被露光体上に投影し、被露光体上に形成された基準パターン上に露光パターンを露光するようになっていた（例えば、特許文献１参照）。
特開２００６−３３０６２２号公報

しかし、このような従来の露光装置においては、撮像手段により被露光体表面を直接撮像するようになっていたので、撮像位置の調整は、撮像手段の取り付け位置を動かして行なうしかなく、撮像位置の調整が困難であった。したがって、撮像手段の取り付け位置がずれた場合には、撮像位置と露光位置との間の距離が変わり、撮像時を基準にした露光パターンの露光タイミングがずれてしまい、基準パターン上に露光パターンを精度良く重ね露光することができないおそれがあった。

そこで、本発明は、このような問題点に対処し、撮像位置の調整を容易にして被露光体の基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上しようとする露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、第１の発明による露光方法は、被露光体を所定方向に搬送しながら、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数のマイクロミラーがマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの所定のマイクロミラーを、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動させて露光パターンを生成し、前記被露光体上に前記露光パターンを投影して露光する露光方法であって、前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、前記撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて前記露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、前記ビットマップデータに基づいて前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを傾動させて所定の露光パターンを生成し、前記被露光体に形成された基準パターン上に前記所定の露光パターンを露光するものである。

このような構成により、被露光体を所定方向に搬送し、被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数のマイクロミラーがマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを、被露光体方向から入射する可視光が光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、上記ビットマップデータに基づいてマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、光源から入射する光が被露光体方向に反射されるように傾動させて所定の露光パターンを生成し、被露光体に形成された基準パターン上に上記所定の露光パターンを露光する。

また、前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射するものである。これにより、被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として分割された搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して被露光体方向からの可視光を撮像手段へ反射する。

また、第２の発明による露光装置は、載置面に被露光体を載置して所定方向に搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上方に配設され、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動されて露光パターンを生成すると共に、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源から光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動される複数のマイクロミラーが前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスと、前記マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを前記被露光体上に投影する投影レンズと、前記マイクロミラーデバイスによって前記被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設され、被露光体の表面を撮像する撮像手段と、前記各構成要素を制御する制御手段と、を備えたものである。

このような構成により、制御手段で各構成要素を制御し、搬送手段で載置面に被露光体を載置して所定方向に搬送し、複数のマイクロミラーが被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを傾動させて、被露光体方向から入射する可視光を光源から入射する光の入射方向と異なる方向に反射させ、マイクロミラーデバイスによって被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設された撮像手段で被露光体の表面を撮像し、マイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを光源から入射する露光光が前記被露光体方向に反射されるように傾動させて露光パターンを生成し、マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを投影レンズで被露光体上に投影する。

さらに、前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射するものである。これにより、被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として分割された搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して被露光体方向からの可視光を撮像手段へ反射する。

さらにまた、前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べて備えたものである。被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べた撮像手段で被露光体の表面を撮像する。

そして、前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えたものである。これにより、被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えた撮像手段で被露光体の表面を撮像する。

請求項１に係る露光方法によれば、複数のマイクロミラーをマトリクス状に備えるマイクロミラーデバイスを介して撮像手段により被露光体表面を撮像するようにしているので、搬送方向と交差するマイクロミラー列のうち、被露光体方向から入射する可視光を撮像手段へ反射するように傾動される少なくとも一列分のマイクロミラー列を他のマイクロミラー列に切り換えることにより、撮像位置を容易に調整することができる。したがって、撮像時を基準にした露光タイミングを適切に合わせて被露光体の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。

また、請求項３に係る露光装置によれば、複数のマイクロミラーをマトリクス状に備えるマイクロミラーデバイスを介して撮像手段により被露光体表面を撮像するようにしているので、搬送方向と交差するマイクロミラー列のうち、被露光体方向から入射する可視光を撮像手段へ反射するように傾動される少なくとも一列分のマイクロミラー列を他のマイクロミラー列に切り換えることにより、撮像位置を容易に調整することができる。したがって、撮像時を基準にした露光タイミングを適切に合わせて被露光体の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。また、マイクロミラーデバイスを介して撮像するようにしているので、被露光体の搬送方向に先後してマイクロミラーデバイスと並べて撮像手段を配設した従来技術の露光装置に比べて投影レンズの径を小さくすることができ、投影光学系を小型化することができる。

さらに、請求項２又は請求項４に係る発明によれば、被露光体を搬送している間、常時、被露光体の表面を撮像することができる。したがって、被露光体表面の撮像画像に欠落部が発生するおそれがなく、欠陥のないパターンを露光することができる。

さらにまた、請求項５に係る発明によれば、撮像手段が複数の受光素子を一直線状に並べたものであるので、撮像手段の部品コストを安価にすることができる。

そして、請求項６に係る発明によれば、被露光体表面の二次元画像の取得と、該二次元画像に基づいて生成された露光パターンの露光とを略リアルタイムに実行することができ、基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度をより向上することができる。また、取り付け精度の問題からマイクロミラーデバイスのマイクロミラーと撮像手段の受光素子との間の対応関係がずれた場合にも、上記マイクロミラーにおける反射光を別の受光素子で受光することができ、上記マイクロミラーデバイスに対する撮像手段の取り付け精度の許容範囲を大きくすることができる。これにより、装置の組立てが容易になる。

以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。この露光装置は、被露光体を所定方向に搬送しながら、複数のマイクロミラーをマトリクス状に配置したマイクロミラーデバイスで所定の露光パターンを生成して露光するもので、搬送手段１と、光源２と、マイクロミラーデバイス３と、投影レンズ４と、撮像手段５と、照明手段６と、制御手段７とからなる。なお、以下の説明においては、被露光体８が感光材を塗布した透明なガラス基板からなる場合について述べる。

上記搬送手段１は、載置面であるステージ９上面に被露光体８を載置して矢印Ａ方向に搬送するものであり、図示省略の搬送用モータが後述の制御手段７により制御されてステージ９を移動するようになっている。また、上記搬送手段１には、図示省略の例えばエンコーダやリニアセンサー等の位置検出センサーや速度センサーが設けられており、その出力を制御手段７にフィードバックして位置検出及び速度制御を可能にしている。なお、上記ステージ９には、被露光体８の全露光領域に対応して開口部が設けられており、ステージ９の下方に配設された後述の照明手段６により被露光体８を下方から照明できるようになっている。

上記搬送手段１の上方には、光源２が設けられている。この光源２は、紫外線（ＵＶ光）Ｌ_１を放射するものであり、例えばキセノンランプや紫外線レーザ光源等である。そして、放射されるＵＶ光Ｌ_１を反射ミラー１３ａ，１３ｂにより反射して後述のマイクロミラーデバイス３を斜め下方から照射するようになっている。

上記搬送手段１の上方にて上記光源２から放射されるＵＶ光Ｌ_１の放射方向前方には、マイクロミラーデバイス３が配設されている。このマイクロミラーデバイス３は、光源２から入射するＵＶ光Ｌ_１を被露光体８方向に反射するように傾動されて二次元の露光パターンを生成すると共に、被露光体８方向から入射する可視光Ｌ_２を上記光源２からのＵＶ光Ｌ_１の入射方向と異なる方向に反射するように傾動される複数のマイクロミラー１０が被露光体８の搬送方向及び該搬送方向と直交する方向に沿ってマトリクス状に配置されたものであり、図２に示すように、被露光体８の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａと搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂとに分割され、搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａのうちの所定のマイクロミラー１０を傾動して露光パターンを生成し、光源２から入射するＵＶ光Ｌ_１を露光パターン情報を含む露光光Ｌ_３として被露光体８に向けて反射し、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちの少なくとも一列のマイクロミラー１０を傾動して被露光体８方向からの可視光Ｌ_２を撮像手段５へ反射するようになっている。なお、マイクロミラー１０が光源２から入射するＵＶ光Ｌ_１を被露光体８の方向に反射するように傾動している状態を以下「オン状態」といい、被露光体８からの可視光Ｌ_２を撮像手段８の方向に反射するように傾動している状態を以下「オフ状態」という。

そして、上記マイクロミラーデバイス３には、例えば、表示用デバイスとして汎用のデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ：米国テキサス・インスツルメンツ社の商標）を使用することができる。以下、マイクロミラーデバイス３がＤＭＤの場合について説明する。

上記搬送手段１とＤＭＤ３との間には、投影レンズ４が配設されている。この投影レンズ４は、ＤＭＤ３で生成された露光パターンを被露光体８上に投影するものであり、複数のレンズを組み合わせてテレセントリック光学系を構成している。

上記ＤＭＤ３にて、図２に示す搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂで被露光体８方向から入射する可視光Ｌ_２が反射される方向には、撮像手段５が配設されている。この撮像手段５は、被露光体８の表面に形成された基準パターンを撮像するものであり、被露光体８の図１に矢印Ａで示す搬送方向と直交する方向に対応させて複数の受光素子を一直線状に並べて備えた、例えばラインカメラである。そして、同図に示すように、上記投影レンズ４と結像レンズ１２とにより被露光体８上の基準パターンが撮像手段５の受光面上に結像されるようになっている。なお、図１において、符号１３ｃは、反射ミラーを示す。

このように、本発明によれば、ＤＭＤ３のマイクロミラー１０を介して被露光体８表面を撮像するようにしているため、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちオフ状態にするマイクロミラー列を切り換えることにより、撮像位置を変更することができる。即ち、図３に示すように、例えば、ＤＭＤ３のマイクロミラー１０ａの列をオフ状態にして、該マイクロミラー１０ａの列を介して被露光体８上の位置Ｐが撮像されるようにされているとき（同図中、破線で示す）、マイクロミラー１０ａの列をオン状態にし、マイクロミラー１０ｂの列をオフ状態とするように切り換えると、該マイクロミラー１０ｂの列を介して被露光体８表面が撮像され、撮像位置が位置Ｐから位置Ｐ′に移る。これにより、例えば、装置の組立て精度等の影響により撮像位置がずれた場合にも、オフ状態にするマイクロミラー列を切り換えることにより、撮像位置を調整して露光タイミングを適切に合わせ、基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。

上記搬送手段１のステージ９の下方には、上記投影レンズ４と対向して照明手段６が配設されている。この照明手段６は、可視光Ｌ_２からなる照明光を放射し、ステージ９上に載置された被露光体８を透過して該被露光体８の表面に形成された基準パターンを照明するものであり、例えばハロゲンランプ等である。そして、照明手段６の照明光の放射方向前方には、図示省略の紫外線カットフィルタが設けられており、照明手段６から放射される可視光Ｌ_２に含まれる紫外線により被露光体８の感光材が露光されるのを防止している。

上記搬送手段１、光源２、ＤＭＤ３、及び撮像手段５に結線して制御手段７が設けられている。この制御手段７は、ＤＭＤ３の複数のマイクロミラー１０の傾動を制御して、上記露光パターンを生成させると共に撮像手段５による被露光体８表面の撮像を可能とさせるものであり、上記撮像手段５で撮像された被露光体８の基準パターンの画像データと記憶部としてのメモリに予め保存された設計（ＣＡＤ）データとに基づいて露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、該ビットマップデータに基づいてＤＭＤ３の複数のマイクロミラー１０をオン状態に傾動して所定の露光パターンを生成させるようになっている。そして、図４に示すように、メモリ１４と、演算部１５と、画像処理部１６と、ＤＭＤ駆動コントローラ１７と、光源駆動コントローラ１８と、照明手段駆動コントローラ１９と、搬送手段駆動コントローラ２０と、制御部２１とを備えている。

上記メモリ１４は、露光パターンの設計データや演算結果等を記憶するものである。また、上記演算部１５は、所定の領域の撮像時間や撮像を終了してから露光を実行するまでの経過時間等を演算するものである。さらに、上記画像処理部１６は、撮像手段５で撮像された被露光体８表面の一次元の画像に基づいて二次元の画像データを生成して出力するものであり、撮像手段５から出力されるアナログ信号を所定の時間間隔でＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換器と、該Ａ／Ｄ変換器から所定の時間間隔で出力される一次元の画像データを一時的に記憶するバッファーとを備えている。そして、上記ＤＭＤ駆動コントローラ１７は、上記画像処理部１６で生成された被露光体８表面の二次元の画像データと上記メモリ１４に保存された設計データとに基づいてビットマップデータを生成し、該ビットマップデータに基づいてＤＭＤ３の搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａのうちの所定のマイクロミラー１０をオン状態に傾動させると共に、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちの少なくとも一列分のマイクロミラー１０をオフ状態に傾動させるものである。また、上記光源駆動コントローラ１８は、光源２をオン・オフ駆動するものである。さらに、照明手段駆動コントローラ１９は、照明手段６をオン・オフ駆動するものである。さらにまた、上記搬送手段駆動コントローラ２０は、ステージ９を矢印Ａ方向に所定速度で移動させるものである。そして、上記制御部２１は、装置全体を統合して制御するものである。

次に、このように構成された露光装置を使用して行う露光方法について、図５を参照して説明する。
先ず、図示省略の操作手段によって、被露光体８の移動速度Ｖ、被露光体８の全移動距離、露光時間、光源２の出力パワー等が初期設定され、制御手段７のメモリ１４に記憶される。なお、被露光体８の移動速度Ｖは、光源２の出力パワー、露光時間及び露光パターンの搬送方向両端縁部の分解能の許容値に基づいて適切に設定される。

次に、ＤＭＤ３の搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうち所定のマイクロミラー列をオフ状態に設定し、搬送手段１のステージ９上に所定の感光材が塗布された被露光体８を載置して搬送し、試し露光が実行される。そして、基準パターンと露光パターンとのずれ量から撮像位置のずれ量を測定して、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちオフ状態とするマイクロミラー列を切り換えて撮像位置のずれが補正される。以降、下記のステップに従って、本露光が実行される。

先ず、ステップＳ１において、所定の感光材を塗布した被露光体８が搬送手段１のステージ９上に載置される。続いて、露光装置の図示省略の起動スイッチが投入されて被露光体８が図１に示す矢印Ａ方向に所定の速度で連続的に搬送される。

ステップＳ２においては、撮像手段５により被露光体８表面の撮像がＤＭＤ３の搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちオフ状態にされたマイクロミラー列を介して、図６（ａ）に示す位置Ｐａから開始される。この場合、撮像手段５がラインカメラであるので、被露光体８上の位置Ｐａにおける矢印Ａと直交する一次元画像が撮像される。このとき、被露光体８が矢印Ａ方向に連続的に搬送されるので、矢印Ａと反対方向に続く被露光体８表面が連続的に撮像されることになる。このようにして撮像手段５により連続的に撮像された一次元画像は、画像処理部１６のＡ／Ｄ変換器によって所定の時間間隔でＡ／Ｄ変換され、それぞれ所定の時間だけずれた一次元の画像データが得られる。これら一次元の画像データは、それぞれバッファーに一時的に記憶される。なお、このとき、ＤＭＤ３の搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａの全てのマイクロミラー１０は、オフ状態とされているので、ＤＭＤ３に光源２から入射するＵＶ光Ｌ_１は、図２に破線で示すように被露光体８の方向とは異なる方向に反射されて、図示省略の光吸収体に吸収される。したがって、この場合、露光光Ｌ_３は、被露光体８には照射されない。

ステップＳ３においては、所定領域の撮像が終了したか否かが制御部２１で判定される。この場合、図６（ａ）に示す被露光体８上の位置Ｐａが同図（ｂ）に示すように矢印Ａ方向に距離Ｄ_１だけ移動して位置Ｐｂに達し、露光パターンの投影領域Ｓ_０に相当する領域Ｓ_１の撮像が終了すれば、ステップＳ３は“ＹＥＳ”判定となってステップＳ４に進む。ここで、上記判定は、被露光体８の移動速度Ｖに基づいて被露光体８が距離Ｄ_１だけ移動する時間ｔ_１（図７（ａ）参照）を演算部１５で演算し、制御部２１で該時間ｔ_１の経過を監視して行なわれる。また、ステップＳ３において、“ＹＥＳ”判定となると同時に、図７（ａ）に示すように、上記領域Ｓ_１に続く領域Ｓ_２の撮像が開始される。なお、被露光体８の上記移動距離Ｄ_１は、露光パターンの投影領域Ｓ_０の搬送方向の幅Ｄ_１に一致するもので、後述の領域Ｓ_１，Ｓ_２…の撮像が終了してから露光を実行するまでに被露光体８が移動する距離Ｄ_２（図６（ｃ）参照）と共に露光装置の仕様として予め定められており、メモリ１４に記憶されている。

ステップＳ４においては、画像処理部１６により生成された被露光体８の領域Ｓ_１の二次元画像データとメモリ１４に保存された設計データとに基づいて、領域Ｓ_１の基準パターンに対応する露光パターンのビットマップデータがＤＭＤ駆動コントローラ１７で作成される。

ステップＳ５においては、被露光体８が所定距離だけ移動したか否かが制御部２１で判定される。ここでは、先ず、図６（ｂ）に示すように、領域Ｓ_１の撮像が終了してから領域Ｓ_１の搬送方向先頭端部が位置Ｐｂから同図（ｃ）に示すようにＰｃに達するまで、即ち領域Ｓ_１が露光パターンの投影領域Ｓ_０に一致するまでに被露光体８が移動する距離Ｄ_２が監視される。具体的には、上記判定は、被露光体８の移動速度Ｖと上記被露光体８の移動距離Ｄ_２とに基づいて、被露光体８が距離Ｄ_２だけ移動する時間ｔ_２を演算部１５で演算し、制御部２１で該時間ｔ_２を監視して行なう。そして、同図（ｃ）に示すように領域Ｓ_１が露光パターンの投影領域Ｓ_０に一致して、ステップＳ５において“ＹＥＳ”判定となるとステップＳ６に進む。なお、同図（ｃ）において、領域Ｓ_２の一部に斜線を付して示しているが、この斜線部は撮像が行なわれた部分であることを表している。

ステップＳ６においては、ステップＳ４で生成されたビットマップデータに基づいてＤＭＤ３の搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａのうち、所定のマイクロミラー１０がオン状態に傾動されて所定の露光パターンが生成され、図６（ｃ）に示すように、露光パターン情報を含む露光光Ｌ_３が領域Ｓ_１に所定時間だけ照射される（図７（ｂ）参照）。これにより、領域Ｓ_１に対応した被露光体８の基準パターン上に所定の露光パターンが露光されることになる。

ステップＳ７においては、被露光体８への全ての露光が終了したか否かが制御部２１で判定される。この判定は、被露光体８が予め入力して設定された全移動距離だけ移動したか否かを搬送手段１に備える位置検出センサーによって検出して行なわれる。ここで、“ＮＯ”判定となるとステップＳ３に戻って、図７（ａ）に示す次の領域Ｓ_２の撮像が終了したか否かが判定される。以後、ステップＳ７において、被露光体８への全ての露光が終了して“ＹＥＳ”判定となるまで、ステップＳ３〜Ｓ７が実行される。

なお、上記実施形態においては、露光が間欠的に実行される場合について説明したが、本発明はこれに限られず、露光を連続的に実行してもよい。このためには、例えば図８に示すように、所定の領域Ｓ_１の撮像が終了してから所定時間ｔ_２が経過した後に露光を開始し、以後被露光体８の移動に伴って随時変化する被露光体８表面の二次元画像データに基づいて露光パターンを変更しながら連続して露光を実行すればよい。この場合、露光パターンが重ね露光されるため露光光量を下げることができる。または、露光光量を維持すれば被露光体８の移動速度を上げることができ、露光工程の時間を短縮することができる。

また、上記実施形態においては、ＤＭＤ３が被露光体８の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａと搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂとに分割され、搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａのうちの所定のマイクロミラー１０をオン状態に傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうち少なくとも一列分のマイクロミラー１０をオフ状態に傾動して被露光体８方向からの可視光Ｌ_２を撮像手段５へ反射する場合について説明したが、本発明はこれに限られず、ＤＭＤ３を二つのマイクロミラー群１１ａ，１１ｂに分割することなく使用して、撮像時には全マイクロミラー１０をオフ状態に傾動させて基準パターンの撮像を可能とさせ、露光時には全マイクロミラー１０のうち所定のマイクロミラー１０をオン状態に傾動させて露光パターンを生成させるようにしてもよい。この場合、撮像と露光とは交互に行なわれることになる。

さらに、上記実施形態においては、撮像手段５が被露光体８の搬送方向と交差する方向に一直線状に並べて複数の受光素子を備えたラインカメラである場合について説明したが、本発明はこれに限られず、撮像手段５は被露光体８の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えたものであってもよい。

さらにまた、上記実施形態においては、照明手段６をステージ９の下方に配設した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、照明手段６をステージ９の上方に配設して落射照明としてもよい。

そして、以上の説明においては、制御手段７が被露光体８を連続的に搬送するように搬送手段１の駆動を制御する場合について述べたが、本発明はこれに限られず、制御手段７は、被露光体８を間欠的に搬送するように搬送手段１の駆動を制御してもよい。この場合、撮像手段５がラインカメラのときには、被露光体８を一定速度で搬送しながら所定領域を撮像し、その後、被露光体８の搬送を一時的に停止して前記撮像された領域に対して露光を実行するようにするとよい。また、撮像手段５が二次元カメラの場合には、被露光体８を一時的に停止させた状態でＤＭＤ３の全マイクロミラーをオフ状態に傾動させて所定領域を撮像し、その後、ＤＭＤ３により所定の露光パターンを生成して前記撮像領域に対して露光を実行し、それから被露光体８を所定の距離だけステップ移動して上記と同様にして撮像及び露光を実行するようにするとよい。

本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。 上記露光装置に使用されるＤＭＤの複数のマイクロミラーの傾動を示す説明図である。 上記露光装置における撮像位置の調整について示した説明図である。 上記露光装置の制御手段の一構成例を示すブロック図である。 上記露光装置を使用して行なう露光方法を説明するフローチャートである。 上記露光装置の撮像開始から露光実施までの動作を示す説明図である。 上記露光装置による間欠露光動作を説明する撮像及び露光のタイミングチャートである。 上記露光装置による連続露光動作を説明する撮像及び露光のタイミングチャートである。

符号の説明

１…搬送手段
２…光源
３…ＤＭＤ（マイクロミラーデバイス）
４…投影レンズ
５…撮像手段
７…制御手段
８…被露光体
１０…マイクロミラー
１１ａ，１１ｂ…マイクロミラー群
Ｌ_１…光源からの光
Ｌ_２…可視光
Ｌ_３…露光光

Claims (6)

1. 被露光体を所定方向に搬送しながら、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数のマイクロミラーがマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの所定のマイクロミラーを、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動させて露光パターンを生成し、前記被露光体上に前記露光パターンを投影して露光する露光方法であって、
   前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、
   前記撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて前記露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、
   前記ビットマップデータに基づいて前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを傾動させて所定の露光パターンを生成し、
   前記被露光体に形成された基準パターン上に前記所定の露光パターンを露光する、
   ことを特徴とする露光方法。
2. 前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射することを特徴とする請求項１記載の露光方法。
3. 載置面に被露光体を載置して所定方向に搬送する搬送手段と、
   前記搬送手段の上方に配設され、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動されて露光パターンを生成すると共に、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源から光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動される複数のマイクロミラーが前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスと、
   前記マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを前記被露光体上に投影する投影レンズと、
   前記マイクロミラーデバイスによって前記被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設され、被露光体の表面を撮像する撮像手段と、
   前記各構成要素を制御する制御手段と、
   を備えたことを特徴とする露光装置。
4. 前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
5. 前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べて備えたことを特徴とする請求項３又は４記載の露光装置。
6. 前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えたことを特徴とする請求項３又は４記載の露光装置。

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