JP4862295B2 - 有機el素子の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Description
図9に示すように、蒸着室30の底部内に蒸着材料を充填した第1るつぼ31と第2るつぼ32を近接させて設置し、各るつぼ31,32の上面の開口を開閉するシャッター33,34を設け、蒸着室30の上部に光干渉式膜厚測定計35を設けた。また蒸着室30の上部内にシャッター36を設け、このシャッター36の上側に基板1を配置した。さらに、第1るつぼ31からの蒸発レートを成膜レートが10nm/sとなるように設定して、この第1るつぼ31を蒸発レートの高い蒸発源3とし、第2るつぼ32からの蒸発レートを成膜レートが0.5nm/sとなるように設定して、この第2るつぼ32を蒸発レートの低い蒸発源4とした。
図10に示すように、蒸発源3にメインパイプ14とサブパイプ15を接続し、各パイプ14,15の先端のメイン吹き出し口18とサブ吹き出し口19を蒸着室30の底部内に接続した。またメインパイプ14とサブパイプ15に設けたメインバルブ16とサブバルブ17の開口量の調整によって、メイン吹き出し口18からの蒸発レートを成膜レートが8nm/sとなるように設定して、このメイン吹き出し口18を蒸発レートの高い蒸発源3とし、サブ吹き出し口19からの蒸発レートを成膜レートが1nm/sとなるように設定して、このサブ吹き出し口19を蒸発レートの低い蒸発源4とした。
図11に示すように、図9の装置において、膜厚評価用の膜を形成するための膜厚評価基板38を基板1の近傍に配置して設けた。その他は図9の装置と同じである。尚、膜厚評価基板38に成膜される膜厚と、基板1に成膜される膜厚の比は、1:1.3であることを予め試験して確認した。
実施例1と同じ装置を用い、第1るつぼ31からの蒸発レートを成膜レートが10nm/sとなるように設定して、この第1るつぼ31のみで、膜厚150nmをねらって基板1に蒸着させた。このようにして成膜した基板1を蒸着室30から取り出し、基板1に成膜された有機EL膜2の膜厚を触針式膜厚計で測定して評価した。
実施例2と同じ装置を用い、メイン吹き出し口18からの蒸発レートを成膜レートが8nm/sとなるように設定し、このメイン吹き出し口18のみ用いて基板1をこのメイン吹き出し口18上に搬送し、膜厚150nmをねらって基板1に蒸着させた。このようにして成膜した基板1を蒸着室30から取り出し、基板1に成膜された有機EL膜2の膜厚を触針式膜厚計で測定して評価した。
実施例2と同じ装置を用い、サブ吹き出し口19からの蒸発レートを成膜レートが1nm/sとなるように設定し、このサブ吹き出し口19のみ用いて基板1をこのサブ吹き出し口19上に搬送し、膜厚150nmをねらって基板1に蒸着させた。このようにして成膜した基板1を蒸着室30から取り出し、基板1に成膜された有機EL膜2の膜厚を触針式膜厚計で測定して評価した。
2 有機EL膜
3 蒸発源
4 蒸発源
Claims (2)
- 有機EL膜用の材料を蒸着して成膜することによって有機EL発光素子を製造するにあたって、同じ蒸着材料からなる蒸発源として、蒸発レートの高い蒸発源と、蒸発レートの低い蒸発源とを用い、蒸発レートの低い蒸発源は、蒸発レートの高い蒸発源からの蒸発流れで形成されるものであり、蒸発レートの高い蒸発源から高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着すると共に前記高蒸発レートでの蒸着と同時に膜厚評価用の膜を前記蒸着材料で蒸着し、この膜厚評価用の膜の蒸着膜厚を測定した後、前記膜厚評価用の膜の膜厚測定結果に基づいて、蒸発レートの低い蒸発源から低蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚まで蒸着することによって、成膜することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
- 有機EL膜の材料を蒸着して成膜することによって有機EL発光素子を製造する装置であって、高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着すると共に前記高蒸発レートでの蒸着と同時に膜厚評価用の膜を前記蒸着材料で蒸着するための、蒸発レートの高い蒸発源と、前記膜厚評価用の膜の膜厚を測定する膜厚測定手段と、膜厚測定手段で測定された前記膜厚評価用の膜の膜厚に基づいて、低蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚まで蒸着するための、蒸発レートの低い蒸発源と、を備え、蒸発レートの低い蒸発源は、蒸発レートの高い蒸発源からの蒸発流れで形成されるものであることを特徴とする有機EL素子の製造装置。
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