JP4858954B2 - メソポーラス炭化珪素膜及びその製造方法 - Google Patents
メソポーラス炭化珪素膜及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4858954B2 JP4858954B2 JP2006089766A JP2006089766A JP4858954B2 JP 4858954 B2 JP4858954 B2 JP 4858954B2 JP 2006089766 A JP2006089766 A JP 2006089766A JP 2006089766 A JP2006089766 A JP 2006089766A JP 4858954 B2 JP4858954 B2 JP 4858954B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon carbide
- mesoporous silicon
- film
- ceramic
- filler
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
(1)耐熱性及び耐腐食性が改善されたメソポーラス炭化珪素系セラミックスであって、1)Si−C結合、あるいは一部にSi−O結合を基本とする非晶質ネットワークを有している、2)10−500nmの粒径を有する無機充填剤が分散している、3)細孔径50nm以下の微細な細孔分布を有する、4)前記充填剤として、シリカ、アルミナ、ジルコニア、炭化珪素、窒化珪素のうちの少なくとも一種類を含有している、5)前記メソポーラス炭化珪素系セラミックスが、多孔質セラミックス支持体上に接着されている被膜あるいは自立膜である、ことを特徴とするメソポーラス炭化珪素系セラミックス。
(2)前記充填剤が、体積比5−75vol%の割合で分散している、前記(1)に記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックス。
(3)前記多孔質セラミックス支持体が、多孔質シリカ、アルミナ、炭化珪素、窒化珪素、又はコージェライトである、前記(1)記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックス。
(4)前記(1)から(3)のいずれかに記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックスを使用していることを特徴とする分離部材。
(5)前記メソポーラス炭化珪素系セラミックスの被膜又は自立膜からなる、前記(4)記載の分離部材。
(6)耐熱性、耐腐食性を改善したメソポーラス炭化珪素系セラミックスを製造する方法であって、1)有機珪素ポリマー及び無機充填剤を含有する組成物を、不融化後あるいは不融化せずに、不活性雰囲気下300℃以上1200℃以下で焼成させる、2)前記充填剤として、シリカ、アルミナ、ジルコニア、炭化珪素、窒化珪素のうちの少なくとも一種類を含有している、3)その際に、粘度及び膜厚調整成分を溶解させた組成物を多孔質支持体に塗膜後、不融化後あるいは不融化せずに、焼成させる、4)細孔径50nm以下の微細な細孔分布を有するメソポーラス炭化珪素系セラミックスを作製する、5)前記メソポーラス炭化珪素系セラミックスが、多孔質セラミックス支持体上に接着されている被膜あるいは自立膜である、ことを特徴とするメソポーラス炭化珪素系セラミックスの製造方法。
(7)有機珪素ポリマーが、ポリカルボシラン、又はポリメチルシランである、前記(6)記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックスの製造方法。
(8)ビニールブチラールあるいはポリスチレンを溶解させた組成物を多孔質支持体に塗膜する、前記(6)記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックスの製造方法。
(9)膜から多孔質材料へと細孔を傾斜させる、前記(6)記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックスの製造方法。
本発明は、耐熱性及び耐腐食性が改善されたメソポーラス炭化珪素系セラミックスであって、Si−C結合、あるいは一部にSi−O結合を基本とする非晶質ネットワークを有していること、10−500nmの粒径を有する無機充填剤が分散していること、細孔径50nm以下の微細な細孔分布を有すること、を特徴とするものである。また、本発明は、上記のメソポーラス炭化珪素系セラミックスを使用していることを特徴とする分離部材、である。更に、本発明は、耐熱性、耐腐食性を改善したメソポーラス炭化珪素系セラミックスを製造する方法であって、有機珪素ポリマー及び無機充填剤を含有する組成物を、不融化後あるいは不融化せずに、不活性雰囲気下300℃以上1200℃以下で焼成させること、細孔径50nm以下の微細な細孔分布を有するメソポーラス炭化珪素系セラミックスを作製すること、を特徴とするものである。
(1)ナノサイズの粒子充填剤を有機珪素ポリマーへ導入することにより、前駆体の熱分解による寸法変化や細孔の消失を抑制することができる。
(2)600℃以上の熱処理を施しても、微細な細孔や最大270m2/gの高い比表面積を保持することが可能となる。
(3)スラリー溶液を塗膜の出発原料として用いることで、部品の溶液中への浸漬と熱処理によるコーティングが可能になることから、複雑形状を有する部材への塗膜も対応可能である。
(4)高耐熱性、高耐腐食性で、細孔径50nm以下の細孔分布を有し、高い分離性能を有するメソポーラス炭化珪素系セラミックスを提供できる。
Claims (9)
- 耐熱性及び耐腐食性が改善されたメソポーラス炭化珪素系セラミックスであって、(1)Si−C結合、あるいは一部にSi−O結合を基本とする非晶質ネットワークを有している、(2)10−500nmの粒径を有する無機充填剤が分散している、(3)細孔径50nm以下の微細な細孔分布を有する、(4)前記充填剤として、シリカ、アルミナ、ジルコニア、炭化珪素、窒化珪素のうちの少なくとも一種類を含有している、(5)前記メソポーラス炭化珪素系セラミックスが、多孔質セラミックス支持体上に接着されている被膜あるいは自立膜である、ことを特徴とするメソポーラス炭化珪素系セラミックス。
- 前記充填剤が、体積比5−75vol%の割合で分散している、請求項1に記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックス。
- 前記多孔質セラミックス支持体が、多孔質シリカ、アルミナ、炭化珪素、窒化珪素、又はコージェライトである、請求項1記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックス。
- 請求項1から3のいずれかに記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックスを使用していることを特徴とする分離部材。
- 前記メソポーラス炭化珪素系セラミックスの被膜又は自立膜からなる、請求項4記載の分離部材。
- 耐熱性、耐腐食性を改善したメソポーラス炭化珪素系セラミックスを製造する方法であって、(1)有機珪素ポリマー及び無機充填剤を含有する組成物を、不融化後あるいは不融化せずに、不活性雰囲気下300℃以上1200℃以下で焼成させる、(2)前記充填剤として、シリカ、アルミナ、ジルコニア、炭化珪素、窒化珪素のうちの少なくとも一種類を含有している、(3)その際に、粘度及び膜厚調整成分を溶解させた組成物を多孔質支持体に塗膜後、不融化後あるいは不融化せずに、焼成させる、(4)細孔径50nm以下の微細な細孔分布を有するメソポーラス炭化珪素系セラミックスを作製する、(5)前記メソポーラス炭化珪素系セラミックスが、多孔質セラミックス支持体上に接着されている被膜あるいは自立膜である、ことを特徴とするメソポーラス炭化珪素系セラミックスの製造方法。
- 有機珪素ポリマーが、ポリカルボシラン、又はポリメチルシランである、請求項6記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックスの製造方法。
- ビニールブチラールあるいはポリスチレンを溶解させた組成物を多孔質支持体に塗膜する、請求項6記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックスの製造方法。
- 膜から多孔質材料へと細孔を傾斜させる、請求項6記載のメソポーラス炭化珪素系セラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006089766A JP4858954B2 (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | メソポーラス炭化珪素膜及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006089766A JP4858954B2 (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | メソポーラス炭化珪素膜及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007261882A JP2007261882A (ja) | 2007-10-11 |
JP4858954B2 true JP4858954B2 (ja) | 2012-01-18 |
Family
ID=38635240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006089766A Expired - Fee Related JP4858954B2 (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | メソポーラス炭化珪素膜及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4858954B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7910082B2 (en) * | 2008-08-13 | 2011-03-22 | Corning Incorporated | Synthesis of ordered mesoporous carbon-silicon nanocomposites |
DE102009054574B3 (de) * | 2009-12-11 | 2011-03-03 | Sgl Carbon Se | Wärmetauscherrohr oder Wärmetauscherplatte mit offenporigem Siliciumcarbidnetzwerk und Verfahren zu deren Herstellung |
KR101331403B1 (ko) | 2010-04-05 | 2013-11-21 | 한국세라믹기술원 | 그라파이트 상에 실리콘카바이드를 코팅하는 방법 |
JP2017128475A (ja) * | 2016-01-20 | 2017-07-27 | 積水化学工業株式会社 | 複合フィラー及び熱硬化性材料 |
JP7011119B2 (ja) * | 2017-02-21 | 2022-02-10 | 株式会社 京都モノテック | モノリスフィルタとそれを利用した固体分離装置、および、そのモノリスフィルタ製造方法 |
DE102017112756A1 (de) * | 2017-06-09 | 2018-12-13 | Psc Technologies Gmbh | Verfahren zur Erzeugung von Schichten aus Siliciumcarbid |
CN112299871A (zh) * | 2020-11-16 | 2021-02-02 | 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司 | 一种含碳化硅膜的多孔陶瓷的制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01131061A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-23 | Teijin Ltd | シリコンカーバイドシートの製造法 |
DE4036988A1 (de) * | 1990-11-20 | 1992-05-21 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von metallopolysilanen und deren verwendung |
US5563212A (en) * | 1994-05-24 | 1996-10-08 | Exxon Research And Engineering Company | Synthesis of microporous ceramics |
JP2005095851A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-04-14 | Kyocera Corp | 流体分離フィルタ及びその製造方法 |
-
2006
- 2006-03-29 JP JP2006089766A patent/JP4858954B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007261882A (ja) | 2007-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4858954B2 (ja) | メソポーラス炭化珪素膜及びその製造方法 | |
JP6723265B2 (ja) | 水及びガス分離のための炭素含有膜 | |
JP5302957B2 (ja) | 特定の気孔形成剤を用いて多孔質支持体に無機多孔質被膜を形成する方法 | |
US5770275A (en) | Molecular sieving silica membrane fabrication process | |
US5935646A (en) | Molecular sieving silica membrane fabrication process | |
JP2010528835A5 (ja) | ||
JP5523560B2 (ja) | 炭素膜複合体およびその製造方法ならびに分離膜モジュール | |
JP2003238270A (ja) | 多孔質セラミック材の製造方法 | |
JP6667614B2 (ja) | 多孔質支持体、多孔質支持体の製造方法、分離膜構造体及び分離膜構造体の製造方法 | |
US9878272B2 (en) | Porous inorganic membranes and method of manufacture | |
JP2002066280A (ja) | ガス分離フィルタおよびその製造方法 | |
Inde et al. | Tailoring a thermally stable amorphous SiOC structure for the separation of large molecules: the effect of calcination temperature on SiOC structures and gas permeation properties | |
JP5082067B2 (ja) | 高強度マクロポーラス多孔質セラミックスの製造方法及びその多孔体 | |
JP4997437B2 (ja) | 炭化珪素系多孔質成形体及びその製造方法 | |
JP2004123415A (ja) | 多孔質セラミック材及びその製造方法 | |
EP1682252A1 (en) | Titania composite membrane for water/alcohol separation, and preparation thereof | |
CN1262339C (zh) | 一种新颖纳米SiO2分离膜及其制备方法 | |
JP4693267B2 (ja) | ガス分離フィルタ用無機多孔質体およびガス分離フィルタ並びにその製造方法 | |
JP4605920B2 (ja) | ガス分離フィルタ | |
WO2016104048A1 (ja) | ガス分離方法 | |
CN107082641A (zh) | 一种陶瓷膜材料组件 | |
CN107051225B (zh) | 一种膜表面复合材料 | |
KR101123271B1 (ko) | 대면적 고온 기체분리막의 제조 방법 | |
WO2016104049A1 (ja) | ガス分離方法 | |
JP2005060126A (ja) | 多孔質セラミック材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080327 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110524 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110725 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110725 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111003 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111026 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |