JP4852477B2 - 薄膜形成装置および薄膜形成方法 - Google Patents

Description

この発明は、基板に薄膜を形成する薄膜形成装置および薄膜形成方法に関するものである。なお、薄膜が形成される基板としては、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示用ガラス基板、プラズマ表示用ガラス基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板などの各種基板（以下、単に「基板」という）が含まれる。

近年、ＬＳＩの製造に用いるウエハの大口径化や液晶パネルなどの大面積化に伴い、大面積に適合した薄膜形成方法が必要となってきている。また、ＬＳＩ製造技術における多層配線技術の分野においては、多層配線を実現するために絶縁膜の表面を高い精度で平坦化する必要があり、大面積化に加えて、薄膜形成における表面の平坦化技術への要求も高まってきている。そこで、これらの要求を満足すべく、加圧転写によって基板に薄膜を形成する薄膜形成方法が提案されている。

このような薄膜形成方法を実行する装置として、例えば次のように構成された装置が従来より知られている（特許文献１〜３参照）。これらの装置では、処理容器の内部に形成された薄膜形成室に、基板用プレート（第１プレート）が設けられており、薄膜形成対象となる半導体ウエハなどの基板を装着可能となっている。また、薄膜形成室内には、フィルム用プレート（第２プレート）が基板用プレートと対向しながら配置されており、シートフィルムを装着可能となっている。シートフィルムの表面には予め薄膜が形成されており、この薄膜を基板用プレート上の基板に対向させながらシートフィルムがフィルム保持機構により保持されている。そして、基板が装着された基板用プレートと、シートフィルムが装着されたフィルム用プレートとを所定の移動方向に沿って近接するように移動させることによって、基板とシートフィルムとを互いに押し付けてシートフィルム上の薄膜を基板に転写している。

ところで、平坦で均一な膜厚の薄膜を基板に形成するために、シートフィルムに生じている弛みを取り除くことが重要となっている。というのも、シートフィルムに弛みが生じている状態でシートフィルム上の薄膜が転写されると薄膜の表面に皺が生じ、平坦で均一な膜厚の薄膜を基板に形成することができなくなるからである。そこで、上記した従来装置では、以下のようにしてシートフィルムに張力を発生させることによって、この問題の解消を図っている。

特許文献１に記載の装置では、シートフィルムの周縁部を保持し緊張させる複数個のフィルム保持緊張機構を備えている。そして、各フィルム保持緊張機構によりシートフィルムを径方向外方に引っ張ることによってシートフィルムに一定の張力を付与し、シートフィルムに生じている弛みを取り除いている。

また、特許文献２に記載の装置では、シートフィルムの周縁部を押圧する押えリングと、この押えリングをシートフィルムに押し付ける複数個のアクチュエータとを備えている。そして、アクチュエータの作動により押えリングを駆動することで、シートフィルムの周縁部を押圧し、シートフィルムを緊張させることによって、シートフィルムの弛みを取り除いている。

また、特許文献３に記載の装置では、下プレート（第２プレート）の上方に基材保持機構（フィルム保持機構）が配置され、基材保持機構によりシートフィルムが保持されている。そして、基材保持機構によりシートフィルムを保持した状態で、下プレートを上昇させることでシートフィルムの一部（中央部分）を押し上げてシートフィルムを伸張させている。これにより、シートフィルムに張力が付与される。その後、下プレートと基材保持機構とが所定の位置関係に達した時点で、これらの間の位置関係を保ったまま、下プレートと基材保持機構とが上プレート（第１プレート）に向けて移動される。

特開２００１−１３５６２９号公報 特開２００１−１３５６２３号公報 特開２００４−１８６２９２号公報

しかしながら、特許文献１に記載の装置では、複数個のフィルム保持緊張機構によってシートフィルムを引っ張ることでシートフィルムに張力を発生させているため、各フィルム保持緊張機構によりシートフィルムが引っ張られる部分とそうでない部分とが存在する。そのため、シートフィルムに均一な張力を発生させることができず、シートフィルムの周縁領域のうち各フィルム保持緊張機構の間に挟まれた領域でしわが発生するおそれがあった。また、シートフィルムに張力を発生させるために、上記したフィルム保持緊張機構を装置に新たに組み込む必要があり、装置構成が複雑化するという問題があった。

また、特許文献２に記載の装置では、押えリングを駆動するためにアクチュエータを必要とし、装置構成が複雑化するという問題があった。さらに、シートフィルムに張力を発生させるために押えリングによりシートフィルムの周縁部を押圧する必要があるが、シートフィルムの平面サイズが小さい場合には、押えリングによるシートフィルムの押圧が困難になる。具体的には、シートフィルムの平面サイズは、基板全面に対しシートフィルム上の薄膜を加圧転写する観点から基板サイズに対して同等以上であることが必要とされるが、その一方で次のような理由からシートフィルムの平面サイズは、できる限り小さいことが望ましい。すなわち、シートフィルムの平面サイズは装置のフットプリントを決定づける主要因となるため、シートフィルムの平面サイズが大きくなると、装置のフットプリントが増大してしまい、装置の大型化を招いてしまう。このため、基板サイズに近い平面サイズを有するシートフィルムを用いることが装置の小型化を図る上で有利となる。しかしながら、このようなシートフィルムを用いた場合には、押えリングと当接させる領域をシートフィルムの周縁部に確保することが困難となり、押えリングを用いてシートフィルムに張力を発生させることが不可能となる場合があった。

また、特許文献３に記載の装置では、下プレート（第２プレート）と基材保持機構（フィルム保持機構）との間の相対位置関係によってシートフィルムに張力を発生させている。このため、シートフィルムに張力を発生させるために、新たな機構を装置に組み込む必要がなく、装置構成を簡素化することが可能となっている。また、特許文献２に記載の装置のように、押えリングと当接させる領域をシートフィルムの周縁部に確保する必要がないために、比較的平面サイズが小さなシートフィルムに対しても張力を発生させることが可能となっている。

しかしながら、シートフィルムに張力を発生させるだけではなく、シートフィルムに発生させた張力を該シートフィルムに安定して付与することが重要となっている。というのも、シートフィルムに発生させた張力の大きさが変動してしまうと、結果的にシートフィルムに弛みが生じてしまい、シートフィルム上の薄膜を基板に良好に転写することができなくなるからである。ところが、特許文献３に記載の装置では、この点に関して十分に考慮されておらず、改善の余地が残されていた。

この発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、シートフィルムに発生させた張力を該シートフィルムに安定して付与することができる薄膜形成装置および薄膜形成方法を提供することを目的とする。

この発明は、シートフィルムの薄膜形成面に形成された薄膜を基板に転写する転写処理を実行する薄膜形成装置であって、上記目的を達成するため、シートフィルムを保持するフィルム保持機構と、フィルム保持機構に保持された前記シートフィルム上の薄膜に対向する装着面を有し、該装着面に基板が装着される第１プレートと、シートフィルムの両主面のうち薄膜形成面に対して反対の非薄膜形成面側に第１プレートに対向して配設された第２プレートを有し、所定の移動方向に沿って第１プレートに対して移動自在に設けられた移動ユニットと、移動ユニットを第１プレートに向けて移動方向に沿って移動させることによって、フィルム保持機構により保持されたシートフィルムを第２プレートに装着するとともに該シートフィルム上の薄膜を第１プレートに装着された基板に押し付けて加重し転写処理を実行する加重手段とを備え、移動ユニットは、第２プレートを固定支持する基台と、フィルム保持機構に向けて基台に突設されるとともにフィルム保持機構に係合可能に構成された係合部材とをさらに有し、
加重手段は移動ユニットを第１プレートに向けて移動させてフィルム保持機構に保持されたシートフィルムに対して第２プレートを突き当ててシートフィルムに張力を発生させるとともにフィルム保持機構と係合部材とを互いに係合させ、該係合により移動方向におけるフィルム保持機構に対する第２プレートの相対位置が固定されることを特徴としている。

また、この発明は、上記目的を達成するため、薄膜が薄膜形成面に形成されたシートフィルムをフィルム保持機構により保持するフィルム保持工程と、シートフィルム上の薄膜に対向するように基板を第１プレートに装着する基板装着工程と、シートフィルムの両主面のうち薄膜形成面に対して反対の非薄膜形成面側に第１プレートに対向して配設された第２プレートを有し、所定の移動方向に沿って第１プレートに対して移動自在に設けられた移動ユニットを、移動方向に沿って移動させることでフィルム保持機構により保持されたシートフィルムを第２プレートに装着するとともに第１プレートに装着された基板に対してシートフィルム上の薄膜を押し付けて薄膜を基板に転写する転写工程とを備え、移動ユニットは、移動方向において第２プレートと一体的に移動するとともにフィルム保持機構に係合可能に構成された係合部材をさらに有し、転写工程では、移動ユニットを第１プレートに向けて移動させることによって、フィルム保持機構に保持されたシートフィルムに対して第２プレートを突き当ててシートフィルムに張力を発生させるとともにフィルム保持機構と係合部材とを互いに係合させ、該係合により移動方向におけるフィルム保持機構に対する第２プレートの相対位置を固定することを特徴としている。

このように構成された発明では、移動ユニットの移動により、フィルム保持機構に保持されたシートフィルムに対して第２プレートが突き当てられてシートフィルムに張力が発生する。また、フィルム保持機構と係合部材とが互いに係合して移動方向におけるフィルム保持機構に対する第２プレートの相対位置が固定される。すなわち、係合部材は、移動方向において第２プレートに対する相対位置が規定された状態で移動ユニットに設けられているため、フィルム保持機構と係合部材とが互いに係合することで、移動方向におけるフィルム保持機構に対する第２プレートの相対位置が固定される。これにより、シートフィルムに発生した張力の大きさが決定されるとともに固定される。したがって、シートフィルムに発生させた張力を該シートフィルムに安定して付与することができる。

ここで、フィルム保持機構を移動方向に沿って移動自在に設け、加重手段による移動ユニットの移動によって、互いに係合したフィルム保持機構と係合部材とを一体的に移動方向に沿って移動させて転写処理を実行するように構成してもよい。この構成によれば、移動方向におけるフィルム保持機構に対する第２プレートの相対位置が固定された状態で移動ユニットが移動し、決定された張力をシートフィルムに付与した状態を維持したまま転写処理が実行される。したがって、シートフィルムに付与される張力を一定値（決定された張力）に保ったまま該シートフィルム上の薄膜を基板に転写することができ、基板上に薄膜を良好に形成することができる。

また、フィルム保持機構が移動方向に直交する方向に移動するのを規制されながら移動方向に沿って移動ユニットに対して移動自在に支持されるように構成すると、移動ユニットを移動方向に沿って移動させたとしても、移動方向に直交する方向において第２プレートとフィルム保持機構との間の相対位置関係を確実に固定することができる。このため、第２プレートとフィルム保持機構とが互いに移動方向に直交する方向にずれるのを防止することができる。

また、係合部材はフィルム保持機構と係合する係合部位を有しているが、この係合部位の第２プレートに対する移動方向における相対距離が調整可能となるように構成してもよい。さらに、この装置において、相対距離が調整されることで、係合部材に係合したフィルム保持機構に対する第２プレートの移動方向における相対位置が変更されるように構成してもよい。この構成によれば、上記相対距離の調整によって、係合部材に係合したフィルム保持機構に対する第２プレートの移動方向における相対位置を変更することができる。これにより、シートフィルムに発生する張力の大きさを自在に調整することができる。したがって、使用するシートフィルムの種類や膜厚に応じて最適な張力をシートフィルムに付与することができる。

また、移動ユニットにおいて、係合部材の先端側に係合部位が設けられ、基台から係合部位までの移動方向における長さが調整されることで、相対距離が調整されるように構成してもよい。この構成によれば、基台上に突設された係合部材がその先端部（係合部位）においてフィルム保持機構と係合することで、移動方向におけるフィルム保持機構に対する第２プレートの相対位置が固定される。したがって、基台から係合部位までの移動方向における長さを調整することで、移動方向における係合部位の第２プレートに対する相対距離を調整することができる。これにより、シートフィルムに発生する張力の大きさを簡素な構成により自在に調整することができる。

この発明によれば、移動ユニットの移動により、フィルム保持機構に保持されたシートフィルムに対して第２プレートを突き当ててシートフィルムに張力を発生させるとともに、フィルム保持機構と移動ユニットが有する係合部材とを互いに係合させて移動方向におけるフィルム保持機構に対する第２プレートの相対位置が固定される。これにより、シートフィルムに発生する張力の大きさが決定されるとともに固定される。したがって、シートフィルムに発生させた張力を安定してシートフィルムに付与することができる。

図１はこの発明にかかる薄膜形成装置の一実施形態を示す図である。この薄膜形成装置は、その内部が薄膜を基板Ｗに転写する転写処理を行う薄膜形成室１１となっている処理容器１を有している。この薄膜形成室１１は転写処理時に真空ポンプ２によって真空排気可能になっている。この真空ポンプ２は装置全体を制御する制御ユニット１０に電気的に接続されており、制御ユニット１０からの動作指令に応じて作動して薄膜形成室１１内を排気減圧することができるようになっている。また、制御ユニット１０は真空ポンプ２による薄膜形成室１１からの排気量を調整し、薄膜形成室１１内の圧力（真空度）を制御可能となっている。これにより、薄膜の乾燥状態をコントロールしながら該薄膜を基板Ｗに転写することができる。薄膜形成室１１内の圧力としては、薄膜の種類等に応じて大気圧から数Ｐａまでの範囲内の所定の圧力に設定される。

薄膜形成室１１には、第１、第２プレート４，５が上下に対向して収容されている。第１プレート４は薄膜形成室１１内に固設された上ベース部材１２によって水平に固定支持されており、第２プレート５の上方に位置している。第１プレート４は基板Ｗが装着される試料台を構成し、第２プレート５と対向する下面４ａが基板Ｗの装着面を形成している。第１プレート４の下面４ａは円形に形成されている。ここで、薄膜形成対象となる基板Ｗとしては、例えば円板状に形成された半導体ウエハと、この半導体ウエハ上に電極配線をパターニングした構造を有するものがあり、基板Ｗのパターン形成面側に絶縁膜などの薄膜が転写される。

第１プレート４の下面４ａには、平坦性を確保するために研磨された石英板（図示せず）が設けられており、この石英板に基板Ｗが装着される。石英は基板Ｗを汚染する物質を含まないこと、および加工性がよく、必要とする平坦性が容易に得られることなどから基板Ｗを装着する材料として優れている。第１プレート４は、内部に加熱手段として加熱ヒータ４１を具備している。この加熱ヒータ４１はヒータコントローラ４２と電気的に接続されており、制御ユニット１０からの基板温度情報に基づきヒータコントローラ４２を作動させることによって、２５°Ｃ〜３００°Ｃの間で加熱制御される。

このように構成された第１プレート４に対して、複数本（この実施形態では２本）のリフタ４４が昇降自在で、しかも水平方向に移動自在に支持されている。各リフタ４４の下端部には爪部材４５が固着されている。爪部材４５はその上面が基板Ｗの周縁部と係合可能に仕上げられ、基板Ｗを爪部材４５上に載置させることができる。各リフタ４４にはリフタ駆動機構４６が接続されており、制御ユニット１０からの動作指令に応じてリフタ駆動機構４６が作動することで、薄膜形成室１１内に搬入された基板Ｗを爪部材４５上に載置可能な基板搬入位置と、爪部材４５上に載置された基板Ｗを第１プレート４の下面４ａに装着する基板装着位置（図１で示す位置）とに複数のリフタ４４を一体的に移動させることができる。

具体的には、リフタ駆動機構４６に対して制御ユニット１０から下降指令が与えられると、リフタ４４は下方に移動し、爪部材４５を第１プレート４の下面４ａの下方側に移動させた後、さらにリフタ４４を水平移動させて爪部材４５を第１プレート４の下面周縁部と離間して対向させる。これにより、爪部材４５が基板搬入位置に位置決めされ、爪部材４５への基板Ｗの載置が可能となる。また、制御ユニット１０からリフタ駆動機構４６に上昇指令が与えられると、リフタ駆動機構４６はリフタ４４を上方に移動させて爪部材４５上に載置された基板Ｗを第１プレート４の下面４ａに密着させる。これにより、爪部材４５が基板装着位置に位置決めされ、第１プレート４に基板Ｗが装着される。

第２プレート５は、移動方向Ｚ（鉛直方向）に沿って昇降自在に設けられた昇降ユニット２０に装備され、第１プレート４の下方に軸線を一致させて対向して配置されている。昇降ユニット２０は薄膜形成室１１内に下ベース部材１３（本発明の「基台」に相当）を有し、下ベース部材１３上に第２プレート５が固定支持されている。第２プレート５はシートフィルムＦが装着される転写板を構成し、第１プレート４と対向する上面５ａがシートフィルムＦの装着面を形成している。第２プレート５の上面５ａは円形に形成されている。シートフィルムＦは基板Ｗより大きい円形に形成され、その表面（薄膜形成面）には薄膜が形成されている。また、第２プレート５の上面５ａの平面サイズはシートフィルムＦの平面サイズよりも小さく形成されている。このシートフィルムＦは後述する上側挟持部および下側挟持部によって移動方向Ｚに挟み込まれることによって保持されており、第２プレート５はシートフィルムＦの裏面（シートフィルムの両主面のうち薄膜形成面に対して反対の非薄膜形成面）側に配置されている。第２プレート５の上面５ａには、第１プレート４と同様に石英板（図示せず）が設けられている。また、第２プレート５には加熱手段として加熱ヒータ５１が内蔵されている。この加熱ヒータ５１はヒータコントローラ５２と電気的に接続されており、制御ユニット１０からの基板温度情報に基づきヒータコントローラ５２を作動させることによって、２５°Ｃ〜３００°Ｃの間で加熱制御される。

シートフィルムＦは、例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）もしくはＥＴＦＥ（エチレンテトラフルオロエチレン）などの可撓性を有し、また可塑性を有する有機材料からなるシート状のフィルムである。

昇降ユニット２０は、下ベース部材１３の下面中央部に一体に垂設された軸１３１を有している。軸１３１は移動方向Ｚに沿って昇降自在に軸支され、加重モータ１４（本発明の「加重手段」に相当）によって昇降されるように構成されている。すなわち、軸１３１の下端には加重モータ１４が接続されており、制御ユニット１０からの動作指令に応じて加重モータ１４が駆動されることで、昇降ユニット２０を移動方向Ｚに沿って昇降させることができる。したがって、昇降ユニット２０の昇降により、下ベース部材１３上に支持された第２プレート５が移動方向Ｚに沿って昇降する。このように、この実施形態では、昇降ユニット２０が本発明の「移動ユニット」として機能する。

また、この実施形態ではシートフィルムＦのハンドリング性を向上させるために図２に示すように一対のリングＲup，Ｒdwを用いて一体化したリング体ＲＦを形成し、このリング体ＲＦの状態でシートフィルムＦの搬送を実行している。以下では、図１および図２を参照しつつ、シートフィルムＦのハンドリング構成について説明する。

図２はリング体およびリング体を挟持する構成を説明するための断面図である。このリング体ＲＦは、上リングＲupと下リングＲdwとでシートフィルムＦの周縁部を全周にわたって挟み込むことによってシートフィルムＦを保持したものである。上リングＲupと下リングＲdwとは同一形状を有する円環状部材であり、シートフィルムＦを挟んで上リングＲupおよび下リングＲdwを配置させることにより、シートフィルムＦを磁力吸着により保持可能となっている。

また、第１、第２プレート４，５の周囲には、一対のリングＲup，Ｒdwを上下から挟み込んでリング体ＲＦを保持する上クランプ５３および下クランプ５４が設けられている。上クランプ５３および下クランプ５４はそれぞれ、一対のリングＲup，Ｒdwとほぼ同じ内径を有する円環状部材であり、上クランプ５３の外径が一対のリングＲup，Ｒdwの外径よりも小さく形成される一方、下クランプ５４の外径が一対のリングＲup，Ｒdwの外径よりも大きく形成されている。

このような構成により、上クランプ５３および下クランプ５４によってリング体ＲＦが上下方向（移動方向Ｚ）に挟んで保持されると、結果的にシートフィルムＦは上リングＲupおよび上クランプ５３からなる上側挟持部ＵＨと、下リングＲdwおよび下クランプ５４からなる下側挟持部ＤＨとにより保持（挟持）された状態となる（図２（ｂ））。つまり、下側挟持部ＤＨに載置されたシートフィルムＦが上側挟持部ＵＨにより上方から押圧されることによって該シートフィルムＦが下側挟持部ＤＨと上側挟持部ＵＨとにより挟持される。以下、下側挟持部ＤＨと上側挟持部ＵＨとをあわせて「一対の挟持部」という。このように、この実施形態では、シートフィルムＦを移動方向Ｚに挟んで配置された一対の挟持部、つまり上側挟持部ＵＨおよび下側挟持部ＤＨが本発明の「フィルム保持機構」として機能する。

一対の挟持部ＵＨ，ＤＨに挟持されたシートフィルムＦは第１プレート４と第２プレート５との間に配置される。具体的には、薄膜が形成されたシートフィルムＦの表面（薄膜形成面）が第１プレート４に対向する一方、シートフィルムＦの裏面（非薄膜形成面）側が第２プレート５に対向するように、シートフィルムＦが一対の挟持部ＵＨ，ＤＨにより挟持される。

図３は図１の薄膜形成装置のＡ−Ａ’横断面図である。２つのクランプのうち下クランプ５４は、薄膜形成室１１に立設された複数本（この実施形態では３本）の円柱体よりなるクランプ受け５５上に水平姿勢で支持される。クランプ受け５５は第２プレート５の上面５ａの中心を通り移動方向Ｚに伸びる軸（以下、単に「中心軸」という）Ｊ回りに互いに等角度（１２０°）間隔で放射状に配置されている。下クランプ５４の上面周縁部（円環部）にはリング体ＲＦの下端部（下リングＲdw）を収容可能な内部に向けて窪んだ窪部５４ａが形成されている（図２（ａ））。そして、リング体ＲＦの下端部を窪部５４ａに収容させることによって、窪部５４ａの周囲を取り囲む周面部５４ｂによってリング体ＲＦの水平方向の移動を規制することができる。

また、下ベース部材１３上には、複数本（この実施形態では３本）の突き上げピン１５が中心軸Ｊ回りに互いに等角度（１２０°）間隔で放射状に、しかも円周方向に沿ってクランプ受け５５の間に位置するように立設されている。一方、下クランプ５４の下面には各突き上げピン１５に対応して突き上げピン１５の先端部を挿入させることが可能なピン挿入孔５４ｃ（図１）が形成されている。このため、昇降ユニット２０が上昇駆動されると、突き上げピン１５の先端部がピン挿入孔５４ｃに挿入されるとともに、突き上げピン１５の先端部と後端部との間に形成された段差面が下クランプ５４の下面と当接する。これにより、突き上げピン１５と下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）とが互いに係合する。したがって、昇降ユニット２０がさらに上昇駆動されると、下クランプ５４がクランプ受け５５から離れ、突き上げピン１５と下クランプ５４とが係合した状態で一体的に上昇する。これにより、第２プレート５と一対の挟持部、つまり上側挟持部ＵＨおよび下側挟持部ＤＨとが一定の位置関係を保ったまま上昇する。すなわち、突き上げピン１５は移動方向Ｚにおける第２プレート５に対する相対位置が規定されて昇降ユニット２０に設けられているため、突き上げピン１５と下クランプ５４とが係合することで、下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）に対する第２プレート５の相対位置が固定された状態で、第２プレート５と一対の挟持部ＵＨ，ＤＨとが一体的に移動方向Ｚに沿って移動する。このように、この実施形態では、突き上げピン１５が本発明の「係合部材」として機能する。

図４は突き上げピンと下クランプとが係合した状態を示した図である。突き上げピン１５と下クランプ５４とが係合した時点では、第２プレート５が一対の挟持部ＵＨ，ＤＨに挟持されたシートフィルムＦに接触して該シートフィルムＦが上方に突き上げられる。これにより、シートフィルムＦが緊張し、該シートフィルムＦに張力を発生させることができる。ここで、第２プレート５の上面５ａが円形に形成されるとともに、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨによりシートフィルムＦの周縁部が全周にわたって保持（挟持）されているため、シートフィルムＦに対して周方向に均一な張力を付与することができる。

また、この実施形態では、突き上げピン１５が下クランプ５４と係合する係合部位の第２プレート５に対する移動方向Ｚにおける相対距離（以下、単に「相対距離」という）Ｄを調整することによってシートフィルムＦに発生させる張力の大きさをコントロールすることが可能となっている。具体的には、突き上げピン１５の先端部と後端部との間に形成された段差面（突き上げピン１５が下クランプ５４と係合する係合部位）から第２プレート５の上面５ａまでの距離（相対距離Ｄ）を調整することにより、シートフィルムＦに発生させる張力の大きさを変更することが可能となっている。つまり、相対距離Ｄに応じて、第２プレート５がシートフィルムＦと接触を開始してから突き上げピン１５と下クランプ５４とが係合するまでの間にシートフィルムＦが第２プレート５によって移動方向Ｚに沿って突き上げられる量（以下、単に「突き上げ量」という）Ｑが変化する。したがって、相対距離Ｄが調整されることで、突き上げ量Ｑを変更し、シートフィルムＦに発生する張力の大きさを調整することができる。

図５は突き上げピンの構造を示す図である。下ベース部材１３には移動方向Ｚに沿って該下ベース部材１３を貫通する貫通孔１３ａが形成されており、貫通孔１３ａに突き上げピン１５が挿通されている。これにより、その先端側に係合部位（段差面）が設けられた突き上げピン１５が下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）に向けて突設される。突き上げピン１５の後端部１５１にはねじ溝が刻まれる一方、貫通孔１３ａの内壁には突き上げピン１５のねじ溝と螺合するねじ溝が刻まれている。また、下ベース部材１３の上面側に２つのナットからなるダブルナット１５５が突き上げピン１５の後端部１５１のねじ部に螺嵌されており、ダブルナット１５５により突き上げピン１５が下ベース部材１３に緩みなく締め付け固定される。突き上げピン１５の先端部１５２は下クランプ５４のピン挿入孔５４ｃに挿入可能とされている。そして、突き上げピン１５の先端部１５２がピン挿入孔５４ｃに挿入されることで、突き上げピン１５の後端部１５１と先端部１５２とを結合する段差面１５３（係合部位）が下クランプ５４の下面５４ｄに当接する。段差面１５３と下クランプ５４の下面５４ｄとは平行に形成され、面接触状態で当接する。

このような構成によれば、ダブルナット１５５を緩めて突き上げピン１５の頭部１５４を回転させていくことで、下ベース部材１３の上面から段差面１５３までの移動方向Ｚにおける長さＬが調整される。すなわち、突き上げピン１５と下クランプ５４とが互いに係合している状態では、下ベース部材１３と下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）との間の間隙が調整される。そして、下ベース部材１３の上面から段差面１５３までの移動方向Ｚにおける長さＬを所定の長さに調整した後、ダブルナット１５５を締めることによって突き上げピン１５を下ベース部材１３に固定する。このように、下ベース部材１３の上面から段差面１５３までの移動方向Ｚにおける長さＬが調整されることで、相対距離Ｄが調整される。これにより、突き上げ量Ｑを変更し、シートフィルムＦに発生する張力の大きさを自在に、しかも簡素な構成により調整することができる。したがって、使用するシートフィルムＦの種類や膜厚に応じて最適な張力をシートフィルムＦに与えることができる。

図１に戻って説明を続ける。下クランプ５４の下面周縁部には下クランプ５４の水平方向における位置を固定するために、複数本の位置決めピン５４１が下方に延びるように取り付けられている。これら位置決めピン５４１は下ベース部材１３に移動方向Ｚに沿って形成された貫通孔１３ｂを貫通している。位置決めピン５４１と貫通孔１３ｂの内壁との間にはボールスプライン機構等が介在しており、位置決めピン５４１はボールスプライン機構等を介して移動方向Ｚに沿ってのみ可動（昇降）自在に支持される。つまり、下クランプ５４は移動方向Ｚに直交する方向（水平方向）に移動するのを規制されながら下ベース部材１３に対して移動方向Ｚに沿って昇降自在に支持される。このような構成によれば、昇降ユニット２０（第２プレート５）を移動方向Ｚに沿って移動させたとしても、水平方向において第２プレート５と下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）との間の相対位置関係を確実に固定することができる。このため、第２プレート５と一対の挟持部ＵＨ，ＤＨとが互いに水平方向にずれるのを防止することができる。

また、もう一方のクランプ、つまり上クランプ５３は昇降自在に支持された複数本のロッド５６の下端に固着されている。この実施形態では、３本のロッド５６が中心軸Ｊ回りに互いに等角度（１２０°）間隔で放射状に、上クランプ５３から上方に伸びるように設けられている。複数本のロッド５６の各々には、上クランプ５３を移動方向Ｚに沿って昇降駆動させるためのエアシリンダ５７が連結されている。そして、制御ユニット１０からの動作指令に応じてエアシリンダ５７を作動させることで、上クランプ５３を移動方向Ｚに沿って昇降させることができる。具体的には、上クランプ５３を上昇させて第２プレート５に対するリング体ＲＦの搬入出を可能とする一方、上クランプ５３を下降させて下クランプ５４とでリング体ＲＦを挟持して固定することができる。

このエアシリンダ５７は処理容器１の外部に配設されており、エアシリンダ５７から発生するパーティクル等の汚染物質が薄膜形成室１１内に混入するのを防止することができる。なお、上クランプ５３を昇降駆動させる駆動機構としては、エアシリンダに限らず、エアシリンダ以外の他の昇降駆動用アクチュエータを用いるようにしてもよい。

また、エアシリンダ５７と、該エアシリンダ５７に圧縮空気を供給するための圧縮空気供給源との間には調圧弁５８が介装されている。そして、制御ユニット１０からの動作指令に応じて調圧弁５８の開度を調整することにより、ロッド５６の推力を一定に保つことが可能となっている。この実施形態では、軸１３１が移動方向Ｚにおいて受ける加重圧力を検出する加重センサ１６が設けられており、後述するようにして加重センサ１６によって検出された加重圧力に基づいて制御ユニット１０が調圧弁５８の開度を調整し、ロッド５６の推力を一定に保つようにフィードバック制御する。これにより、下クランプ５４に載置されたリング体ＲＦを上クランプ５３により一定の押圧力で押圧することができる。すなわち、下側挟持部ＤＨ上に配置されたシートフィルムＦを上側挟持部ＵＨにより上方から一定の押圧力で押圧することが可能となっている。

次に、上記した薄膜形成装置の動作について図６ないし図８を参照しつつ説明する。図６ないし図８は図１の薄膜形成装置の動作を説明するための模式図である。本実施形態においては、薄膜形成室１１内への基板ＷおよびシートフィルムＦの搬入に先立って、各突き上げピン１５において、下ベース部材１３の上面から段差面１５３までの移動方向Ｚにおける長さＬが使用されるシートフィルムＦの種類や膜厚等に応じて予め調整されているものとする。

最初に第１プレート４側に基板Ｗが搬入される。すなわち、制御ユニット１０はリフタ駆動機構４６に下降指令を与え、図６（ａ）に示すように、爪部材４５を基板搬入位置に位置決めする。それに続いて、薄膜を形成すべき基板Ｗが薄膜形成室１１内に搬入され、爪部材４５の上に載置される。その後、制御ユニット１０はリフタ駆動機構４６に対して上昇指令を与え、爪部材４５を基板装着位置に移動させて基板Ｗの上面（非パターン形成面）を第１プレート４の下面４ａに密着させた状態で基板Ｗを位置決めする（図６（ｂ））。これにより、第１プレート４に基板Ｗが装着される（基板装着工程）。

一方、第２プレート５側では、シートフィルムＦがリング体ＲＦにより挟持された状態で薄膜形成室１１内に搬入される。ここで、リング体ＲＦを構成する一対のリングＲup，Ｒdwに挟まれたシートフィルムＦの表面（薄膜形成面）には予め薄膜が形成されており、薄膜形成面を上方に向けてシートフィルムＦが搬入される。このとき、上クランプ５３はリング体ＲＦの搬入を妨げることのないように上方に退避している。また、第２プレート５の上面５ａは下クランプ５４（リング体ＲＦが載置される載置面）の下方に位置している。このため、シートフィルムＦが搬入される際に、シートフィルムＦと第２プレート５とが接触するのを回避することができる。その結果、シートフィルムＦに張力が発生していない状態で薄膜が部分的に乾燥して薄膜の均一な乾燥が阻害されてしまうのを防止することができる。

そして、リング体ＲＦが下クランプ５４上に載置された後、上クランプ５３が下降して下クランプ５４に載置されたリング体ＲＦが上クランプ５３によって押圧される（図６（ｃ））。これによって、シートフィルムＦの周縁部が全周にわたって所定の押圧力で均一に押圧され、シートフィルムＦにしわや折り曲げが発生するのを防止しながら、シートフィルムＦが一対の挟持部、つまり上側挟持部ＵＨおよび下側挟持部ＤＨにより挟持された状態となる（フィルム保持工程）。

こうして、基板ＷおよびシートフィルムＦの搬入が完了すると、制御ユニット１０は装置各部を制御し、以下に示すように薄膜を基板Ｗに転写する転写工程を実行する。先ず、真空ポンプ２による薄膜形成室１１の排気減圧を開始する。また、ヒータコントローラ４２によって加熱ヒータ４１に通電して第１プレート４を加熱して基板Ｗを所望の温度に加熱するとともに、ヒータコントローラ５２によって加熱ヒータ５１に通電して第２プレート５を加熱してシートフィルムＦを所望の温度に加熱する。

そして、薄膜形成室１１が所望の圧力まで減圧されると、制御ユニット１０より加重モータ１４に信号が送られ、昇降ユニット２０（第２プレート５）の上昇駆動を開始する。加重モータ１４の作動により第２プレート５が上昇すると、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨに挟持されたシートフィルムＦの裏面（非薄膜形成面）と第２プレート５の上面５ａとが接触して第２プレート５にシートフィルムＦが装着される。このとき、第２プレート５の上面５ａの平面サイズはシートフィルムＦの平面サイズよりも小さく形成されているため、第２プレート５の上面５ａの全面がシートフィルムＦにより覆われる。そして、第２プレート５の上面５ａがシートフィルムＦに接触した状態で第２プレート５がさらに上昇すると、シートフィルムＦが緊張し、該シートフィルムＦに張力が発生する。つまり、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨに挟持されたシートフィルムＦに第２プレート５が突き当てられてシートフィルムＦに張力が発生する。その結果、シートフィルムＦが加熱ヒータ５１によって加熱され、熱膨張により伸張して弛んでいても、その弛みが取り除かれる。

また、昇降ユニット２０の上昇によって突き上げピン１５がクランプ受け５５上に載置された下クランプ５４と係合する（図７（ａ））。これによって、移動方向Ｚにおける下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）に対する第２プレート５の相対位置が固定される。その結果、シートフィルムＦに発生する張力の大きさが決定されるとともに固定される。また、第２プレート５の上昇により、下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）がクランプ受け５５から突き上げピン１５に受け渡される。

そして、第２プレート５の上昇とともに一対の挟持部ＵＨ，ＤＨがシートフィルムＦを挟持しながら移動方向Ｚに沿って変位する。このとき、上クランプ５３に連結されたロッド５６がエアシリンダ５７内に後退してストロークが短くなると、エアシリンダ５７内の圧力が上昇してロッド５６の推力が増大する。その結果、シートフィルムＦに対する押圧力が増大し、加重センサ１６によって検出される加重圧力が上昇する。そこで、制御ユニット１０は加重センサ１６によって検出される加重圧力が一定となるように調圧弁５８の開度を調整し、ロッド５６の推力を一定に保つようにフィードバック制御する。つまり、シートフィルムＦに対する押圧力が一定になるように、つまり第２プレート５がシートフィルムＦに接触する前にシートフィルムＦに与えられた押圧力に等しくなるように、制御ユニット１０からの動作指令に応じて調圧弁５８が制御される。そして、制御ユニット１０は昇降ユニット２０を上昇させるとともに、シートフィルムＦへの押圧力が一定となるように調圧弁５８を制御しながらロッド５６をエアシリンダ５７内に後退させてストロークを短くしていく。これにより、第２プレート５の上昇を阻害することなく、かつ一対の挟持部ＵＨ，ＤＨによりシートフィルムＦが良好かつ確実に保持される。

また、下クランプ５４（一対の挟持部）と突き上げピン１５とが互いに係合した状態で一対の挟持部ＵＨ，ＤＨと第２プレート５とが一体的に移動方向Ｚに沿って移動することで、決定された張力をシートフィルムＦに付与した状態を維持したままシートフィルムＦが上昇する。つまり、第２プレート５と一対の挟持部ＵＨ，ＤＨとが一定の位置関係を保ったまま上昇するので、シートフィルムＦに与えられた張力の大きさが変化するのを防止することができる。このため、シートフィルムＦに張力を安定して与えながらシートフィルムＦを基板Ｗに近接させていくことができる。

また、下クランプ５４と突き上げピン１５とは、突き上げピン１５の先端部１５２が下クランプ５４のピン挿入孔５４ｃに挿入されることで係合している。このため、下クランプ５４と突き上げピン１５とが係合した状態で移動方向Ｚに沿って移動する際に、互いの位置関係がずれるのを防止することができる。

そして、第２プレート５がさらに上昇すると、シートフィルムＦ上の薄膜が基板Ｗに密着し、基板Ｗへの薄膜の転写が開始される（図７（ｂ））。また、薄膜形成室１１を排気減圧したまま、基板ＷとシートフィルムＦとが所定の加重で一定時間互いに押し付けられる。その間も基板ＷとシートフィルムＦは所定の温度となるように加熱されている。薄膜が基板Ｗに押し付けられている間もシートフィルムＦは一対の挟持部ＵＨ，ＤＨにより挟持されながら、一定の張力、つまり下クランプ５４と突き上げピン１５とが係合することによって決定された張力が付与された状態となっている。このため、シートフィルムＦにしわや折り曲げが発生するのを防止して、平坦で均一な膜厚の薄膜を基板Ｗに形成することができる。

そして、一連の加重操作が終了して転写処理が完了すると、ヒータコントローラ４２，５２により加熱ヒータ４１，５１の作動を停止させて第１，第２プレート４，５の加熱を停止すると同時に、爪部材４５を側方に退避させて爪部材４５による基板保持を解除する（図７（ｃ））。続いて、加重の状態が零となるように制御ユニット１０から加重モータ１４に信号を送り、昇降ユニット２０および一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ（上クランプ５３、リング体ＲＦ、下クランプ５４）を一体的に下降させる（図８（ａ））。すなわち、制御ユニット１０はシートフィルムＦに対する押圧力が一定となるように調圧弁５８を制御しながらロッド５６をエアシリンダ５７内から進出させてストロークを長くしていく。その後、昇降ユニット２０が下降し、上クランプ５３により上方から押圧された状態で下クランプ５４およびリング体ＲＦがクランプ受け５５上に受け渡される（図８（ｂ））。さらに、昇降ユニット２０が下降し、昇降ユニット２０（第２プレート５）が転写前の初期位置に復帰すると、突き上げピン１５が下クランプ５４から離れる。また、上クランプ５３によるリング体ＲＦへの押圧が解除される（図８（ｃ））。これにより、下クランプ５４およびリング体ＲＦがクランプ受け５５上に支持された状態となる。

こうして、第２プレート５が転写前の初期位置に戻った後、真空ポンプ２を停止させる。なお、上記のようにして薄膜の密着が完了すると、基板Ｗは薄膜を挟んでシートフィルムＦと一体となっており、この一体化状態のままリング体ＲＦを薄膜形成室１１から取り出し、シートフィルムＦを剥離する剥離装置（図示せず）に搬送する。

以上のように、この実施形態によれば、昇降ユニット２０の移動により、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨに保持されたシートフィルムＦに対して第２プレート５が突き当ててシートフィルムＦに張力を発生させている。また、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ（下クランプ５４）と突き上げピン１５（段差面１５３）とを互いに係合させて移動方向Ｚにおける一対の挟持部ＵＨ，ＤＨに対する第２プレート５の相対位置を固定している。ここで、突き上げピン１５（段差面１５３）は第２プレート５に対する移動方向Ｚにおける相対位置が規定された状態で昇降ユニット２０に設けられているため、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨと突き上げピン１５とが係合することで、移動方向Ｚにおける一対の挟持部ＵＨ，ＤＨに対する第２プレート５の相対位置が固定される。これにより、シートフィルムＦに発生した張力が決定されるとともに固定される。したがって、シートフィルムＦに発生させた張力を該シートフィルムＦに安定して付与することができる。しかも、第２プレート５の上昇とともに、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ（下クランプ５４）と突き上げピン１５（段差面１５３）とを単に物理的に係合させることのみにより、シートフィルムＦに付与する張力を安定させることができ、装置を簡素に構成することができる。

また、この実施形態によれば、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨが移動方向Ｚに沿って移動自在に設けられており、昇降ユニット２０の移動によって、互いに係合した下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）と突き上げピン１５とを一体的に移動方向Ｚに沿って移動させて転写処理を実行している。このため、移動方向Ｚにおける一対の挟持部ＵＨ，ＤＨに対する第２プレート５の相対位置を固定した状態で昇降ユニット２０が移動され、決定された張力をシートフィルムＦに付与した状態を維持したまま転写処理が実行される。したがって、シートフィルムＦに付与される張力を一定値（決定された張力）に保ったまま該シートフィルムＦ上の薄膜を基板Ｗに転写することができ、基板Ｗ上に薄膜を良好に形成することができる。

また、この実施形態によれば、突き上げピン１５の段差面１５３の第２プレート５に対する移動方向Ｚにおける相対距離Ｄが調整可能とされ、相対距離Ｄを調整することで、段差面１５３に係合した下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）に対する第２プレート５の移動方向Ｚにおける相対位置を変更することができる。これにより、シートフィルムＦに発生する張力の大きさを自在に調整することができる。したがって、使用するシートフィルムＦの種類や膜厚に応じて最適な張力をシートフィルムＦに付与することができる。

＜その他＞
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態では、第２プレート５を第１プレート４の下方に配置し、第２プレート５の上面５ａを第１プレート４に対向させているが、第２プレート５を第１プレート４の上方に配置し、第２プレート５の下面を第１プレート４に対向させてもよい。

また、上記実施形態では、第１プレート４を固定配置した状態で第２プレート５を移動させることで転写処理を実行しているが、第１および第２プレート４，５をともに移動させることで転写処理を実行するように構成してもよい。

また、上記実施形態では、突き上げピン１５の段差面１５３を本発明の「係合部位」として下クランプ５４（一対の挟持部ＵＨ，ＤＨ）に係合させているが、突き上げピン１５の先端（上端）を下クランプ５４に係合させてもよい。また、突き上げピン１５を配設することなく、下クランプ５４と下ベース部材１３（上面）とを直接に係合させるように構成してもよい。この場合は、下ベース部材１３の上面が本発明の「係合部位」に相当する。要は、本発明の「係合部位」としては、昇降ユニット２０（移動ユニット）に設けられ、第２プレート５に対する移動方向Ｚにおける相対位置が固定された部位であればよい。

また、上記実施形態では、エアシリンダ５７などの昇降駆動用アクチュエータを用いて上側挟持部ＵＨ（上リングＲupおよび上クランプ５３）を駆動することで下側挟持部ＤＨ（下リングＲdwおよび下クランプ５４）に載置されたシートフィルムＦへの押圧力を発生させてシートフィルムＦを保持（挟持）している。しかしながら、昇降駆動用アクチュエータを用いることは必須ではなく、上側挟持部ＵＨの自重のみにより下側挟持部ＤＨに載置されたシートフィルムＦを上方から押圧して、上側挟持部ＵＨと下側挟持部ＤＨとによりシートフィルムＦを保持するようにしてもよい。また、下クランプ５４上にリング体ＲＦ（上リングＲupおよび下リングＲdw）のみを載置することで、シートフィルムＦを保持するようにしてもよい。この場合には、第２プレート５の上昇によってリング体ＲＦに挟持されたシートフィルムＦが押し上げられる際に、リング体ＲＦが動かないだけの重量を有することがリング体ＲＦに必要とされる。

また、上記実施形態では、一対のリングＲup，ＲdwによりシートフィルムＦを挟み込んでリング体ＲＦを構成し、リング体ＲＦを薄膜形成室１１に搬入することでシートフィルムＦを搬送しているが、シートフィルムＦの搬送態様はこれに限定されるものではなく、シートフィルムＦを薄膜形成室１１に直接搬入してもよい。この場合、シートフィルムＦは下クランプ５４上に載置され、下クランプ５４に載置されたシートフィルムＦが上クランプ５３により上方から押圧されることで移動方向Ｚに保持（挟持）される。このように、この実施形態（変形形態）では、上クランプ５３と下クランプ５４とが本発明の「フィルム保持機構」に相当する。

また、上記実施形態では、シートフィルムＦを移動方向Ｚに挟んで配置された一対の挟持部ＵＨ，ＤＨを本発明の「フィルム保持機構」として機能させ、一対の挟持部ＵＨ，ＤＨによりシートフィルムＦを保持しているが、シートフィルムＦの保持態様はこれに限定されない。例えば、シートフィルムＦの周囲側方（移動方向に直交する方向）にフィルム保持機構を配置してシートフィルムＦを保持させるように構成してもよい。但し、シートフィルムＦを移動方向Ｚに挟んで配置された一対の挟持部によりシートフィルムＦを保持する方が、装置のフットプリントを小さくする観点から有利である。

また、上記実施形態では、半導体基板に薄膜を転写する場合に限らず、電子部品材料関係であればマルチチップモジュール等の実装関係の基板や液晶関係の基板に薄膜を転写する場合にも適用できる。また、薄膜についても絶縁膜に限らず、金属系の薄膜を基板に転写してもよい。

この発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示用ガラス基板、プラズマ表示用ガラス基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板などを含む基板に薄膜を形成する薄膜形成装置および薄膜形成方法に適用することができる。

この発明にかかる薄膜形成装置の一実施形態を示す図である。 リング体およびリング体を挟持する構成を説明するための断面図である。 図１の薄膜形成装置のＡ−Ａ’横断面図である。 突き上げピンと下クランプとが係合した状態を示した図である。 突き上げピンの構造を示す図である。 図１の薄膜形成装置の動作を説明するための模式図である。 図１の薄膜形成装置の動作を説明するための模式図である。 図１の薄膜形成装置の動作を説明するための模式図である。

符号の説明

４…第１プレート
４ａ…（第１プレートの）下面（装着面）
５…第２プレート
１３…下ベース部材（基台）
１４…加重モータ（加重手段）
１５…突き上げピン（係合部材）
２０…昇降ユニット（移動ユニット）
１５３…段差面（係合部位）
Ｄ…（移動方向における係合部位の第２プレートに対する）相対距離
ＤＨ…下側挟持部（フィルム保持機構）
Ｆ…シートフィルム
Ｌ…（基台から係合部位までの移動方向における）長さ
ＵＨ…上側挟持部（フィルム保持機構）
Ｗ…基板
Ｚ…移動方向

Claims (6)

1. シートフィルムの薄膜形成面に形成された薄膜を基板に転写する転写処理を実行する薄膜形成装置において、
   前記シートフィルムを保持するフィルム保持機構と、
   前記フィルム保持機構に保持された前記シートフィルム上の前記薄膜に対向する装着面を有し、該装着面に前記基板が装着される第１プレートと、
   前記シートフィルムの両主面のうち前記薄膜形成面に対して反対の非薄膜形成面側に前記第１プレートに対向して配設された第２プレートを有し、所定の移動方向に沿って前記第１プレートに対して移動自在に設けられた移動ユニットと、
   前記移動ユニットを前記第１プレートに向けて前記移動方向に沿って移動させることによって、前記フィルム保持機構により保持された前記シートフィルムを前記第２プレートに装着するとともに該シートフィルム上の前記薄膜を前記第１プレートに装着された前記基板に押し付けて加重し前記転写処理を実行する加重手段と
   を備え、
   前記移動ユニットは、前記第２プレートを固定支持する基台と、前記フィルム保持機構に向けて前記基台に突設されるとともに前記フィルム保持機構に係合可能に構成された係合部材とをさらに有し、
   前記加重手段は前記移動ユニットを前記第１プレートに向けて移動させて前記フィルム保持機構に保持された前記シートフィルムに対して前記第２プレートを突き当てて前記シートフィルムに張力を発生させるとともに前記フィルム保持機構と前記係合部材とを互いに係合させ、該係合により前記移動方向における前記フィルム保持機構に対する前記第２プレートの相対位置が固定される
   ことを特徴とする薄膜形成装置。
2. 前記フィルム保持機構は前記移動方向に沿って移動自在に設けられ、
   前記加重手段は前記移動ユニットを移動させることで、互いに係合した前記フィルム保持機構と前記係合部材とを一体的に前記移動方向に沿って移動させて前記転写処理を実行する請求項１記載の薄膜形成装置。
3. 前記フィルム保持機構は前記移動方向に直交する方向に移動するのを規制されながら前記移動方向に沿って前記移動ユニットに対して移動自在に支持される請求項１または２記載の薄膜形成装置。
4. 前記係合部材は前記フィルム保持機構と係合する係合部位を有し、該係合部位の前記第２プレートに対する前記移動方向における相対距離が調整可能となっており、
   前記相対距離が調整されることで、前記係合部材に係合した前記フィルム保持機構に対する前記第２プレートの前記移動方向における相対位置が変更される請求項１ないし３のいずれかに記載の薄膜形成装置。
5. 前記係合部材はその先端側に前記係合部位を有し、
   前記基台から前記係合部位までの前記移動方向における長さが調整されることで、前記相対距離が調整される請求項４記載の薄膜形成装置。
6. 薄膜が薄膜形成面に形成されたシートフィルムをフィルム保持機構により保持するフィルム保持工程と、
   前記シートフィルム上の前記薄膜に対向するように基板を第１プレートに装着する基板装着工程と、
   前記シートフィルムの両主面のうち前記薄膜形成面に対して反対の非薄膜形成面側に前記第１プレートに対向して配設された第２プレートを有し、所定の移動方向に沿って前記第１プレートに対して移動自在に設けられた移動ユニットを、前記移動方向に沿って移動させることで前記フィルム保持機構により保持された前記シートフィルムを前記第２プレートに装着するとともに前記第１プレートに装着された前記基板に対して前記シートフィルム上の前記薄膜を押し付けて前記薄膜を前記基板に転写する転写工程と
   を備え、
   前記移動ユニットは、前記移動方向において前記第２プレートと一体的に移動するとともに前記フィルム保持機構に係合可能に構成された係合部材をさらに有し、
   前記転写工程では、前記移動ユニットを前記第１プレートに向けて移動させることによって、前記フィルム保持機構に保持された前記シートフィルムに対して前記第２プレートを突き当てて前記シートフィルムに張力を発生させるとともに前記フィルム保持機構と前記係合部材とを互いに係合させ、該係合により前記移動方向における前記フィルム保持機構に対する前記第２プレートの相対位置を固定することを特徴とする薄膜形成方法。

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