JP4846477B2 - 薄膜音響共振器の製造方法 - Google Patents
薄膜音響共振器の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4846477B2 JP4846477B2 JP2006203023A JP2006203023A JP4846477B2 JP 4846477 B2 JP4846477 B2 JP 4846477B2 JP 2006203023 A JP2006203023 A JP 2006203023A JP 2006203023 A JP2006203023 A JP 2006203023A JP 4846477 B2 JP4846477 B2 JP 4846477B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acoustic
- acoustic impedance
- impedance layer
- low
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
本発明の第1の実施形態について図面を参照して説明する。図1は第1の実施形態に係る薄膜音響共振器の断面構成を示している。本実施形態の薄膜音響共振器は、シリコンからなる基板11の上に形成された音響反射部14と、音響反射部14の上に形成された音響共振部18とを備えている。
以下に、本発明の第2の実施形態について図面を参照して説明する。図2は第2の実施形態に係る薄膜音響共振器の断面構成を示している。図2において図1と同一の構成要素には同一の符号を附すことにより説明を省略する。
以下に、本発明の第3の実施形態について図面を参照して説明する。図3及び図4は本実施形態に係る薄膜音響共振器の製造方法であり、図3は平面構成を工程順に示しており、図4は断面構成を工程順に示している。
以下に、本発明の第4の実施形態について図面を参照して説明する。図5は第4の実施形態に係る薄膜音響共振器の製造方法を工程順に示している。
12 高音響インピーダンス層
13 低音響インピーダンス層
14 音響反射部
15 下部電極
16 圧電膜
17 上部電極
18 音響共振部
71 犠牲膜
72 溝部
81 マスク
82 高音響インピーダンス材料の薄膜
82A 光照射領域
82B 未照射領域
83 低音響インピーダンス材料の薄膜
82A 光照射領域
82B 未照射領域
Claims (5)
- 基板の上に低音響インピーダンス層と該低音響インピーダンス層と比べて音響インピーダンスの値が高い高音響インピーダンス層とを交互に積層することにより音響反射部を形成する工程(a)と、
前記音響反射部の上に、下部電極、圧電膜及び上部電極を順次形成することにより音響共振部を形成する工程(b)と、
前記工程(a)よりも前に、前記基板の上に膜厚が前記音響反射部の厚さよりも厚い犠牲膜を選択的に形成することにより、前記基板を前記犠牲膜により区切られた複数の領域に分割する工程(c)と、
前記工程(a)よりも後で且つ前記工程(b)よりも前に、前記犠牲膜を除去することにより前記音響反射部を複数の領域に分割する工程(d)とを備え、
前記工程(a)において、少なくとも前記音響反射部の最上層となる前記高音響インピーダンス層又は前記低音響インピーダンス層は、スピンコーティングにより形成し、
前記工程(b)は、前記音響反射部の分割された各領域に前記音響共振部をそれぞれ形成する工程であることを特徴とする薄膜音響共振器の製造方法。 - 前記犠牲膜は、前記工程(a)において前記低音響インピーダンス層及び高音響インピーダンス層をスピンコーティングする際に、スピンコーティング用の溶媒が滞留しないように形成することを特徴とする請求項1に記載の薄膜音響共振器の製造方法。
- 前記犠牲膜は、前記基板の上に格子状に形成され、
前記格子の交差部には前記犠牲膜が形成されていないことを特徴とする請求項2に記載の薄膜音響共振器の製造方法。 - 基板の上に低音響インピーダンス層と該低音響インピーダンス層と比べて音響インピーダンスの値が高い高音響インピーダンス層とを交互に積層することにより音響反射部を形成する工程(a)と、
前記音響反射部の上に、下部電極、圧電膜及び上部電極を順次形成することにより音響共振部を形成する工程(b)とを備え、
前記工程(a)は、
前記低音響インピーダンス層をスピンコーティングにより形成した後、形成した低音響インピーダンス層に第1の波長の光を選択的に照射することにより前記低音響インピーダンス層の一部を結晶化する工程(a1)と、
前記高音響インピーダンス層をスピンコーティングにより形成した後、形成した高音響インピーダンス層に第2の波長の光を選択的に照射することにより前記高音響インピーダンス層の一部を結晶化する工程(a2)と、
前記工程(a1)と前記工程(a2)とを交互に繰り返した後、一部が結晶化された前記低音響インピーダンス層及び一部が結晶化された前記高音響インピーダンス層における結晶化されていない部分を除去することにより、複数の領域に分割された前記音響反射部を形成する工程(a3)とを含み、
前記工程(b)は、前記音響反射部の分割された各領域に前記音響共振部をそれぞれ形成する工程であることを特徴とする薄膜音響共振器の製造方法。 - 基板の上に低音響インピーダンス層と該低音響インピーダンス層と比べて音響インピーダンスの値が高い高音響インピーダンス層とを交互に積層することにより音響反射部を形成する工程(a)と、
前記音響反射部の上に、下部電極、圧電膜及び上部電極を順次形成することにより音響共振部を形成する工程(b)とを備え、
前記工程(a)は、
前記低音響インピーダンス層と前記高音響インピーダンス層とをスピンコーティングにより交互に積層する工程(a1)と、
積層された前記低音響インピーダンス層及び高音響インピーダンス層に対して、第1の波長の光を選択的に照射することにより前記低音響インピーダンス層の一部を結晶化し、第2の波長の光を選択的に照射することにより前記高音響インピーダンス層の一部を結晶化する工程(a2)と、
一部が結晶化された前記低音響インピーダンス層及び一部が結晶化された前記高音響インピーダンス層における結晶化されていない部分を除去することにより、複数の領域に分割された前記音響反射部を形成する工程(a3)とを含み、
前記工程(b)は、前記音響反射部の分割された各領域に前記音響共振部をそれぞれ形成する工程であることを特徴とする薄膜音響共振器の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006203023A JP4846477B2 (ja) | 2006-07-26 | 2006-07-26 | 薄膜音響共振器の製造方法 |
US11/806,123 US7760049B2 (en) | 2006-05-30 | 2007-05-30 | Film bulk acoustic resonator, filter, and fabrication method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006203023A JP4846477B2 (ja) | 2006-07-26 | 2006-07-26 | 薄膜音響共振器の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008034925A JP2008034925A (ja) | 2008-02-14 |
JP4846477B2 true JP4846477B2 (ja) | 2011-12-28 |
Family
ID=39123952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006203023A Expired - Fee Related JP4846477B2 (ja) | 2006-05-30 | 2006-07-26 | 薄膜音響共振器の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4846477B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023190673A1 (ja) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 日東電工株式会社 | バルク弾性波フィルタデバイス |
TW202406299A (zh) * | 2022-03-31 | 2024-02-01 | 日商日東電工股份有限公司 | 聲響多層膜、高頻濾波器裝置及體彈性波濾波器裝置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19931297A1 (de) * | 1999-07-07 | 2001-01-11 | Philips Corp Intellectual Pty | Volumenwellen-Filter |
US6496085B2 (en) * | 2001-01-02 | 2002-12-17 | Nokia Mobile Phones Ltd | Solidly mounted multi-resonator bulk acoustic wave filter with a patterned acoustic mirror |
JP2003347883A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 圧電薄膜素子及びその製造方法 |
JP2005057707A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Sony Corp | 薄膜バルク音響共振子およびマイクロ電気機械システムデバイス |
US7358831B2 (en) * | 2003-10-30 | 2008-04-15 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator (FBAR) devices with simplified packaging |
JP2005244184A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-09-08 | Toshiba Corp | 薄膜圧電素子及び薄膜圧電素子の製造方法 |
JP2006135529A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Japan Radio Co Ltd | 薄膜共振子の製造方法 |
JP2006340007A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Kyocera Corp | 薄膜バルク音響波共振子およびフィルタならびに通信装置 |
-
2006
- 2006-07-26 JP JP2006203023A patent/JP4846477B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008034925A (ja) | 2008-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7760049B2 (en) | Film bulk acoustic resonator, filter, and fabrication method thereof | |
KR102433349B1 (ko) | 복합 기판, 표면탄성파 디바이스 및 복합 기판의 제조 방법 | |
US7212082B2 (en) | Method of manufacturing piezoelectric thin film device and piezoelectric thin film device | |
US8330556B2 (en) | Passivation layers in acoustic resonators | |
CN108259017A (zh) | 射频谐振器和滤波器的制造方法 | |
US7239067B2 (en) | Method of manufacturing a piezoelectric thin film resonator, manufacturing apparatus for a piezoelectric thin film resonator, piezoelectric thin film resonator, and electronic component | |
JP2008211394A (ja) | 共振装置 | |
JP2005311912A (ja) | 共振器の製造方法 | |
CN107094002A (zh) | 声波谐振器及其制造方法 | |
TWI654781B (zh) | 壓電式層裝置的製造方法以及相關的壓電式層裝置 | |
JP5060356B2 (ja) | Baw共振装置の製造方法 | |
JP5299676B2 (ja) | 圧電薄膜音響共振器およびその製造方法 | |
JP2008211392A (ja) | 共振器及びその製造方法 | |
JP2007074727A (ja) | 音響共振器を含む集積回路 | |
KR102588798B1 (ko) | 음향파 필터 장치 및 그 제조방법 | |
JP4846477B2 (ja) | 薄膜音響共振器の製造方法 | |
JP2009290369A (ja) | Baw共振装置 | |
JP2004328739A (ja) | 基板からフローティングされたエアギャップを有する薄膜のバルク音響共振器及びその製造方法 | |
KR100697398B1 (ko) | 압전 필터 제조 방법 | |
JP2010050736A (ja) | 共振装置およびその製造方法 | |
JP2007295025A (ja) | Baw共振器 | |
JP2008211385A (ja) | 圧電体薄膜の製造方法、共振装置およびそれを用いたuwb用フィルタ | |
JP2008187302A (ja) | Pzt薄膜の製造方法、baw共振器およびそれを用いたuwb用フィルタ | |
JP2008211396A (ja) | 圧電性薄膜の製造方法、共振装置およびそれを用いたuwb用フィルタ | |
KR20170096717A (ko) | 음향 공진기 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110705 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110901 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110927 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111012 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |