JP4842748B2 - Substrate transfer system - Google Patents

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Description

本発明は、ガラス基板のようなシート状の基板を搬送する基板搬送システムに関するものである。   The present invention relates to a substrate transfer system for transferring a sheet-like substrate such as a glass substrate.

従来、ガラス基板の搬送装置として、例えば、特許文献１に開示されている浮上搬送装置がある。
この浮上搬送装置は、ステージ表面上に多数のエアー吹き出し孔を備える複数の浮上エアーステージと、各浮上エアーステージの両端に配置された吸着搬送部とを備えている。浮上エアーステージによりガラス基板を浮上させた状態で、吸着搬送部により吸着保持して搬送方向に移動させることでガラス基板が、順次、次の浮上エアーステージに送られ搬送されていくようになっている。 Conventionally, as a glass substrate transfer device, for example, there is a floating transfer device disclosed in Patent Document 1.
This levitation conveyance device includes a plurality of levitation air stages having a large number of air blowing holes on the stage surface, and suction conveyance units disposed at both ends of each levitation air stage. With the glass substrate levitated by the levitation air stage, the glass substrate is sequentially sent to the next levitation air stage and conveyed by being sucked and held by the adsorption conveyance unit and moved in the conveyance direction. Yes.

この場合において、各浮上エアーステージの高さのばらつきや、振動を抑えるための除振台による上下動によって、隣接する浮上エアーステージの表面に高低差が生ずるのを防止するために、隣接する２つの浮上エアーステージの間に相互に嵌合する凹部と凸部とからなるジョイント機構を備えている。ガラス基板が、浮上エアーステージを越えて搬送される際にジョイント機構が連結されることにより、浮上エアーステージ間の高低差を低減し、ガラス基板をスムーズに搬送することができる。   In this case, in order to prevent a height difference between adjacent floating air stages due to variations in the height of the floating air stages and vertical movement by a vibration isolation table for suppressing vibration, two adjacent air stages are prevented. A joint mechanism including a concave portion and a convex portion that are fitted to each other is provided between two floating air stages. By connecting the joint mechanism when the glass substrate is transported over the floating air stage, the difference in height between the floating air stages can be reduced and the glass substrate can be transported smoothly.

特開２００４−３３１３１９号公報JP 2004-331319 A

しかしながら、特許文献１に開示されている浮上搬送装置では、ガラス基板が１つの浮上エアーステージ上に配置されているとき、各浮上エアーステージに備えられた除振台を機能させるために、ジョイント機構による連結を解除する必要がある。したがって、特許文献１の浮上搬送装置では、浮上エアーステージを越えてガラス基板を搬送する都度に、ジョイント機構の連結および解除を繰り返さなければならないという不都合がある。   However, in the levitation conveyance apparatus disclosed in Patent Document 1, when the glass substrate is disposed on one levitation air stage, a joint mechanism is used to function the vibration isolation table provided in each levitation air stage. It is necessary to release the connection. Therefore, the levitation transport apparatus of Patent Document 1 has a disadvantage that the connection and release of the joint mechanism must be repeated each time the glass substrate is transported beyond the levitation air stage.

本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、搬送の都度にジョイント機構の着脱を行うことを必要とせず、基板をスムーズに搬送することができる基板搬送システムを提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and it is an object of the present invention to provide a substrate transport system that can smoothly transport a substrate without requiring the joint mechanism to be attached and detached each time transport is performed. It is said.

上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明は、隣接して配置された２以上の搬送ステージを備え、基板を水平状態に維持しつつ搬送する基板搬送システムであって、前記搬送ステージの少なくとも１つに、該搬送ステージの高さを調節する除振台が備えられるとともに、該除振台により搬送ステージを下降させた位置で該搬送ステージの下面を突き当てる突当部材が設けられ、該突当部材は、該突当部材に下面を突き当てた状態の搬送ステージによる基板の搬送高さが、隣接する他の搬送ステージによる基板の搬送高さと略一致する位置に配置され、前記搬送ステージの間に、前記基板の下面に接触して支持するローラが備えられている基板搬送システムを提供する。
In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.
The present invention is a substrate transport system that includes two or more transport stages arranged adjacent to each other and transports a substrate while maintaining a horizontal state, and at least one of the transport stages has a height of the transport stage. with adjustment to anti-vibration table is provided with, the anti-vibration table is the lower surface of the abut stop members of said transport stage at a position lowering the transfer stage is provided by, protruding those members, protruding to those members The substrate transport height by the transport stage in the state where the lower surface is abutted is arranged at a position where it substantially matches the substrate transport height by another adjacent transport stage, and contacts the lower surface of the substrate between the transport stages. A substrate transfer system provided with a supporting roller is provided .

上記発明においては、前記搬送ステージの端部に設けられた前記ローラと前記搬送ステージに隣接する他の搬送ステージの端部に設けられた前記ローラがそれぞれ向かいあった状態に設けられていることとしてもよい。In the above invention, the roller provided at the end of the transfer stage and the roller provided at the end of another transfer stage adjacent to the transfer stage are provided facing each other. Also good.

また、上記発明においては、前記搬送ステージの端部に設けられた前記ローラと前記搬送ステージに隣接する他の搬送ステージの端部に設けられた前記ローラがそれぞれ交互に固定した状態に設けられていることとしてもよい。In the above invention, the roller provided at the end of the transfer stage and the roller provided at the end of another transfer stage adjacent to the transfer stage are alternately fixed. It is good to be.

また、上記発明においては、前記除振台が、空気圧により搬送ステージの高さを調節することとしてもよい。In the invention described above, the vibration isolation table may adjust the height of the transfer stage by air pressure.

搬送の都度にジョイント機構の着脱を行うことを必要とせず、基板をスムーズに搬送することができるという効果を奏する。   There is an effect that the substrate can be smoothly transported without requiring the joint mechanism to be attached and detached each time transport is performed.

本発明の第１の実施形態に係る基板搬送システム１について、図１〜図３を参照して以下に説明する。
本実施形態に係る基板搬送システム１は、図１に示されるように、基板Ａの搬送方向Ｂに沿って隣接配置された２つの搬送装置２Ａ，２Ｂと、これら搬送装置２Ａ，２Ｂの駆動を制御する制御装置３とを備えている。 A substrate transfer system 1 according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, the substrate transport system 1 according to the present embodiment drives two transport devices 2A and 2B adjacently disposed along the transport direction B of the substrate A, and the transport devices 2A and 2B. And a control device 3 for controlling.

各搬送装置２Ａ，２Ｂには、可撓性のあるシート状の基板Ａ、例えば、ウェハやＦＰＤガラス基板を浮上させて搬送する浮上ステージ（搬送ステージ）４Ａ，４Ｂと、該浮上ステージ４Ａ，４Ｂにより浮上させられた状態の基板Ａを把持して搬送方向に移動させる送り機構５Ａ，５Ｂとがそれぞれ設けられている。   In each of the transfer devices 2A and 2B, a flexible sheet-like substrate A, for example, a floating stage (transfer stage) 4A and 4B that lifts and transfers a wafer or an FPD glass substrate, and the floating stages 4A and 4B. Feeding mechanisms 5A and 5B for gripping and moving the substrate A in a transported direction by the substrate A that has been floated by the above are provided.

一方の搬送装置２Ａは、例えば、基板検査装置６に備えられている。基板検査装置６は、図示しない検査ユニットを備え、該検査ユニットにより、送られてきた基板Ａを検査するようになっている。この基板検査装置６に備えられた搬送装置２Ａは、検査時における外部からの振動を抑制するために、空気圧により基板の高さ位置を調節する空気バネ式の除振装置（レベル調節機構）７と、該除振装置７により浮上ステージ４Ａが下降させられたときに、該浮上ステージ４Ａの下面を突き当ててこれを支持する突当部材８とを備えている。浮上ステージ４Ａの下面が突当部材８に突き当たる位置まで下降させられた状態で、２つの搬送装置２Ａ，２Ｂの浮上ステージ４Ａ，４Ｂは同一高さに設定されるようになっている。搬送装置２Ａ，２Ｂは突当部材８を複数備えていてもよい。   One transfer device 2 </ b> A is provided in the substrate inspection device 6, for example. The substrate inspection apparatus 6 includes an inspection unit (not shown), and the substrate A sent thereto is inspected by the inspection unit. The substrate inspection apparatus 6 includes a transfer device 2A that is an air spring type vibration isolation device (level adjustment mechanism) 7 that adjusts the height position of the substrate by air pressure in order to suppress external vibrations during inspection. And an abutting member 8 that abuts and supports the lower surface of the levitation stage 4A when the levitation stage 4A is lowered by the vibration isolation device 7. The floating stages 4A and 4B of the two transfer apparatuses 2A and 2B are set at the same height in a state where the lower surface of the floating stage 4A is lowered to a position where it hits the abutting member 8. The transport apparatuses 2A and 2B may include a plurality of abutting members 8.

各浮上ステージ４Ａ，４Ｂは、図２に示されるように、基板Ａを載置する載置面に設けられた複数の空気孔９から空気を吐出させることにより、基板Ａを平坦な状態に維持しつつ浮上させることができるようになっている。
送り機構５Ａ，５Ｂは、例えば、搬送方向に沿って設けられたレール１０Ａ，１０Ｂ上を移動可能なスライダ１１Ａ，１１Ｂと、該スライダ１１Ａ，１１Ｂに搭載され、前記基板Ａの端部を把持あるいは解放することにより着脱する着脱機構１２Ａ，１２Ｂとを備えている。ここでは、着脱機構１２Ａ，１２Ｂは、例えば、基板Ａを吸着して把持するようになっている。 As shown in FIG. 2, each of the floating stages 4 </ b> A and 4 </ b> B maintains the substrate A in a flat state by discharging air from a plurality of air holes 9 provided on the mounting surface on which the substrate A is mounted. However, it can be lifted up.
The feed mechanisms 5A and 5B are mounted on the sliders 11A and 11B, which are movable on the rails 10A and 10B provided along the transport direction, and the sliders 11A and 11B, for example, and grip the end of the substrate A or Detachable mechanisms 12A and 12B that are detachable by being released are provided. Here, the attaching / detaching mechanisms 12A and 12B are configured to suck and grip the substrate A, for example.

浮上ステージ４Ａ，４Ｂ上に浮上状態に維持された基板Ａの端部を着脱機構１２Ａ，１２Ｂによって把持し、スライダ１１Ａ，１１Ｂをレール１０Ａ，１０Ｂ上に搬送方向Ｂに沿って移動させることで、基板Ａを平坦な状態に維持したまま搬送方向Ｂに搬送することができるようになっている。   By holding the end of the substrate A maintained in the floating state on the floating stages 4A and 4B by the attachment / detachment mechanisms 12A and 12B, and moving the sliders 11A and 11B along the transport direction B on the rails 10A and 10B, The substrate A can be transported in the transport direction B while maintaining a flat state.

前記除振装置７は、浮上ステージ４Ａを支持する複数の空気バネ１３と、該空気バネ１３に供給する空気圧を発生するコンプレッサ１４と、該コンプレッサ１４により発生された圧縮空気を蓄積するタンク１５と、該タンク１５とコンプレッサ１４との間に配置されたレギュレータ１６と、前記タンク１５と空気バネ１３との間に配置される三方弁１７とを備えている。三方弁の第１ポート１７ａは空気バネ１３に接続され、第２ポート１７ｂがタンク１５に接続され、第３ポート１７ｃが開放されている。   The vibration isolator 7 includes a plurality of air springs 13 that support the levitation stage 4A, a compressor 14 that generates air pressure to be supplied to the air springs 13, and a tank 15 that accumulates compressed air generated by the compressor 14. , A regulator 16 disposed between the tank 15 and the compressor 14, and a three-way valve 17 disposed between the tank 15 and the air spring 13. The first port 17a of the three-way valve is connected to the air spring 13, the second port 17b is connected to the tank 15, and the third port 17c is opened.

前記制御装置３は、前記搬送装置２Ａ，２Ｂの送り機構５Ａ，５Ｂを制御して、浮上ステージ４Ａ，４Ｂにより水平状態に浮上させられた状態の基板Ａを搬送方向Ｂに移動させるようになっている。また、制御装置３は、前記送り機構５Ａにより、浮上ステージ４Ａ上の基板Ａが隣接する浮上ステージ４Ｂまで搬送される際には、前記除振装置７の三方弁１７を制御して、空気バネ１３内の圧縮空気を放出させ、浮上ステージ４Ａをその下面が突当部材８に突き当たる位置まで下降させるようになっている。   The control device 3 controls the feed mechanisms 5A and 5B of the transfer devices 2A and 2B to move the substrate A in a state of being floated horizontally by the flying stages 4A and 4B in the transfer direction B. ing. Further, when the substrate A on the floating stage 4A is transported to the adjacent floating stage 4B by the feed mechanism 5A, the control device 3 controls the three-way valve 17 of the vibration isolator 7 to control the air spring. Compressed air in 13 is released, and the levitation stage 4A is lowered to a position where the lower surface abuts against the abutting member 8.

このように構成された本実施形態に係る基板搬送システム１の作用について以下に説明する。
本実施形態に係る基板搬送システム１により、ウェハやＦＰＤ用ガラス基板のような可撓性のあるシート状の基板Ａを搬送する場合において、基板Ａが各搬送装置２Ａ，２Ｂ内において搬送されるときには、各浮上ステージ４Ａ，４Ｂにおける空気孔９から吐出させた空気により基板Ａを水平状態に維持しつつ浮上させる。そして、浮上した基板Ａの端部を送り機構５Ａ，５Ｂの着脱機構１２Ａ，１２Ｂによって吸着し、送り機構５Ａ，５Ｂのスライダを１１Ａ，１１Ｂレール１０Ａ，１０Ｂに沿って移動させることにより、基板Ａを搬送方向Ｂに移動させることができる。 The operation of the substrate transport system 1 according to the present embodiment configured as described above will be described below.
When a flexible sheet-like substrate A such as a wafer or an FPD glass substrate is transported by the substrate transport system 1 according to the present embodiment, the substrate A is transported in the transport devices 2A and 2B. Sometimes, the substrate A is levitated while maintaining the horizontal state by the air discharged from the air holes 9 in the levitating stages 4A and 4B. And the edge part of the board | substrate A which floated is adsorb | sucked by attachment / detachment mechanism 12A, 12B of sending mechanism 5A, 5B, and the board | substrate A is moved by moving the slider of sending mechanism 5A, 5B along 11A, 11B rail 10A, 10B. Can be moved in the transport direction B.

基板Ａが基板検査装置６に備えられた搬送装置２Ａに搭載されているときには、図１に示されるように、制御装置３の作動により、除振装置７が作動させられた状態で基板Ａの検査が行われる。すなわち、制御装置３は、除振装置７の三方弁１７に対し、第１のポート１７ａと第２のポート１７ｂとを連通させ、第３のポート１７ｃを閉止するように指令を出力する。   When the substrate A is mounted on the transfer device 2A provided in the substrate inspection device 6, as shown in FIG. 1, the vibration isolator 7 is activated by the operation of the control device 3, and the substrate A Inspection is performed. That is, the control device 3 outputs a command to the three-way valve 17 of the vibration isolation device 7 such that the first port 17a and the second port 17b are communicated and the third port 17c is closed.

これにより、コンプレッサ１４からの圧縮空気がレギュレータ１６で除振に最適な圧力に調整された後、タンク１５および三方弁１７を介して空気バネ１３に導入され、空気バネ１３を加圧して、浮上ステージ４Ａを上昇させる。これにより、外部から伝達される振動が空気バネ１３の作動により、浮上ステージ４Ａ上の基板Ａに伝達されないように遮断される。
したがって、基板検査装置６における検査時に基板Ａが振動しないように除振されるので、振動による検査精度の低下を防止して、高い精度で精密な検査を行うことができる。 As a result, the compressed air from the compressor 14 is adjusted to an optimum pressure for vibration isolation by the regulator 16, and then introduced into the air spring 13 through the tank 15 and the three-way valve 17, and the air spring 13 is pressurized and floated. Raise stage 4A. Thereby, the vibration transmitted from the outside is blocked by the operation of the air spring 13 so as not to be transmitted to the substrate A on the floating stage 4A.
Accordingly, the substrate A is vibration-isolated so that it does not vibrate during the inspection in the substrate inspection apparatus 6, so that it is possible to prevent a decrease in inspection accuracy due to vibration and perform a precise inspection with high accuracy.

次いで、基板検査装置６における検査が終了し、基板Ａが次工程の搬送装置２Ｂに向けて搬送される場合には、制御装置３は、除振装置７の三方弁１７に対し、第２のポート１７ｂと第３のポート１７ｃとを連通させ、第１のポート１７ａを閉止するように指令を出力する。
これにより、空気バネ１３内の圧縮空気が三方弁１７を介して第３のポート１７ｃから外部に排気され、空気バネ１３が減圧されて、浮上ステージ４Ａが下降し、その下面が突当部材８に突き当たって停止する。 Next, when the inspection in the substrate inspection device 6 is finished and the substrate A is transported toward the transport device 2B in the next process, the control device 3 performs the second operation on the three-way valve 17 of the vibration isolation device 7. A command is output so that the port 17b and the third port 17c are communicated and the first port 17a is closed.
Thereby, the compressed air in the air spring 13 is exhausted to the outside from the third port 17c through the three-way valve 17, the air spring 13 is depressurized, the levitation stage 4A is lowered, and the lower surface thereof is the abutting member 8 Stop by hitting.

制御装置３は、図３に示されるように、搬送装置２Ａの送り機構５Ａを作動させて、搬送装置２Ａ．２Ｂ間で基板Ａを受け渡して、次工程の搬送装置２Ｂに移送する。このとき、浮上ステージ４Ａの上面は、隣接する搬送装置２Ｂの浮上ステージ４Ｂの上面と同一高さに設定されるので、基板Ａは搬送装置２Ａ，２Ｂ間の隙間を越えてスムーズに次工程に搬送されていくことになる。   As shown in FIG. 3, the control device 3 operates the feeding mechanism 5 </ b> A of the transport device 2 </ b> A so that the transport device 2 </ b> A. The substrate A is delivered between 2B and transferred to the transfer device 2B in the next process. At this time, since the upper surface of the levitation stage 4A is set to the same height as the upper surface of the levitation stage 4B of the adjacent transfer device 2B, the substrate A can be smoothly passed to the next process across the gap between the transfer devices 2A and 2B. It will be transported.

このように、本実施形態に係る基板搬送システム１によれば、基盤検査装置６における検査時には、空気バネ１３により除振しながら基板Ａの検査を精度よく行うことができ、搬送装置２Ａ，２Ｂ間で基板Ａを受け渡すときには、空気バネ１３から圧縮空気を排気するだけで、浮上ステージ４Ａ，４Ｂの高さを一致させてスムーズな受け渡しを行うことができる。   As described above, according to the substrate transfer system 1 according to the present embodiment, the substrate A can be inspected with high accuracy while being vibration-isolated by the air spring 13 during the inspection in the substrate inspection apparatus 6, and the transfer apparatuses 2A and 2B. When the substrate A is transferred between the two, the height of the levitation stages 4A and 4B can be made to coincide with each other by simply exhausting the compressed air from the air spring 13.

なお、本実施形態においては、２つの搬送装置２Ａ，２Ｂ間における受け渡しについて説明したが、これに限定されるものではなく、３以上の搬送装置２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ間の受け渡しにおいても同様に実施することができる。この場合に、１つの搬送装置２Ａに除振装置７が設けられている場合に限定されるものではなく、２以上の搬送装置２Ａ〜２Ｄに除振装置７が設けられている場合においても同様にして、浮上ステージ４Ａ，４Ｂを下降させて基板Ａの受け渡しを行うことができる。   In this embodiment, the delivery between the two transport apparatuses 2A and 2B has been described. However, the present invention is not limited to this, and the same applies to the delivery between three or more transport apparatuses 2A, 2B, 2C, and 2D. Can be implemented. In this case, the present invention is not limited to the case where the vibration isolator 7 is provided in one transport device 2A, and the same applies to the case where the vibration isolator 7 is provided in two or more transport devices 2A to 2D. Thus, the floating stage 4A, 4B can be lowered to transfer the substrate A.

また、図４に示されるように、搬送装置２Ａ，２Ｂの隙間に浮上ステージ４Ａ，４Ｂに固定されたローラ２０を設けることにしてもよい。ローラ２０の周面は、各浮上ステージ４Ａ，４Ｂにより浮上された状態の基板Ａの下側面に接触する高さ位置に配置されており、一の浮上ステージ４Ａから他の浮上ステージ４Ｂに基板Ａが受け渡される際に、基板Ａをローラ２０によって支持することにより、受け渡しをさらにスムーズにすることができる。
また、この場合には、搬送装置２Ａ，２Ｂ間に隙間を大きく形成することができ、搬送装置２Ａ，２Ｂの設置における自由度を向上することができる。 Further, as shown in FIG. 4, a roller 20 fixed to the floating stages 4A and 4B may be provided in the gap between the conveying devices 2A and 2B. The peripheral surface of the roller 20 is disposed at a height position in contact with the lower side surface of the substrate A in a state of being levitated by each of the levitating stages 4A and 4B. When the substrate is delivered, the delivery can be further smoothed by supporting the substrate A by the roller 20.
In this case, a large gap can be formed between the transfer apparatuses 2A and 2B, and the degree of freedom in installing the transfer apparatuses 2A and 2B can be improved.

また、図５に示されるように、ローラ２０を搬送装置２Ａ，２Ｂの隙間の中央位置に、浮上ステージ４Ａ，４Ｂにそれぞれ交互に固定した状態に設けることにしてもよい。このようにすることで、ローラ２０の数を減らして、同様の効果を達成することができる。   Further, as shown in FIG. 5, the rollers 20 may be provided in a state of being alternately fixed to the floating stages 4 </ b> A and 4 </ b> B at the center position of the gap between the conveying devices 2 </ b> A and 2 </ b> B. By doing in this way, the number of rollers 20 can be reduced and the same effect can be achieved.

また、本実施形態においては、搬送装置２Ａ，２Ｂに設けられ、基板Ａを搬送する装置として、空気孔９から吐出される空気により基板Ａを浮上させた状態に支持する浮上ステージ４Ａ，４Ｂを有するものを例示したが、これに限定されるものではなく、基板Ａの下面をローラにより支持する方式のステージを採用してもよい。   Further, in the present embodiment, the levitation stages 4A and 4B that are provided in the transport apparatuses 2A and 2B and support the substrate A in a state of being levitated by the air discharged from the air holes 9 as the apparatus that transports the substrate A. Although what has it was illustrated, it is not limited to this, You may employ | adopt the stage of the system which supports the lower surface of the board | substrate A with a roller.

また、本実施形態においては、空気バネ式の除振装置７を有する場合について説明したが、これに代えて、浮上ステージ４Ａの上下動を伴う任意の形式の除振装置７を有する搬送装置２Ａを備える場合に適用することにしてもよい。   Further, in the present embodiment, the case of having the air spring type vibration isolator 7 has been described, but instead of this, the transport apparatus 2A having an arbitrary type of vibration isolator 7 with the vertical movement of the floating stage 4A. You may decide to apply when providing.

本発明の一実施形態に係る基板搬送システムを示す模式的な全体構成図である。It is a typical whole block diagram which shows the board | substrate conveyance system which concerns on one Embodiment of this invention. 図１の基板搬送システムの浮上ステージと送り機構を説明する斜視図である。FIG. 2 is a perspective view illustrating a floating stage and a feeding mechanism of the substrate transfer system in FIG. 1. 図１の基板搬送システムにおいて、浮上ステージに跨る基板の搬送時の状態を示す全体構成図である。FIG. 2 is an overall configuration diagram illustrating a state when a substrate is transported across a floating stage in the substrate transport system of FIG. 1. 図１の基板搬送システムの変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the modification of the board | substrate conveyance system of FIG. 図１の基板搬送システムの他の変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the other modification of the board | substrate conveyance system of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

Ａ 基板
１ 基板搬送システム
３ 制御装置
４Ａ，４Ｂ 浮上ステージ（搬送ステージ）
６ 基板検査装置
７ 除振装置（レベル調節機構）
８ 突当部材
２０ ローラ A Substrate 1 Substrate transfer system 3 Controller 4A, 4B Floating stage (transfer stage)
6 Substrate inspection device 7 Vibration isolation device (level adjustment mechanism)
8 Abutting member 20 Roller

Claims (4)

隣接して配置された２以上の搬送ステージを備え、基板を水平状態に維持しつつ搬送する基板搬送システムであって、
前記搬送ステージの少なくとも１つに、該搬送ステージの高さを調節する除振台が備えられるとともに、
該除振台により搬送ステージを下降させた位置で該搬送ステージの下面を突き当てる突当部材が設けられ、
該突当部材は、該突当部材に下面を突き当てた状態の搬送ステージによる基板の搬送高さが、隣接する他の搬送ステージによる基板の搬送高さと略一致する位置に配置され、
前記搬送ステージの間に、前記基板の下面に接触して支持するローラが備えられている基板搬送システム。
A substrate transport system comprising two or more transport stages arranged adjacent to each other and transporting the substrate while maintaining a horizontal state,
At least one of the transfer stages is provided with a vibration isolation table that adjusts the height of the transfer stage,
Lower surface of the abut stop members of said transport stage at a position lowering the transfer stage is provided by the anti-vibration table,
The abutting member is disposed at a position where the substrate conveyance height by the conveyance stage in a state where the lower surface is abutted against the abutting member substantially coincides with the substrate conveyance height by another adjacent conveyance stage,
A substrate transfer system provided with a roller that contacts and supports the lower surface of the substrate between the transfer stages .
前記搬送ステージの端部に設けられた前記ローラと前記搬送ステージに隣接する他の搬送ステージの端部に設けられた前記ローラがそれぞれ向かいあった状態に設けられている請求項1に記載の基板搬送システム。2. The substrate according to claim 1, wherein the roller provided at an end portion of the transfer stage and the roller provided at an end portion of another transfer stage adjacent to the transfer stage face each other. Conveying system.
前記搬送ステージの端部に設けられた前記ローラと前記搬送ステージに隣接する他の搬送ステージの端部に設けられた前記ローラがそれぞれ交互に固定した状態に設けられている請求項1又は請求項2に記載の基板搬送システム。2. The roller provided at an end portion of the transfer stage and the roller provided at an end portion of another transfer stage adjacent to the transfer stage are provided in an alternately fixed state. 2. The substrate transfer system according to 2. 前記除振台が、空気圧により搬送ステージの高さを調節する請求項１に記載の基板搬送システム。The substrate transfer system according to claim 1, wherein the vibration isolation table adjusts the height of the transfer stage by air pressure.
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