JP4835219B2 - 反射防止フィルムの製造装置 - Google Patents
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Description
法に関する。
いられている。これらの透明基板を通して物体や文字、図形等の視覚情報を観察する場合
、あるいは、透明基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これらの透明基板の表
面が外光で反射して内部の視覚情報が見えにくいという問題があった。
透明基板の反射を防止するために、反射防止フィルムを透明基板の上に設けることが行
われている。
に溶解させて基材フィルムに塗布して硬化させ、その後に、反射防止層用組成物をハード
コートの上にディッピング法等で塗布し、塗布物を活性エネルギー線照射処理等する方法
がある(特許文献1)。
また、従来、セルロースエステルフィルムに反射防止層を形成する金属化合物を塗布し
、プラズマ処理により薄膜を形成する方法がある(特許文献2)。
を形成する構成であるが、これらの工程は別々に行われているので、作業性が良くない。
そこで、基材フィルムをシート状にし、このシートを送りながら、その表面にハードコー
ト組成物を塗布し、この上に反射防止層用組成物を塗布することで一連の作業とすること
が考えられるが、ハードコート組成物を塗布した後にハードコート組成物を硬化させなけ
ればならず、ハードコートの上に反射防止層用組成物を塗布した後に反射防止層用組成物
を硬化させなけれならないので、これらの組成物を硬化させる時間が必要となり、その結
果、ライン自体が長いものとなって装置全体が大掛かりとなる。さらに、ハードコート組
成物を焼成しなければならないが、基材フィルムに直接ハードコート組成物を塗布し、焼
成すると、基材フィルムに熱ストレスが生じて品質を劣化させることにもなりかねない。
特許文献2では、反射防止層をシートに形成するには、大掛かりなプラズマ処理装置が
必要とされる。
方法を提供することである。
ートを形成するハードコート形成機構と、このハードコート形成機構の前記基材シートの
送り方向側に配置され前記ハードコートの上に反射防止層を形成する反射防止層形成機構
とを備え、前記ハードコート形成機構は、前記基材シートに対向配置される第1回転体と
、この第1回転体の周面に前記ハードコートを形成するためのハードコート形成用樹脂を
供給する第1供給部と、この第1供給部で供給されたハードコート形成用樹脂を焼成する
第1焼成部と、この第1焼成部で焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却する第1冷却
部とを有し、この第1冷却部で冷却されたハードコート形成用樹脂が前記基材シートの表
面に転写してハードコートを形成し、前記反射防止層形成機構は、前記基材シートに対向
配置される第2回転体と、この第2回転体の周面に前記反射防止層を形成するための有機
系の反射防止層形成用樹脂を供給する第2供給部と、この第2供給部で供給された反射防
止層形成用樹脂を焼成する第2焼成部と、この第2焼成部で焼成された反射防止層形成用
樹脂を冷却する第2冷却部とを有し、この第2冷却部で冷却された反射防止層形成用樹脂
が前記ハードコートの表面に転写して反射防止層を形成することを特徴とする。
ートを形成するハードコート形成工程と、このハードコート形成工程で形成された前記ハ
ードコートの上に反射防止層を形成する反射防止層形成工程とを備え、前記ハードコート
形成工程は、前記基材シートに対向配置されるとともに回転している第1回転体の周面に
前記ハードコートを形成するためのハードコート形成用樹脂を供給し、このハードコート
形成用樹脂を焼成し、この焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却し、この冷却された
ハードコート形成用樹脂を前記基材シートの表面に転写する工程を備え、前記反射防止層
形成工程は、前記基材シートに対向配置されるとともに回転している第2回転体の周面に
前記反射防止層を形成するための有機系の反射防止層形成用樹脂を供給し、この反射防止
層形成用樹脂を焼成し、この焼成された反射防止層形成用樹脂を冷却し、この冷却された
反射防止層形成用樹脂を前記ハードコートの表面に転写して反射防止層を形成する工程を
備えることを特徴とする。
し、反射防止層形成機構によって反射防止層形成工程を実行する。
まず、ハードコート形成工程では、回転している第1回転体の周面に第1供給部からハ
ードコート形成用樹脂が供給されると、このハードコート形成用樹脂が供給された第1回
転体の周面が第1焼成部に近接し、この第1焼成部によってハードコート形成用樹脂が焼
成され、続いて、焼成によって高温となったハードコート形成用樹脂が第1冷却部に近接
することで、所定温度まで冷却される。所定温度にまで冷却されたハードコート形成用樹
脂は基材シートの表面に転写されるとともに第1回転体の周面から剥離され、基材シート
の上にハードコートが形成されることになる。
次に、反射防止層形成工程では、回転している第2回転体の周面に第2供給部から反射
防止層形成用樹脂が供給されると、この反射防止層形成用樹脂が供給された第2回転体の
周面が第2焼成部に近接し、この第2焼成部によって反射防止層形成用樹脂が焼成され、
続いて、焼成によって高温となった反射防止層形成用樹脂が第2冷却部に近接することで
、所定温度まで冷却される。所定温度にまで冷却された反射防止層形成用樹脂はハードコ
ートの表面に転写されるとともに第2回転体の周面から剥離され、ハードコートの上に反
射防止層が形成されることになる。これにより、基材シートの上にハードコート及び反射
防止層が形成された反射防止フィルムが連続して形成されることになり、必要に応じて、
このフィルムを所定形状に切断することで、最終製品が完成することになる。
形成用樹脂が第1冷却部によって所定温度まで冷却された後に基材シートに転写されるか
ら、高い温度のハードコート形成用樹脂が直接基材シートに触れることがない。その上、
反射防止層形成工程においては、第2焼成部によって十分に加熱された反射防止層形成用
樹脂が第2冷却部によって所定温度まで冷却された後にハードコートに転写されるから、
反射防止層形成用樹脂の高い温度がハードコートを介して基材シートに伝わることがない
。そのため、各焼成部で焼成された樹脂が高温であることに起因して基材シートが過熱す
ることがなくなり、基材シート自体に熱ストレスが発生することがなく、歪み等の不具合
が反射防止フィルムに生じることがない。
従って、本発明では、一方向に送られる基材シートの流れ方向に沿ってハードコート形
成機構と反射防止層形成機構とが配置されるものであり、これらの形成機構を構成する回
転体を利用してハードコート形成や反射防止層形成を行うので、基材シートの流れを中断
することなく、基材シートの上にハードコートと反射防止層とが設けられた反射防止フィ
ルムを連続形成することができる。しかも、各形成機構に必要とされるのは回転体と焼成
部と冷却部とであり、これらの構成はプラズマ処理装置という従来例に比べて簡易な構造
である。
は前記基材シートの表面をプラズマ処理する第1プラズマ照射機構が配置され、前記第1
回転体と前記第2回転体との間には前記ハードコートの表面をプラズマ処理する第2プラ
ズマ照射機構が配置されている構成が好ましい。
反射防止フィルムの製造方法にかかる本発明では、前記ハードコート形成工程の前には
前記基材シートの表面にプラズマ処理する第1プラズマ処理工程が設けられ、前記ハード
コート形成工程と前記反射防止層形成工程との間には前記ハードコートの表面にプラズマ
処理する第2プラズマ処理工程が設けられている構成が好ましい。
この構成の発明では、基材シートの表面に第1プラズマ照射機構を用いてプラズマ処理
するため、ハードコート形成用樹脂と基材シートとの付着力が強くなり、基材シートの表
面にハードコートを形成しやすくなる。同様に、ハードコートの表面に第2プラズマ照射
機構を用いてプラズマ処理するため、ハードコートと反射防止層形成用樹脂との付着力が
強くなり、ハードコートの表面に反射防止層を形成しやすくなる。
ト形成用樹脂が周面に供給される第1環状体を備え、前記第2回転体は、前記反射防止層
形成用樹脂が周面に供給される第2環状体を備えている構成が好ましい。
この構成の発明では、第1回転体及び第2回転体を、それぞれ環状体としているので、
これらの回転体の内部空間を有効に利用することができる。そのため、反射防止フィルム
の製造装置に不可欠な部品を回転体の内部空間に収納することで、製造装置自体の省スペ
ース化を図ることができる。
第2環状体の内部に前記第2焼成部と前記第2冷却部とがそれぞれ配置されている構成が
好ましい。
この構成の発明では、焼成部と冷却部とを環状体の内部スペースに収納することで、製
造装置の省スペース化を図ることができる他、環状体の内部から環状体の周面に供給され
るハードコート形成用樹脂や反射防止層形成用樹脂を焼成・冷却することができるので、
焼成工程や冷却工程を効率的に行うことができる。
この構成の発明では、環状体自体並びに環状体を回転させる機構の構造を簡易なものに
できる。
側に押圧する第1押圧ローラが設けられ、前記第2回転体の前記基材シートを挟んだ反対
側には前記基材シートを前記第2回転体側に押圧する第2押圧ローラが設けられている構
成が好ましい。
この構成の発明では、基材シートが第1回転体と第1押圧ローラとで挟持される構成と
されるから、ハードコートを基材シートに十分に付着させることができる。しかも、ハー
ドコートを表面に形成した基材シートが第2回転体と第2押圧ローラとで挟持される構成
とされるから、ハードコートの上に反射防止層を十分に付着させることができる。
好ましい。
この構成の発明では、回転体の周面に供給されるハードコート形成用樹脂や反射防止層
形成用樹脂の塗布量を精密に制御することができるから、ハードコートや反射防止層の膜
厚を十分に管理することができる。従って、第1供給部と第2供給部の両方がインクジェ
ット方式とすることがより好ましい。
くとも下記「A成分」及び「B成分」を含有するコ−ティング組成物を含む構成が好まし
い。ここで、「A成分」はルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する金属酸化物
微粒子であり、「B成分」は一般式、R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物〔式中、
R1は重合可能な反応基を有する炭素数が2以上の有機基、X1は加水分解性基を表す。〕
である。
前記反射防止層成型用樹脂は、少なくとも下記「C成分」「D成分」及び「E成分」を
含有するコ−ティング組成物を含んでおり、前記ハードコートの屈折率よりも0.10以
上低い屈折率を有することが好ましい。ここで、「C成分」は一般式、XmR2 3−mS
i−Y−SiR2 3−mXmで表される有機ケイ素化合物〔R2は炭素数1〜6の一価炭化
水素基。Yはフッ素原子を1個以上含有する二価有機基。Xは加水分解性基。mは1〜3
の整数である。〕であり、「D成分」は分子中に1個以上のエポキシ基を含有するエポキ
シ基含有有機化合物であり、「E成分」は平均粒径1〜150nmのシリカ系微粒子であ
る。
本発明の第1実施形態が図1及び図2に示されている。図1は第1実施形態にかかる反
射防止フィルムの製造装置の概略を示す正面図であり、図2は反射フィルムの製造装置の
概略を示す平面図である。
図1及び図2において、反射防止フィルムの製造装置は、一方向に送られる基材シート
1の上にハードコート2を形成するハードコート形成機構10と、このハードコート形成
機構10の基材シート送り方向の下流側であってハードコート形成機構10に並んで配置
されハードコート2の上に反射防止層3を形成する反射防止層形成機構20とを備えた構
成である。
手方向(図1中右側)に移送される構成である。
本実施形態における基材シート1は、透明性のあるシートであればよく、その材質は、
例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロ
ース、ポリエーテルサルホン、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル
、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテル
ケトン、(メタ)アクリロニトリル等を例示できるが、これらの中では一軸又は二軸延伸
ポリエステル、特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)が透明性及び耐熱性に優れ
、光学的に異方性が無い点で好適に用いられる。
第1回転体11の周面にハードコート形成用樹脂を供給する第1供給部12と、この第1
供給部12で供給されたハードコート形成用樹脂を焼成する第1焼成部13と、この第1
焼成部13で焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却する第1冷却部14とを有し、第
1冷却部14で冷却されたハードコート形成用樹脂が基材シート1の表面に転写してハー
ドコート2が形成される。
第1回転体11は、ハードコート形成用樹脂が周面に供給される第1環状体111と、
この第1環状体111を回転駆動する回転駆動機構112とから構成される。
されている。第1環状体111の周面は鏡面仕上げ等が施されている。
第1環状体111の周面と基材シート1の上面との寸法はハードコート2の厚さ寸法相
当である。
回転駆動機構112は、第1環状体111の内周に配置され第1環状体111を回転自
在に支持する複数本のガイドロール1111と、第1環状体111の一端部周面に形成さ
れたギア部111Aと噛合される歯車機構1112と、この歯車機構1112と連結され
るモータ1113とを備えており、モータ1113の回転に伴って歯車機構1112を介
して第1環状体111が図1中反時計方向に回転される。
ガイドロール1111は、その両端が第1環状体111の端面から突出して形成されて
おり、これらの突出した部分が図示しないフレームに回動自在に支持されている。
歯車機構1112は複数の歯車から構成されている。
が内部に収納されたノズル121と、このノズル121の吐出操作を制御する図示しない
駆動部とを備えている。この駆動部はインクジェット式であり、例えば、発熱素子や圧電
素子を用いてハードコート形成用樹脂をノズル121から吐出させる。ノズル121は第
1環状体111の軸方向に沿うように略長尺状に形成されている。
第1焼成部13は第1環状体111の上部から水平部にかけた略直角の範囲を加熱する
もので、第1環状体111の内部上方側に配置されている。この第1焼成部13は、ニク
ロム線ヒータ、面状ヒータ、その他の加熱装置から構成されている。
第1焼成部13は、ハードコート形成用樹脂の焼成温度が50〜250℃、好ましくは
、80〜150℃となるように温度設定される。
第1冷却部14は第1環状体111の水平部から下部にかけた略直角の範囲を冷却する
もので、第1環状体111の内部であって第1焼成部13の下方に配置されている。第1
冷却部14は、そのケーシングの内部に冷水等の冷媒が流通される構成や冷却空気を第1
環状体111の内部に吹き付ける構成を採用することができる。
第1冷却部14は、ハードコート形成用樹脂が50〜20℃まで低下するように冷却温
度が設定される。
成分」を含有するコ−ティング組成物を含むものである。
「A成分」;ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子
「B成分」;一般式、R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物〔式中、R1は重合可能な
反応基を有する炭素数が2以上の有機基、X1は加水分解性基を表す。〕
「A成分」としては、例えば、酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及
び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物を含む平均粒径1〜200
nmの無機酸化物微粒子を挙げることができ、「B成分」は、一般式:R1SiX1 3で表
される有機ケイ素化合物(式中、R1は重合可能な反応基を有する炭素数が2以上の有機
基、X1は加水分解性基を表す)が挙げられる。
ハードコート2は、干渉縞を抑制する目的で、高屈折率の基材シートと同程度の、高い
屈折率が要求される。ハードコート2の高屈折率化への対応は、高屈折率を有する無機酸
化物微粒子を用いる方法が一般的であり、具体的には、Al、Sn、Sb、Ta、CE、
La、FE、Zn、W、Zr、In、Tiから選ばれる1種又は2種以上の金属の酸化物
(これらの混合物を含む)、及び/又は2種以上の金属を含む複合酸化物からなる無色透
明の無機酸化物微粒子が用いられる。このうち、屈折率、透明性、分散安定性等の点から
酸化チタンを含有する無機酸化物微粒子が一般的に用いられる。
ることが好ましい。ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子
を使用することで、酸化チタンの光活性に起因する種々の不具合点を改善することができ
る。それは、酸化チタンを含有する金属酸化物の結晶構造をアナターゼ型に代えてルチル
型にすることによって耐候性や耐光性がより向上し、かつ屈折率はアナターゼ型の結晶よ
りもルチル型の結晶の方が高いので、比較的屈折率の高い無機酸化物微粒子が得られる。
エネルギーを受けると活性を帯び、強い酸化分解力により、有機物を分解するという特性
を有するのと異なり、このような光活性が低い。これは、光(紫外線)を照射すると酸化
チタンの価電子帯の電子が励起されて、OHフリーラジカルとHO2フリーラジカルがで
き、この強力な酸化力により有機物を分解するが、アナターゼ型酸化チタンよりルチル型
酸化チタンの方が熱エネルギー的に安定であるため、フリーラジカルの生成量が極めて少
ないためである。よって、ルチル型の結晶構造の酸化チタンを配合したハードコートが耐
候性や耐光性に優れているため、有機薄膜で構成される反射防止層がハードコートによっ
て変質されるおそれが無く、耐候性や耐光性に優れたプラスチックレンズが得られる。
との複合酸化物、さらに酸化ケイ素を加えた複合酸化物とすることが好ましい。酸化スズ
との複合酸化物を加えた場合、無機酸化物微粒子中に含まれる酸化チタン及び酸化スズの
量は、酸化チタンをTiO2に換算し、酸化スズをSnO2に換算したとき、TiO2/S
nO2の重量比が1/3〜20/1、好ましくは1.5/1〜13/1の範囲にあること
が望ましい。
SnO2の量を上記重量比の範囲よりも少なくしていくと、結晶構造がルチル型からア
ナターゼ型にシフトしていき、ルチル型の結晶とアナターゼ型の結晶を含む混晶になる、
あるいはアナターゼ型の結晶となる。また、SnO2の量を上記重量比の範囲よりも多く
していくと、酸化チタンのルチル型結晶と酸化スズのルチル型結晶の中間にあるルチル型
の結晶構造となり、いわゆる酸化チタンのルチル型結晶とは異なる結晶構造を示すように
なり、しかも得られる無機酸化物微粒子の屈折率も低下する。
無機酸化物微粒子中に含まれる酸化チタン、酸化スズ、及び酸化ケイ素の量は、酸化チタ
ンをTiO2に換算し、酸化スズをSnO2に換算し、酸化ケイ素をSiO2に換算したと
き、TiO2/SnO2の重量比が1/3〜20/1、好ましくは1.5/1〜13/1の
範囲にあり、かつ(TiO2+SnO2)/SiO2の重量比が55/45〜99/1、好
ましくは70/30〜98/2の範囲にあることが望ましい。
SnO2の含有量については、酸化スズとの複合酸化物を加えた場合と同様であるが、
これに酸化ケイ素を含ませることにより、得られる無機酸化物微粒子の安定性と分散性を
向上させることができる。ここで、SiO2の量を上記重量比の範囲よりも少なくしてい
くと、安定性と分散性が低下する。また、SiO2の量を上記重量比の範囲よりも多くし
ていくと、この安定性と分散性はより向上するが、得られる無機酸化物微粒子の屈折率が
低下するので好ましくない。しかし、このルチル型酸化チタンにおいてもフリーラジカル
は生成される。これについては、酸化チタンを含有する無機酸化物微粒子として、酸化チ
タンを含有する2種以上の複合酸化物を含む無機酸化物微粒子を使用した場合も同様であ
る。
21と、この第2回転体21の周面に反射防止層形成用樹脂を供給する第2供給部22と
、この第2供給部22で供給された反射防止層形成用樹脂を焼成する第2焼成部23と、
この第2焼成部23で焼成された反射汚防止層形成用樹脂を冷却する第2冷却部24とを
有し、第2冷却部24で冷却された反射防止層形成用樹脂がハードコート2の表面に転写
して反射防止層3が形成される。
第2回転体21は、反射防止層形成用樹脂が周面に供給される第2環状体211と、こ
の第2環状体211を回転駆動する回転駆動機構112とから構成される。
上げ等が施されている。
第2環状体211の周面とハードコート2の上面との寸法は反射防止層3の厚さ寸法相
当である。
内部に収納されたノズル221と、このノズル221の吐出操作を制御する図示しない駆
動部とを備えている。この駆動部はインクジェット方式を採用している。ノズル221は
第2環状体211の軸方向に沿うように略長尺状に形成されている。
第2焼成部23は第2環状体211の上部から水平部にかけた略直角の範囲を加熱する
もので、第2環状体211の内部上方側に配置されている。この第2焼成部23は第1焼
成部13と同様の構造である。
第2冷却部24は第2環状体211の水平部から下部にかけた略直角の範囲を冷却する
もので、第2環状体111の内部であって第2焼成部13の下方に配置されている。第2
冷却部24は第1冷却部14と同様構造である。
及び「E成分」を含有するコ−ティング組成物を含んでおり、前記ハードコートの屈折率
よりも0.10以上低い屈折率を有する。
「C成分」;一般式、XmR2 3−mSi−Y−SiR2 3−mXmで表される有機ケイ素
化合物〔R2は炭素数1〜6の一価炭化水素基。Yはフッ素原子を1個以上含有する二価
有機基。Xは加水分解性基。mは1〜3の整数である。〕
「D成分」;分子中に1個以上のエポキシ基を含有するエポキシ基含有有機化合物
「E成分」;平均粒径1〜150nmのシリカ系微粒子
前記「D成分」が一般式R3nR4pSiZ4−〔n+p〕〔R3,R4は炭素数1〜16
の有機基であり、少なくとも一方はエポキシ基を含む。Zは加水分解性基。n,pは0〜
2の整数であって1≦n+p≦3である。〕で表される化合物と、下記一般式(1)で示
される化合物とから選ばれる少なくとも一種の化合物を含有することを特徴とする。
して60〜99重量%の範囲、好ましくは60〜90重量%の範囲で含有されるものであ
り、このため「C成分」の有機ケイ素化合物による被膜の耐薬品性の向上をなすことがで
きる。
また、「D成分」である分子中に1個以上のエポキシ基を含有するエポキシ基含有有機
化合物としては、適宜のものを用いることができる。組成物中において樹脂成分全量に対
して5〜20重量%の範囲で含有させることが好ましく、この範囲よりも少ないと被膜の
耐クラック性及びハードコートとの密着性を十分に向上することができず、またこの範囲
より多いと、また被膜の耐摩耗性が低下するおそれがある。
このエポキシ基含有有機化合物としては、好ましくは一般式R3nR4pSiZ4−〔n
+p〕〔R3,R4は炭素数1〜16の有機基であり、少なくとも一方はエポキシ基を含む
。Zは加水分解性基。n,pは0〜2の整数であって1≦n+p≦3である。〕で表され
る化合物と、下記一般式(1)で示される化合物とから選ばれるものを用いるものであり
、このような化合物から一種又は複数種を用いることができる。この場合、被膜の耐薬品
性及び耐摩耗性を低下させることなく、耐クラック性を更に向上することができる。これ
らの化合物の合計の含有量は、樹脂成分全量に対して1〜20重量%の範囲であることが
好ましく、この含有量が過小であると耐クラック性の向上を十分になすことができないお
それがあり、またこの含有量が過剰であると耐薬品性及び耐摩耗性を低下させるおそれが
ある。
性、得られる塗膜の硬度および低反射性、組成物の寿命等の目的に応じて適宜選択される
が、例えば、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシ
シラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエト
キシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプ
ロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルフェニルジエトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリエト
キシシラン等が挙げられる。
また、上記一般式(1)で示される化合物では、式中のR5〜R16はメチル基等の適宜
の炭化水素基などの有機基を挙げることができる。また、このR5〜R16のうち少なくと
も一つはエポキシ基を含むものであり、例えば下記構造を有するものを挙げることができ
る。
挙げることができる。
および一般式(1)に示すもののほか、適宜のエポキシ化合物を用いることもできる。こ
のようなエポキシ化合物としては、例えば下記に示すものを挙げることができる。
を、例えば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒からなる分散媒、にコロイド状に
分散させたシリカゾルを挙げることができる。また、低屈折率化のために、例えば内部に
空洞ないし空隙が形成されているシリカ系微粒子からなるシリカゾルを用いることが好ま
しい。シリカ系微粒子の内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含さ
れることによって、空洞のないシリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、反射防止層
の低屈折率化が達成される。
ている方法等で製造することができるが、本発明では、平均粒径が20〜150nmの範
囲にあり、かつ屈折率が1.16〜1.39の範囲にあるものを使用することが望ましい
。粒子の平均粒径が20nm未満になると、粒子内部の空隙率が小さくなって、所望の低
屈折率が得られなくなる。また、平均粒径が150nmを超えると、有機薄膜のヘーズが
増加するので好ましくない。このように内部空洞を有するシリカ系微粒子としては、平均
粒径20〜150nm、屈折率1.16〜1.39の中空シリカ微粒子を含む分散ゾル(
触媒化成工業(株)製、スルーリア、及びレキューム)等が挙げられる。
他の微粒子を併用することも可能である。それらの微粒子の添加総量としてはその他の樹
脂成分との重量割合は、特に限定されるものではないが、微粒子/その他の成分(固形分
)=80/20〜10/90の範囲になるように設定するのが好ましく、より好ましくは
50/50〜15/85である。微粒子が80より多いと、コーティング材組成物によっ
て得られる硬化被膜の機械的強度が低下するおそれがあり、逆に中空微粒子が10より少
ないと、硬化被膜の低屈折率を発現させる効果が小さくなるおそれがある。
化合物としては、テトラエトキシシラン等のシリケート類、メチルトリメトキシシラン、
ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等のアルキルシラン類、フェニ
ルトリメトキシシラン等のフェニルシラン類、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤類等の各種化合物
を挙げることができる。
これらの有機ケイ素化合物は、樹脂成分全量に対して20重量%以下とすることが好ま
しい。この含有量が過剰であると被膜の耐クラック性が低下したり親水性が高くなり耐薬
品性が低下したりするおそれがある。
個以上含有する一価有機基。Xは加水分解性基。〕で示されるフッ化アルキル基含有アル
コキシシランを含有させることもできる。このようなものを含有させると、形成される被
膜の屈折率を更に低減させることができる。
一般式RF−SiX3において、RFにおけるフッ素原子の数は3〜25個、特に3〜
17個であることが好ましい。中でも、下記のような構造単位は、極性部分を含んでいな
いため特に好ましい。
CF3C2H4−
CF3(CF2)3C2H4−
CF3(CF2)7C2H4−
る。
このような一般式RF−SiX3に示すフッ化アルキル基含有アルコキシシランとして
は、例えば下記に示すものが挙げられる。
CF3C2H4−Si(OCH3)3
CF3(CF2)3C2H4−Si(OCH3)3
CF3(CF2)7C2H4−Si(OCH3)3
この一般式RF−SiX3で示されるフッ化アルキル基含有アルコキシシランとその加
水分解物(部分加水分解物)の含有量は適宜調整されるが、添加量が多くなると被膜の耐
擦傷性が低下することから、組成物中の樹脂成分全量に対して1〜30重量%の範囲とす
ることが好ましく、特に10重量%以下が好ましい。
また、他の有機ケイ素化合物としては、下記一般式に示すジアルキルシロキシ系の加水分
解性オルガノシランを挙げることができる。
示す構造のものを挙げることができる。
硬化触媒、光重合開始剤、酸発生剤、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止
剤、ヒンダートアミン・ヒンダートフェノール等の光安定剤、分散染料・油溶染料・蛍光
染料・顔料等を添加し、コーティング液の塗布性の向上や、硬化後の被膜性能を改良する
ことができる。
1プラズマ照射機構15が配置され、第1回転体11と第2回転体21との間にはハード
コート2の表面をプラズマ処理する第2プラズマ照射機構25が配置されている。
これらのプラズマ照射機構15,25は、それぞれ大気圧プラズマ処理装置から構成さ
れている。また、本実施形態では、プラズマ照射機構に代えて低圧水銀ランプやエキシマ
ランプ等の紫外線照射機構を用いてもよい。
第1回転体11の基材シート1を挟んだ反対側には基材シート1を第1回転体11側に
押圧する第1押圧ローラ16が設けられている。
この第1押圧ローラ16は、図示しないフレームに固定された支持軸161と、この支
持軸161に回動自在に設けられたロール本体162とを備えている。
ロール本体162はゴム、金属等の適宜な材料によって略円筒状に形成されている。
第2回転体211の基材シート1を挟んだ反対側には基材シート1を第2回転体211
側に押圧する第2押圧ローラ26が設けられている。
この第2押圧ローラ26は、図示しないフレームに固定された支持軸261と、この支
持軸261に回動自在に設けられたロール本体262とを備えている。ロール本体262
はロール本体162と同じ材質かつ同様の形状から形成されている。
[第1プラズマ処理工程]
一方向に送られる基材シート1の表面に第1プラズマ照射機構15でプラズマ処理する
。これにより、基材シート1の表面の密着性が良好となる。
[ハードコート形成工程]
基材シート1と対応して第1環状体111が回転しており、この第1環状体111の周
面にハードコート形成用樹脂が第1供給部12から供給される。第1環状体111の周面
にハードコート形成用樹脂が所定厚さで付着することになり、この樹脂は、その粘性によ
って第1環状体111が回転しても第1環状体111から流れ落ちたり剥がれたりするこ
とがない。
第1環状体111の周面に付着されたハードコート形成用樹脂は、第1焼成部13に近
接すると、この第1焼成部13から発せられる熱が第1環状体111を通じて伝達される
ことで焼成される。その後、第1環状体111が回転し続けると、ハードコート形成用樹
脂が第1冷却部14に近接することになり、この第1冷却部14から発せられる冷気が第
1環状体111を通じて伝達されることで樹脂自体が冷却される。
冷却されたハードコート形成用樹脂は基材シート1の表面に転写される。この際、第1
押圧ローラ16で基材シート1の裏面側が押圧されているため、ハードコート形成用樹脂
が基材シート1の表面に確実に転写されることになる。
ハードコート形成用樹脂が基材シート1の転写されてハードコート2が形成され、この
ハードコート2の表面に第2プラズマ照射機構25でプラズマ処理する。これにより、ハ
ードコート2の表面の密着性が良好となる。
[反射防止層形成工程]
基材シート1と対応して第2環状体211が回転しており、この第2環状体211の周
面に反射防止層形成用樹脂が第2供給部22から供給される。第2環状体211の周面に
反射防止層形成用樹脂が所定厚さで付着することになり、この樹脂は、その粘性によって
第2環状体211が回転しても第2環状体211から流れ落ちたり剥がれたりすることが
ない。
第2環状体211の周面に付着されたハードコート形成用樹脂は、第2焼成部23に近
接すると、この第2焼成部23から発せられる熱が第2環状体211を通じて伝達される
ことで焼成される。その後、第2環状体211が回転し続けると、反射防止層形成用樹脂
が第2冷却部24に近接することになり、この第2冷却部24から発せられる冷気が第2
環状体211を通じて伝達されることで樹脂自体が冷却される。
冷却された反射防止層形成用樹脂はハードコート2の表面に転写される。この際、第2
押圧ローラ26で基材シート1の裏面側が押圧されているため、反射防止層形成用樹脂が
ハードコート2の表面に確実に転写されることになる。
[切断工程]
ハードコート2及び反射防止層3が形成された基材シート1を最終製品の形状に合わせ
てカッターで切断し、反射防止フィルムを得る。
(1)ハードコート形成工程を実行するハードコート形成機構10と、反射防止層形成工
程を実行する反射防止層形成機構20とを備えて反射防止フィルムの製造装置を構成した
。そして、ハードコート形成機構10を、一方向に送られる基材シート1に対向配置され
る第1回転体11と、この第1回転体11の周面にハードコート形成用樹脂を供給する第
1供給部12と、この第1供給部12で供給されたハードコート形成用樹脂を焼成する第
1焼成部13と、この第1焼成部13で焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却する第
1冷却部14とを有し、この第1冷却部で冷却されたハードコート形成用樹脂が基材シー
ト1の表面に転写してハードコート2を形成するように構成した。同様に、反射防止層形
成機構20を、基材シート1に対向配置される第2回転体21と、この第2回転体21の
周面に反射防止層形成用樹脂を供給する第2供給部22と、この第2供給部22で供給さ
れた反射防止層形成用樹脂を焼成する第2焼成部23と、この第2焼成部23で焼成され
た反射防止層形成用樹脂を冷却する第2冷却部24とを有し、この第2冷却部24で冷却
された反射防止層形成用樹脂がハードコート2の表面に転写して反射防止層3を形成する
構成とした。
従って、焼成されたハードコート組成物は一旦冷却されてから基材シート1の上に積層
され、同様に、焼成された反射防止層組成物は一旦冷却されてからハードコート2の上に
積層されるので、基材シート1に熱ストレスが生じることがなくなり、製品の品質が低下
することがない。その上、ハードコート組成物の焼成、冷却を回転している第1回転体1
1で行い、かつ、反射防止層組成物の焼成、冷却を回転している第2回転体21で行って
いるので、製造ラインを長くする必要がなく、かつ、従来のようなプラズマ処理装置とい
う大掛かりな装置も不要とされる。
射機構15が配置されているから、ハードコート形成用樹脂と基材シート1との付着力が
強くなり、基材シート1の表面にハードコート2が形成しやすくなる。
(3)第1回転体11と第2回転体21との間にハードコート2の表面をプラズマ処理す
る第2プラズマ照射機構25が配置されているから、ハードコート2と反射汚防止層形成
用樹脂との付着力が強くなり、ハードコート2の表面に反射防止層3を形成しやすくなる
。
11から形成しているので、これらの回転体11,21の内部空間を有効に利用すること
で、製造装置自体の省スペース化を図ることができる。
(5)第1環状体111の内部に第1焼成部13と第1冷却部14とをそれぞれ収納し、
第2環状体211の内部に第2焼成部23と第2冷却部24とをそれぞれ収納しているか
ら、これらの環状体111,211の内部からハードコート形成用樹脂や反射防止層形成
用樹脂を焼成・冷却することができるので、焼成工程や冷却工程を効率的に行うことがで
きる。
らの環状体111,211自体の製造が容易であり、これらの環状体111,211を回
転駆動させる回転駆動機構112も簡単な構造を採用することができる。
(7)第1環状体111の基材シート1を挟んだ反対側には基材シート1を第1環状体1
11側に押圧する第1押圧ローラ16が設けられているから、基材シート1が第1環状体
111と第1押圧ローラ16とで挟持される構成となり、ハードコート2を基材シート1
に十分に付着させることができる。
(8)第2環状体211の基材シート1を挟んだ反対側には基材シート1を第2環状体2
11側に押圧する第2押圧ローラ26が設けられているから、ハードコート2を表面に形
成した基材シート1が第2環状体211と第2押圧ローラ26とで挟持される構成となり
、ハードコート2の上に反射防止層3を十分に付着させることができる。
状体111,211の周面に供給されるハードコート形成用樹脂や反射防止層形成用樹脂
の塗布量を精密に制御してハードコート2や反射防止層3の膜厚を正確に管理することが
できる。特に、インクジェット方式は微小量の吐出制御に優れているから、ハードコート
2や反射防止層3の膜厚を薄くする場合には好適である。
第2実施形態は第1実施形態とは環状体111,211の駆動機構の構成が異なるもの
で、他の構成は第1実施形態と同じである。ここで、第2実施形態の説明において第1実
施形態と同一構成要素は同一符号を付して説明を省略する。
図3は本発明の第2実施形態にかかる反射防止フィルムの製造装置の概略を示す断面図
であり、図4は反射フィルムの製造装置の概略を示す平面図である。
図3及び図4において、第1環状体111及び第2環状体211はそれぞれ回転駆動機
構212に連結されている。
の端板2121と、この端板2121の中心を貫通固定するとともに図示しないフレーム
に回転自在に設けられた回転軸2122と、この回転軸2122の一端部に連結された歯
車機構1112と、この歯車機構1112と連結されるモータ1113とを備えており、
モータ1113の回転に伴って歯車機構1112を介して第1環状体111が図3中反時
計方向に回転される。
第2実施形態における反射防止フィルムの製造方法は第1実施形態の製造方法と同じで
ある。
従って、第2実施形態では、第1実施形態と同様に(1)〜(9)の作用効果を奏する
ことができる。
第2実施形態は第1実施形態とは回転体の構成が異なるもので、他の構成は第1実施形
態と同じである。ここで、第3実施形態の説明において第1実施形態と同一構成要素は同
一符号を付して説明を省略する。
図5は本発明の第3実施形態にかかる反射防止フィルムの製造装置の概略を示す正面図
であり、図6は反射フィルムの製造装置の概略を示す平面図である。
図5及び図6において、第3実施形態の第1回転体31は、ハードコート形成用樹脂が
周面に供給される第1帯体311と、この第1帯体311を回転駆動する回転駆動機構3
12とから構成される。
面は鏡面仕上げ等が施されている。
回転駆動機構312は、第1帯体311の内周の両側に互いに対向配置され駆動軸31
3及び従動軸314と、駆動軸313を回転駆動するベルト機構315とを備えて構成さ
れている。駆動軸313と従動軸314とは、その周面が第1帯体311の内周面に噛合
されている。
、従動軸314は駆動軸313に比べて直径が大きく形成されている。従動軸314と駆
動軸313とに噛合されている第1帯体311は、第1供給部12と対向する部分が略水
平とされ、基材シート1と対向する部分が基材シート1の長手方向に従って基材シート1
から離隔するようにされている。
第1帯体311の内部には第1焼成部13と第1冷却部14とがそれぞれ収納されてお
り、第1焼成部13が第1供給部12の直下に位置し、第1冷却部14が第1焼成部13
の基材シート1の流れ方向上流側に位置している。
第2帯体321を回転駆動する回転駆動機構312とから構成される。
第2帯体321は、第1帯体311と同様の材質から形成されており、その内部には第
2焼成部23と第2冷却部24とがそれぞれ収納されている。第2焼成部23が第2供給
部23の直下に位置し、第2冷却部24が第2焼成部23の基材シート1の流れ方向上流
側に位置している。
第3実施形態における反射防止フィルムの製造方法は第1実施形態の製造方法と同じで
ある。
用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
(10)第1回転体31は、ハードコート形成用樹脂が周面に供給される第1帯体311
と、この第1帯体311を回転駆動する回転駆動機構312とから構成されるから、第1
帯体311の上面部の水平方向長さ寸法を長く設定することで、ハードコート形成用樹脂
を安定した姿勢で第1帯体311の上に載せることができるとともに、焼成及び冷却の時
間を十分にとることができる。しかも、第1帯体311を水平方向に沿って扁平にした形
状とることで、第1回転体31の高さを低いものにできるから、装置のメンテナンス作業
が容易である。
(11)第2回転体32は第1回転体31と同様の構成を採用したから、反射防止用形成
樹脂を安定した姿勢で第2帯体321の上に載せることができるとともに、焼成及び冷却
の時間を十分にとることができる。
範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、第1供給部12及び第2供給部22は、それぞれインクジ
ェット方式を採用したが、本発明では、第1供給部12と第2供給部22とのいずれか一
方をインクジェット方式としてもよく、あるいは、インクジェット方式に代えてロータリ
ーポンプでノズル131,231の内部を加圧するタイプを用いてもよい。
さらに、前記実施形態では、反射防止層3を単層として形成したが、本発明では、低屈
折率と高屈折率との多層構造としてもよい。この場合、第2回転体21,32を複数個用
意し、これらの第2回転体21,32から異なる反射防止層を交互に形成する。
ィルムに利用することができる。
11…第1回転体、12…第1供給部、13…第1焼成部、14…第1冷却部、15…第
1プラズマ照射機構、16…第1押圧ローラ、20…反射防止層形成機構、21…第2回
転体、22…第2供給部、23…第2焼成部、24…第2冷却部、25…第2プラズマ照
射機構、26…第2押圧ローラ、31… 第1回転体、32…第2回転体、111…第1
環状体、112…回転駆動機構、211…第2環状体、212…回転駆動機構、312…
回転駆動機構
Claims (5)
- 第1環状体を備え、基材シートに対向配置される第1回転体と、
前記第1環状体の周面に前記ハードコートを形成するためのハードコート形成用樹脂を供給する第1供給部と、
前記第1環状体の内部に配置され、前記第1供給部から供給されたハードコート形成用樹脂を焼成する第1焼成部と、
前記第1環状体の内部に配置され、前記第1焼成部によって焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却する第1冷却部と、
を含み、
前記第1冷却部によって冷却されたハードコート形成用樹脂を前記基材シートの表面に転写して、一方向に送られる前記基材シートの上にハードコートを形成するハードコート形成機構と、
第2環状体を備え、前記基材シートに対向配置される第2回転体と、
前記第2環状体の周面に前記反射防止層を形成するための有機系の反射防止層形成用樹脂を供給する第2供給部と、
前記第2環状体の内部に配置され、前記第2供給部から供給された反射防止層形成用樹脂を焼成する第2焼成部と、
前記第2環状体の内部に配置され、前記第2焼成部によって焼成された反射防止層形成用樹脂を冷却する第2冷却部と、
を含み、
前記第2冷却部によって冷却された反射防止層形成用樹脂を前記ハードコートの表面に転写して反射防止層を形成する反射防止層形成機構と、
を含む、
反射防止フィルムの製造装置。 - 請求項1に記載された反射防止フィルムの製造装置において、
前記基材シートが送られる方向における前記第1回転体の上流側に配置され、前記基材シートの表面をプラズマ処理する第1プラズマ照射機構と、
前記第1回転体と前記第2回転体との間に配置され、前記ハードコートの表面をプラズマ処理する第2プラズマ照射機構と、
を含む、
反射防止フィルムの製造装置。 - 請求項3に記載された反射防止フィルムの製造装置において、
前記第1環状体と前記第2環状体とは、それぞれドラム形状である、
反射防止フィルムの製造装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載された反射防止フィルムの製造装置において、
前記第1回転体の前記基材シートを挟んだ反対側に設けられ、前記基材シートを前記第1回転体側に押圧する第1押圧ローラと、
前記第2回転体の前記基材シートを挟んだ反対側に設けられ、前記基材シートを前記第2回転体側に押圧する第2押圧ローラと、
を含む、
反射防止フィルムの製造装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載された反射防止フィルムの製造装置において、
前記第1供給部と前記第2供給部の少なくとも一方はインクジェット式である、
反射防止フィルムの製造装置。
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JP2003206363A (ja) * | 2002-01-10 | 2003-07-22 | Toray Ind Inc | ハードコート性を有するプラスチック成形体、およびそれからなる眼鏡用レンズ |
JP2003270403A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Seiko Epson Corp | 光学部品の製造方法 |
JP2003268142A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-09-25 | Toray Ind Inc | プラスチック成形体、およびそれからなる眼鏡用レンズ |
JP2005084106A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-31 | Seiko Epson Corp | 防曇性光学物品及びその製造方法 |
JP2005301208A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-10-27 | Seiko Epson Corp | 防汚性光学物品の製造方法 |
US7222654B2 (en) * | 2004-04-30 | 2007-05-29 | The Procter & Gamble Company | Apparatus for producing elastomeric nonwoven laminates |
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