JP4830427B2 - 膜の製造方法 - Google Patents
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Description
以上のような電圧降下(輝度ムラ)を抑えるために、表示領域全体を略等電位にするべく、陰極と電気的に接続するとともに、画素に重ならない領域(画素境界領域)に、例えば、アルミからなる補助配線を形成し、表示領域全体に必要な電流が流れるようにしている。
本発明の膜の製造方法は、基板上に、画素電極と、前記画素電極と対向する位置に形成された共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に設けられた発光層と、が重なる部分に画素部が形成されており、前記画素部と前記画素部との間の境界領域に、前記画素が正規の状態で発光するのに必要な電流を流すべく、前記共通電極に接した直線的な細長状の膜を形成する膜の製造方法であって、前記膜における長手方向に分割された第1膜の形状に相当する開口孔が形成されたマスクを用いて、前記基板上に前記第1膜を形成する第1膜形成工程と、前記膜における前記長手方向に分割された第2膜の形状に相当する開口孔が形成されたマスクを用いて、前記基板上に前記第2膜を形成する第2膜形成工程と、を有し、前記膜は、金属膜からなる補助配線であり、前記第1膜形成工程では、金属マスクである第1マスクを磁力により前記基板に吸着固定して前記第1膜を形成し、前記第2膜形成工程では、前記第1マスクと異なる金属マスクである第2マスクを磁力により前記基板に吸着固定して前記第2膜を形成することを特徴とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る膜の製造方法は、基板上に直線的な細長状の膜を形成すべく、前記膜における第1膜の形状に相当する開口孔が形成されたマスクを用いて、前記基板上に前記第1膜を形成する第1膜形成工程と、前記膜における第2膜の形状に相当する開口孔が形成された前記マスクを用いて、前記基板上に前記第2膜を形成する第2膜形成工程と、を有する。
図1は、電気光学装置の一つである有機EL(Electro Luminescence:エレクトロルミネッセンス)装置の構造を示す模式平面図である。以下、第2基板及びカラーフィルタ(共に、図2参照)を除く有機EL装置の構造を、図1を参照しながら説明する。
有機EL装置11は、第1基板12と、画素電極(陽極)13と、発光層(有機層)14と、共通電極(陰極)15と、膜である補助配線16とを有する。
また、上記したように、補助配線16は、共通電極15と電気的に接続することにより電気抵抗を低下させているので、共通電極15に発生する電圧降下を緩和させることが可能となる。これにより、表示領域21の表示ムラ(輝度ムラ)を抑えることができる。
なお、第1基板12と駆動用TFT形成層32と発光層形成層41とを合わせて、基板52とする。
また、真空蒸着装置51には、基板52と蒸着マスク55との位置を合わせるために、例えば、真空チャンバ53の上方に、図示しないCCDカメラが備えられている。
一方、蒸着マスク55の厚みが薄い場合、開口孔61に対して真っ直ぐ入り込まない材料粒子50aがあったとしても、蒸着マスク55の厚み分の影(壁)になる量が少なく、これにより、開口孔61の形状に近い形状に蒸着させることができる。
なお、蒸着マスク55は、蒸着マスク55の周囲からテンションをかけて引っ張るようにしながら吸着固定させるようにしてもよい。
なお、基板52には、1回目に蒸着するときに位置合わせを行うアライメントマークと、2回目に蒸着するときに位置合わせを行うアライメントマークとが、2つづつ形成されている。蒸着マスク55には、共通に使用できる丸孔が形成されている。
(1)本実施形態によれば、第2膜形成工程(工程13)によって、第1膜形成工程(工程11)によって形成した点線状の第1補助配線16aと繋げて、点線状の第2補助配線16bを形成し補助配線16を完成させるので、蒸着マスク55の開口孔の長さを、補助配線16を分割した領域分に短くすることができる。よって、蒸着マスク55の開口孔61間の梁が撓む量を少なくすることができ、蒸着マスク55を正規の状態に固定することが可能となる。その結果、画素部22間に正規の形状の補助配線16を形成することができ、各画素部22に必要な電流を流す(表示領域21全体を等電位にする)ことが可能となる。その結果、補助配線16が正規の状態に形成されない(ぼやけたり、細くなったりする)ことによる、表示領域21における輝度ムラを抑えることができる。
加えて、補助配線16が高導電性の材料であるアルミから形成されているので、共通電極15の低抵抗化を実現することができる。
図7は、蒸着マスクの構成を模式的に示す平面図である。図7(a)は、第1蒸着マスクを示す模式平面図である。図7(b)は、第2蒸着マスクを示す模式平面図である。以下、第1蒸着マスク及び第2蒸着マスクを、図7を参照しながら説明する。
なお、2回に分割して補助配線16を形成するのに、第1実施形態のように1枚の蒸着マスク55を用いることに対して、第2実施形態は2枚の蒸着マスク72,73を用いて補助配線16を形成している部分が、第1実施形態と異なっている。
第1蒸着マスク72と第2蒸着マスク73とを用いることにより、蒸着マスクをX方向に移送する移送機構が、真空蒸着装置51に設けられていなかったとしても、補助配線16を分割して蒸着させることが可能となる。
(4)本実施形態によれば、第1補助配線16aと第2補助配線16bとを形成するのに、それぞれ別々の第1蒸着マスク72と第2蒸着マスク73とを用いるので、1つの蒸着マスクを移動させる動作をなくすことができる。よって、真空蒸着装置51に移送機構が設けられていない場合であっても、基板52上に、第1補助配線16aと第2補助配線16bとを形成して補助配線16を完成させることができる。
(変形例1)上記したように、補助配線16を発光層14と共通電極15との間に形成していることに代えて(図2参照)、共通電極15上(共通電極15と封止層34との間)に形成するようにしてもよい。この場合、少なくとも補助配線16と画素電極13とが電気的に分離されており、補助配線16と共通電極15とが電気的に接続されている状態であればよい。
Claims (2)
- 基板上に形成された画素部と画素部との間に直線的な細長状の膜を形成すべく、前記膜における長手方向に分割された第1膜の形状に相当する開口孔が形成されたマスクを用いて、前記基板上に前記第1膜を形成する第1膜形成工程と、
前記膜における前記長手方向に分割された第2膜の形状に相当する開口孔が形成されたマスクを用いて、前記基板上に前記第2膜を形成する第2膜形成工程と、
を有し、
前記第1膜形成工程では、金属マスクである第1マスクを磁力により前記基板に吸着固定して前記第1膜を形成し、
前記第2膜形成工程では、前記第1マスクと異なる金属マスクである第2マスクを磁力により前記基板に吸着固定して前記第2膜を形成することを特徴とする膜の製造方法。 - 基板上に、画素電極と、前記画素電極と対向する位置に形成された共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に設けられた発光層と、が重なる部分に画素部が形成されており、前記画素部と前記画素部との間の境界領域に、前記画素が正規の状態で発光するのに必要な電流を流すべく、前記共通電極に接した直線的な細長状の膜を形成する膜の製造方法であって、
前記膜における長手方向に分割された第1膜の形状に相当する開口孔が形成されたマスクを用いて、前記基板上に前記第1膜を形成する第1膜形成工程と、
前記膜における前記長手方向に分割された第2膜の形状に相当する開口孔が形成されたマスクを用いて、前記基板上に前記第2膜を形成する第2膜形成工程と、
を有し、
前記膜は、金属膜からなる補助配線であり、
前記第1膜形成工程では、金属マスクである第1マスクを磁力により前記基板に吸着固定して前記第1膜を形成し、
前記第2膜形成工程では、前記第1マスクと異なる金属マスクである第2マスクを磁力により前記基板に吸着固定して前記第2膜を形成することを特徴とする膜の製造方法。
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