JP4795075B2 - 電気めっき装置 - Google Patents
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Description
図1は、この発明の実施の形態1である電気めっき装置の概要構成を示す模式図である。また、図2は、図1に示した電気めっき装置の概要構成を示す斜視図である。さらに、図3は、図1に示した電気めっき装置における被めっき物であるウェハ近傍のめっき液の流れを示す模式図である。図1〜図3において、この電気めっき装置1は、外部にめっき液の循環系をもたず、1つのめっき浴内で1以上のウェハに対して電気めっきを施すものである。
つぎに、この発明の実施の形態2について説明する。この実施の形態2では、実施の形態1の電気めっき装置に対してさらに、ウェハとアノードとの間に誘電体部材を設け、ウェハの形状に合わせて誘電体部材の形状を調整することによってウェハ表面の電場を制御し、均一なめっき膜を形成するようにしている。
つぎに、この発明の実施の形態3について説明する。上述した実施の形態1,2では、アノードが各ウェハ毎に独立して設置されていたが、この実施の形態3では、各ウェハに共通の1つのアノードをもつようにして、アノード電位が等しくなるようにしている。
つぎに、この発明の実施の形態4について説明する。この発明の実施の形態4は、上述した発明の実施の形態1〜3の構成に、さらにめっき液の表面を不活性ガス雰囲気で覆う構成を追加している。
10 めっき容器
11 めっき液
12a〜12c 固定治具
13a〜13c,73,73a〜73f アノード
14a〜14c,74a〜74f ウェハ
15a〜15c 可変電源
16a〜16c 電流計
17 モータ
18 パドル
19 攪拌子
20 攪拌子回転部
21 ヒータ
22 熱電対
42 めっき用治具
43,46 導電性部品
60 誘電体部材
80 蓋
81 ガス源
C コントローラ
Claims (7)
- 1つのめっき浴内でめっき液を循環させ、カソードである複数の被めっき物とアノードである電極との間を通電させて該被めっき物に対して同時に電気めっきを施す電気めっき装置であって、
前記めっき液中に前記複数の被めっき物を水平方向に並べて配置する手段と、
前記複数の被めっき物と前記電極との間でパドルを水平方向に回転走行させて前記各被めっき物の表面近傍のめっき液を攪拌して乱流化する局所攪拌手段と、
前記めっき浴の底部に配設され、前記めっき浴中のめっき液全体を攪拌する全体攪拌手段と、
前記電極に共通接続され、前記各被めっき物毎に電流を供給する複数の可変電源と、
前記各可変電源から供給される電流値を等しい値に制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする電気めっき装置。 - 前記全体攪拌手段は、前記被めっき物近傍の流速に比して前記めっき浴の底部の流速を遅くし、該めっき浴の底部においてめっき浴中の浮遊物を沈殿させる淀み領域を形成することを特徴とする請求項1に記載の電気めっき装置。
- 前記アノードである電極と前記被めっき物である半導体ウェハとを略平行に配置したことを特徴とする請求項1または2に記載の電気めっき装置。
- 前記被めっき物である半導体ウェハを略水平上向きあるいは略水平下向きに設置したことを特徴とする請求項3に記載の電気めっき装置。
- 前記被めっき物である半導体ウェハを同一水平面上に配置したことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の電気めっき装置。
- 前記被めっき物と前記アノードとの間に該被めっき物の形状に応じた誘電体部材を設置することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の電気めっき装置。
- 前記めっき液の表面を不活性ガス雰囲気で覆うことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の電気めっき装置。
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