JP4792719B2 - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Description
そこで、この不都合を解消すべく、例えば特許文献1等に開示されているように、WF6 ガスとH2 ガスとを用いて成膜する前に、WF6 ガスと還元性の高いガス、例えばモノシラン(SiH4 )等のシラン系ガスとを用いてタングステンの結晶核よりなる種付け膜(核付け膜)を予め非常に薄く形成し、次に、WF6 ガスとH2 ガスとを供給して上記種付け層を起点としてCVD(Chemical Vapor Deposition)により膜付けを行うことにより主たるタングステン膜を形成するようにした成膜方法が提案されている。
図10は載置台上に半導体ウエハをクランプリングで保持した部分を示す拡大図である。図10に示すように、被処理体である半導体ウエハWは、図示しない真空引き可能になされた処理容器内の載置台2上に載置されており、この周辺部を円形リング状のクランプリング4で当接して押圧することにより、ウエハWが横滑り等しないように保持している。この状態で、まず図10(A)に示すように、成膜ガスとして例えばWF6 ガスとSiH4 ガスとH2 ガスとを同時に供給することにより、ウエハW上にタングステン結晶核よりなる薄い種付け層6を形成し、次に、図10(B)に示すように、成膜ガスとして例えばWF6 ガスとH2 ガスとを同時に供給して、上記種付け層6を起点として高い成膜レートでタングステン金属膜よりなる主膜8を形成するようになっている。そして、この一連の成膜工程では、上記成膜ガスが載置台2の裏面側に廻り込むことを防止するために、この載置台2の裏面側にはバックサイドとして不活性ガス、例えばここではArガスが供給されている。
しかしながら、図10(B)で示す主膜8をCVDにより堆積させる場合、この時のプロセス圧力が、図10(A)に示す種付け膜6の形成時のプロセス圧力よりも高く設定されている等の理由により、載置台2の裏面側にArガスのバックサイドガスを供給しているにもかかわらず、成膜ガスがクランプリング4の下面とウエハ周辺部の上面との間の隙間10の奥深くまで侵入し、この結果、図10(B)に示すように、主膜8の外周端8Aは、この下層の種付け膜6の外周端6Aを完全に覆ってその更に外側まで延びた状態で成膜されてしまう。そして、この主膜8の成膜時に、種付け膜6の外周端6Aよりも更に外側のウエハ外周表面12は、過剰な量のWF6 ガスのフッ素に晒されてアタックされるのみならず、この部分には種付け膜6が形成されることなくウエハ表面に直接的に主膜8が形成されることになるので、フッ素が下地のバリヤ層へ拡散して下地のTi等と反応し、この部分が凸状に膨れ上がってしまう、という問題があった。
上記のように種付け膜等の第1の薄膜を形成する際は、機械的なクランプ手段を用いないで、溝状吸着手段を用いて被処理体を載置台上に保持し、この状態で第1の薄膜を形成し、主膜等の第2の薄膜を形成する際は、機械的なクランプ手段を用いて被処理体の周辺部を押圧してこれを載置台上に保持し、この状態で第2の薄膜を形成し、これにより、第1の薄膜の形成領域を第2の薄膜の形成領域よりも広くして被処理体の周辺部の隅々まで形成するようにし、被処理体の表面に第2の薄膜が直接的に接触することを防止して被処理体の周辺部の表面がフッ素によりアタックされることを阻止すると共に、この周辺部分にフッ素と金属の反応に伴う膨れ上がりが発生することを防止することができる。
また例えば請求項4に規定するように、前記溝部は、前記載置面であって前記被処理体によって覆われる領域に略均一に形成されている。
また、例えば請求項5に規定するように、前記溝部は同心円状に複数個形成されている。
また、例えば請求項6に規定するように、前記複数の溝部は連通溝部で連通されている。
また例えば請求項7に規定するように、前記溝部は渦巻状に形成されている。
また例えば請求項8に規定するように、前記溝部は、放射状、或いは格子状に形成されている。
また例えば請求項11に規定するように、前記第1及び第2の薄膜はそれぞれ金属タングステンよりなる。
種付け膜等の第1の薄膜を形成する際は、機械的なクランプ手段を用いないで、溝状吸着手段を用いて被処理体を載置台上に保持し、この状態で第1の薄膜を形成し、主膜等の第2の薄膜を形成する際は、機械的なクランプ手段を用いて被処理体の周辺部を押圧してこれを載置台上に保持し、この状態で第2の薄膜を形成し、これにより、第1の薄膜の形成領域を第2の薄膜の形成領域よりも広くして被処理体の周辺部の隅々まで形成するようにし、被処理体の表面に第2の薄膜が直接的に接触することを防止して被処理体の周辺部の表面がフッ素によりアタックされることを阻止すると共に、この周辺部分にフッ素と金属の反応に伴う膨れ上がりが発生することを防止することができる。
図1は本発明に係る成膜装置の一実施例を示す断面図、図2はクランプリングを示す下面図、図3は載置台を示す平面図、図4は載置台に支持される被処理体を示す部分拡大断面図である。
まず、本実施例では、成膜装置20として加熱ランプを用いた高速昇温が可能な枚葉式の成膜装置を例にとって説明する。この成膜装置20は、例えばアルミニウム等により円筒状或いは箱状に成形された処理容器22を有している。この処理容器22の天井部には、成膜用ガス等の処理ガスをこの処理容器22内へ導入するためのガス供給手段としてシャワーヘッド部24がOリング等のシール部材26を介して設けられている。具体的には、このシャワーヘッド部24は、例えばアルミニウム等により円形箱状に成形されたヘッド本体28を有し、このヘッド本体28の下面であるガス噴出面には、ヘッド本体28内へ供給されたガスを放出するための多数のガス噴出孔30が面内に均等に配置されており、この下方の処理空間Sにガスを供給してウエハ表面に亘って均等にガスを放出するようになっている。
また、上記係合段部50には、上記載置台46に形成したピン挿通部48に対応させた位置に、同じく後述するリフトピンを通すための3つの切り欠き(図示せず)が形成されており、このピン挿通部48と切り欠きの位置が一致するようにして上記載置台46が支持される。
そして、上記載置台46の外側方向の斜め下方には、複数本、例えば3本のL字状になされたリフトピン54が上方へ起立させて設けられており、このリフトピン54を上下動させることにより、上記リフトピン54を載置台46に設けた3つの切り欠き状のピン挿通部48及びアタッチメント部材44に設けた切り欠き(図示せず)を通ってウエハWのエッジを支持し、これを持ち上げ、或いは持ち下げ得るようになっている。
また、この弾発部材収容筒64の下部の外側には、例えば石英製のアーム部材66が水平方向外方に向けて取り付け固定されている。そして、各アーム部材66は、円形リング状に成形された例えば酸化アルミニウム等のセラミックよりなる保持板68に連結されており、この保持板68の一側の下面は、上下方向に延びる一本の昇降ロッド70の上端に接合固定されて片持ち支持されている。この昇降ロッド70の下端は、処理容器22内の気密状態を保持するために伸縮可能なベローズ72(図1参照)を介して図示しないアクチュエータに接続されている。
また、処理容器22内の底部であって、上記支持コラム38の内側には、例えばアルミニウムにより円筒体状に成形された反射部材84が設けられている。この反射部材84の直径は、半導体ウエハWの直径よりもやや大きく設定されており、その内側が鏡面仕上げされて、斜め下方よりこの鏡面に当たった照射光を載置台46の裏面側へ反射し得るようになっている。この反射部材84の上端は、上記アタッチメント部材44の直下近傍まで延びている。そして、この反射部材84の上部には、これを例えば矩形状に切り欠くことによって形成された部材収容空間86が、その周方向に沿って所定の間隔で複数個、例えば3つ設けられている。そして、この部材収容空間86内に上記弾発部材収容筒64を略完全に収容している。
そして、上記載置台46の上面である載置面に、本発明の特徴とする溝状吸着手段92が設けられており、この載置面上に載置される半導体ウエハWを差圧により一時的に吸着して比較的短時間だけ保持し得るようになっている。具体的には、図3及び図4に示すように、この溝状吸着手段92は、同心円状に形成された複数の溝部94を有しており、この溝部94は、載置面であって、ウエハWによって覆われる領域に略均一に形成されている。図3中では溝部94は斜線で示されている。この溝部94は断面矩形状に形成されており、各部の寸法に関しては、溝幅W1は例えば3mm程度に設定され、溝ピッチP1は例えば5mm程度に設定され、溝深さD1は例えば0.3mm程度に設定されている。これらの数値は単に一例を示しただけであり、ウエハの吸着力及び吸着時間は、プロセス前後の圧力差、ウエハ下面と載置面との間の気密性等に依存していることから、これらの必要とする吸着力及び吸着時間等に応じて上記各寸法を決定すればよい。そして、この装置全体の動作は例えばマイクロコンピュータ等よりなる制御手段100により制御される。
図5は本発明方法の各工程を説明するための工程図である。ここでは、第1の薄膜形成工程において第1の薄膜としてタングステンの結晶核よりなる種付け膜を形成し、第2の薄膜形成工程において第2の薄膜としてCVDにより成膜レートの高い金属タングステン膜を形成する場合について説明する。本発明の特徴は、第1の薄膜であるタングステンの核付け膜を形成する短時間の工程のみ溝状吸着手段92によりウエハを吸着保持してこの核付け膜をウエハ表面の周辺部のより広い領域まで形成する点にある。
この際、載置台46の上面の載置面上にはウエハWが載置されているが、このウエハWはクランプリング58により押圧保持されていないので、載置面とウエハWの下面との間の気密性は非常に低く、従って、上記のように処理容器22内の真空引きによって上記溝状吸着手段92の各溝部94内の雰囲気は載置面とウエハ下面との間の隙間を介して処理容器22内へ容易に洩れ出ることにより、結果的に、この溝部94内の圧力も処理容器22内と同じ圧力、例えば1000Pa程度になる。この時の真空引き時間は、直前の処理容器22内の圧力にもよるが、例えば4〜10秒程度である。尚、この時、ウエハWを載置面より僅かに上方へリフトアップした状態に維持し、真空引きが終了した時点にこのウエハWを下方へ降下させて図5(A)に示すような状態としてもよい。
まず、処理容器22内を真空排気しつつランプ室78内の加熱ランプ80を点灯しながら回転させ、熱エネルギである照射光を放射する。放射された照射光は、透過窓74を透過した後、載置台46の裏面を照射してこれを加熱する。この載置台46は非常に薄いことから迅速に加熱され、従って、この上に載置してあるウエハWを迅速に所定の温度まで加熱することができる。
この時のプロセス条件は、プロセス圧力が500〜4000Pa程度、プロセス温度が300〜500℃程度、プロセス時間が10〜30秒程度である。この際、上述のように、載置台46の下方の空間へはArガスがバックサイドガスとして供給されているので、この下方の空間への成膜ガスの廻り込みは略防止されるが、図5(B)に示すようにクランプリング58の下面とウエハWの周辺の上面との間の距離L1は、例えば4mm程度に設定されて、ここにかなり広い隙間96が形成されていることから、処理空間S内の成膜ガスがこの隙間96の中をかなり奥深くまで侵入することになり、従って、上記種付け膜6の端部6Aは、ウエハWの周辺部の端面の近傍まで広がって形成される。換言すれば、種付け膜6の端部6Aは、図10(A)に示す従来方法の場合と比較すると明らかなように、ウエハWの半径方向外方へ大きく広がることになる。
ただし、圧力の高い処理空間S内の雰囲気が、ウエハWの下面と載置面との間の隙間を介して少しずつ圧力の低い溝部94内に侵入してくるので、上記差圧は少しずつ少なくなって吸着力が劣ってくる。この場合、差圧が”ゼロ”になれば、理論的には吸着力も”ゼロ”になるが、この第1の薄膜形成工程のプロセス時間は上述したように30秒程度の短時間であり、この短い成膜時間の期間では、上記差圧が”ゼロ”まで到達しないように設計されているので、ウエハWが横滑り等することを防止することができる。
この状態で、第2の薄膜形成工程用の成膜ガス、ここではWF6 ガスとH2 ガスとを供給し、CVD成膜処理により第2の薄膜としてタングステン金属膜が上記種付け膜6を起点として高い成膜レートで成長して主膜8を形成する。
この際にも、載置台46の裏面側の空間には、バックサイドガスとしてArガスが供給されているのは勿論である。この時のプロセス条件は、プロセス圧力が例えば10666Pa(80Torr)程度、プロセス温度が例えば300〜500℃程度、プロセス時間は、ここで形成すべき膜厚にもよるが、例えば60sec程度である。
このため、従来方法で示した図10(B)とは異なり、種付け膜6の形成されていないウエハ周辺部上面の露出面が、WF6 ガスのフッ素にアタックされないのでこの部分がダメージを受けることを防止することができる。またこの露出面のTiNバリヤ層がフッ素と反応することも防止することができる。
また上記実施例では第1の薄膜形成工程で第1の薄膜として種付け膜6を形成する際、成膜ガスとしてWF6 ガス、SiH4 ガス及びH2 ガスをそれぞれ同時に供給してCVD成膜処理により種付け膜6を形成するようにしたが、これに限定されず、例えばWF6 ガスとSiH4 ガスとを、それぞれの供給時の間にバキューム期間を介して交互に供給するようにして厚さが原子レベル、或いは分子レベルの極めて薄い種付け膜6を一層ずつ形成するようにしてもよい。尚、このような膜形成方法を、いわゆるSFD(Sequential Flow Deposition)と称す。このSFD成膜の場合には、1サイクルに例えば6秒程度要し、これを数サイクル〜10数秒サイクル程度行うので、全体の成膜時間は60秒程度の短時間で済み、この場合にも上記溝状吸着手段92により十分にウエハWを吸着保持することができる。
また実際に、第1の薄膜形成工程の処理をSFDで行い、この時にウエハWの滑りが発生したか否かの評価を行ったのでその時の評価結果を説明する。ここでは減圧工程を行う直前の処理容器22内の圧力を10666Paに設定し、これより所定の時間だけ減圧工程を実施し、その後、第1の薄膜形成工程を50秒間行っており、この第1の薄膜形成工程においてウエハの滑りが発生したか否かを検討している。評価実験の結果、上記減圧工程を5秒程度しか行っていない時には、ウエハの滑りは発生したが、減圧工程を6秒以上行った時には、ウエハWの滑りが発生しないことを確認できた。
また、曲線B1、B2で示すように図8に示す載置台の場合には、共に、最初から急激に温度が低下して同様な傾向を示しており、ウエハ面内において生ずる温度分布は略均一な状態に維持されていることから、曲線A1、A2の場合よりも更に改善されており、非常に良好であることが確認できた。
更に、本実施例では、被処理体として半導体ウエハを例にとって説明したが、これに限定されず、LCD基板やガラス基板等にも適用することができる。
8 主膜
20 成膜装置
22 処理容器
24 シャワーヘッド部(ガス供給手段)
46 載置台
56 クランプ手段
58 クランプリング
60 突起
74 透過窓
80 加熱ランプ(加熱手段)
88 バックサイドガス供給手段
92 溝状吸着手段
94 溝部
98 連通溝部
100 制御手段
W 半導体ウエハ(被処理体)
Claims (11)
- 真空引き可能になされた処理容器と、
成膜処理が施される被処理体を載置する載置台と、
前記処理容器内へ必要なガスを供給するガス供給手段と、
前記被処理体を加熱する加熱手段と、
前記被処理体の周辺部に当接して前記被処理体を前記載置台側へ押圧して保持するために昇降可能になされたクランプ手段と、
装置全体の動作を制御する制御手段と、
を有する成膜装置において、
前記載置台の載置面に、該載置面上に載置される前記被処理体を差圧により一時的に吸着して保持するための溝状吸着手段が形成されていることを特徴とする成膜装置。 - 前記制御手段は、前記処理容器内を第1の薄膜の成膜時のプロセス圧力よりも低い圧力まで真空引きし、次に前記処理容器内の圧力を前記第1の薄膜のプロセス圧力に設定することによって前記溝状吸着手段で前記被処理体を前記載置台上に保持すると同時に前記クランプ手段を上昇させて前記被処理体から離間させた状態で前記載置台上に載置されている前記被処理体の表面に前記第1の薄膜を形成し、次に前記クランプ手段を降下させて該クランプ手段で前記被処理体を保持した状態で第2の薄膜を形成するように制御することを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記溝状吸着手段は溝部よりなることを特徴とする請求項1または2記載の成膜装置。
- 前記溝部は、前記載置面であって前記被処理体によって覆われる領域に略均一に形成されていることを特徴とする請求項3記載の成膜装置。
- 前記溝部は同心円状に複数個形成されていることを特徴とする請求項3又は4記載の成膜装置。
- 前記複数の溝部は連通溝部で連通されていることを特徴とする請求項5記載の成膜装置。
- 前記溝部は渦巻状に形成されていることを特徴とする請求項3又は4記載の成膜装置。
- 前記溝部は、放射状、或いは格子状に形成されていることを特徴とする請求項3又は4記載の成膜装置。
- 真空引き可能になされた処理容器と、
成膜処理が施される被処理体を載置する載置台と、
前記処理容器内へ必要なガスを供給するガス供給手段と、
前記被処理体を加熱する加熱手段と、
前記被処理体の周辺部に当接して前記被処理体を前記載置台側へ押圧して保持するために昇降可能になされたクランプ手段と、
前記載置台の載置面上に載置される前記被処理体を差圧により吸着して保持するための溝状吸着手段と、
装置全体の動作を制御する制御手段と、
を有する成膜装置を用いて前記被処理体に第1の薄膜と第2の薄膜とを連続的に形成する成膜方法において、
前記処理容器内を前記第1の薄膜の成膜時のプロセス圧力よりも低い圧力まで真空引きする減圧工程と、
前記処理容器内の圧力を前記第1の薄膜のプロセス圧力に設定することによって前記溝状吸着手段で前記被処理体を前記載置台上に保持すると同時に前記クランプ手段を上昇させて前記被処理体から離間させた状態で前記載置台上に載置されている前記被処理体の表面に前記第1の薄膜を形成する第1の薄膜形成工程と、
前記クランプ手段を降下させて該クランプ手段で前記被処理体を保持した状態で前記第2の薄膜を形成する第2の薄膜形成工程と、
よりなることを特徴とする成膜方法。 - 前記第1の薄膜は種付け膜であり、前記第2の薄膜は前記種付け膜上に形成される主膜であることを特徴とする請求項9記載の成膜方法。
- 前記第1及び第2の薄膜はそれぞれ金属タングステンよりなることを特徴とする請求項9または10記載の成膜方法。
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