JP4786057B2 - レーザトリートメント装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、脱毛、育毛、美顔、針灸などのレーザトリートメントを行うためのレーザトリートメント装置に関する。
【従来の技術】
人体に対してトリートメントを行うトリートメント装置としては、レーザ光を用いて脱毛を行うレーザ脱毛装置が代表的であるが、この他、レーザ光を用いて育毛を行うレーザ育毛装置等がある。
【0002】
レーザ光照射装置から照射されるレーザ光は、通常の光源に比べてエネルギー密度が桁違いに大きいため、レーザ光が生体組織に照射されると、大きな光エネルギーが吸収され、パワーが集中する部分では高温になり、蛋白質の変成が起こる。
【0003】
このレーザ光のパワーを人体の有効部位、例えば脱毛対象の体毛の毛根などに対して、蛋白質の変成が起こる程度の強いパワーでレーザ光を照射するものがレーザ脱毛装置である。
【0004】
一方、蛋白質の変成が起こるほどの強いパワーではなく、育毛対象の皮膚面、例えば頭皮などに対して、レーザ光を、例えば40°Cを越えない適度のパワーで照射し穏やかな熱エネルギーを与え、適度な刺激を与え、血流を促進すると共に、毛穴の皮脂の詰まりを改善するものが、レーザ育毛装置である。
【0005】
このようなレーザトリートメント装置は、それぞれ適用部位や効能が異なることから、商品としては、別個のものとして開発および販売されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなレーザトリートメント装置の場合、装置を購入するユーザが例えば家族などの場合、父は育毛装置、娘は脱毛装置をそれぞれ購入するようなことも想定され、家族で別個のものを購入するには経済的な負担が多いという問題があった。
【0007】
本発明はこのような課題を解決するためになされたもので、育毛、脱毛、美顔、針灸などの異なるレーザトリートメントの機能を備えた安価なレーザトリートメント装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、請求項1記載の発明のレーザトリートメント装置は、所望の部位に対してレーザ光の照射を行うレーザ光照射手段と、前記部位と前記レーザ光照射手段までの距離を一定に保つように設けられた接触子と、
前記接触子に対してパルス電流を通電するパルス発生回路と、前記レーザ光照射手段により照射されるレーザ光の照射パターンが複数記憶された記憶手段と、前記レーザ光の照射を行う第1モードと前記パルス電流による電気的な刺激を行う第2モードとを少なくとも含む複数のトリートメントモードの中からいずれか一つのモードを選択するための選択手段と、前記選択手段により前記第1モードが選択された場合、前記接触子をタッチセンサの一部として利用し前記部位への前記接触子の接触が検知された場合、選択されたモードに対応する前記レーザ光の照射パターンを前記記憶手段から読み出して前記レーザ光照射手段のレーザ光照射を制御する一方、前記選択手段により前記第2モードが選択された場合、前記接触子に対してパルス電流を通電するよう前記パルス発生回路を制御する制御手段とを具備したことを特徴としている。
【0009】
請求項2記載の発明のレーザトリートメント装置は、請求項1記載の発明のレーザトリートメント装置において、前記記憶手段には、前記レーザ光の照射パターンとして、脱毛用、育毛用、美顔用、鍼灸用の少なくとも二つの照射パターンが記憶され、前記第2モードには、脱毛、育毛、美顔、鍼灸の少なくとも二つのモードがあり、前記制御手段は、前記二つのモードのうちいずれか一つのモードが選択された場合、選択されたモードに対応するレーザ光の照射パターンを前記記憶手段から読み出して前記レーザ光照射手段のレーザ光照射を制御することを特徴としている。
【0010】
請求項3記載の発明のレーザトリートメント装置は、請求項1記載の発明のレーザトリートメント装置において、前記記憶手段は、前記照射パターンのデータを記憶したメモリチップを着脱自在なソケットを備え、前記制御手段は、前記ソケットに装着されたチップからレーザ光の照射パターンのデータを読み出して前記レーザ光照射手段のレーザ光照射を制御することを特徴としている。
【0011】
請求項4記載の発明のレーザトリートメント装置は、請求項1記載の発明のレーザトリートメント装置において、前記レーザ光照射手段は、所望の部位に対する育毛用の照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ光照射手段と、所望の部位に対する脱毛用の照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第2のレーザ光照射手段とを有し、前記制御手段は、これら第1および第2のレーザ光照射手段を切り替えていずれか一つを制御することを特徴としている。
【0012】
本発明のレーザトリートメント装置は、レーザ光のパワーや照射時間などを育毛および脱毛などの目的毎にパターン化してそれぞれの目的に最適なレーザ光を出力する。
【0013】
例えば脱毛を行う場合、事前準備として、脱毛対象の皮膚の所望の部位の毛を剃る。
そして、レーザ光照射プローブのモード選択スイッチにてトリートメントのモードを脱毛モードに切り替える。そして、所望のレベルを選択して、その部位にレーザ光照射プローブの先端を当てレーザ光を照射して脱毛のトリートメントを行う。
【0014】
また、例えば育毛を行う場合は、レーザ光照射プローブのモード選択スイッチにてトリートメントのモードを育毛モードに切り替える。そして、所望のレベルを選択して、育毛対象の所望の部位にレーザ光照射プローブの先端を当てレーザ光を照射して育毛のトリートメントを行う。
【0015】
このように脱毛および育毛に関する一連のトリートメントを1つのプローブで行えるので、ユーザとしては、家族で一台購入するだけで、異なる部位および効能を必要な人がそれぞれのトリートメントを行うことができる。
【0016】
また、レーザトリートメント装置を商品として開発および販売する側も、育毛用も脱毛用も、レーザ光を照射する部分(レーザ光照射プロープ)自体は、ほぼ同じ構成で済むことから、内部構造の共通化が図れ、製造コストを削減できる。つまり、異なるトリートメントの機能を一台の装置に集約することで装置を安価に提供できる。
【0017】
この結果、育毛および脱毛などの異なるレーザトリートメントの機能を備えた安価なレーザトリートメント装置を提供することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明を実施したレーザトリートメント装置の概要構成図、図2は図1のレーザトリートメント装置の光照射プローブの正面図、図3は図2のレーザ光照射プローブの縦断面図、図4は図1のレーザトリートメント装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【0019】
図1に示すように、このレーザトリートメント装置は、ユーザが自分自身で、体毛の脱毛、育毛などを行うための装置であり、コントローラ兼器具収容ボックス2(以下コントロールボックス2と称す)と、レーザ光照射プローブ1と、これらを接続する接続ケーブル3とから構成されている。
【0020】
コントロールボックス2は、フロント面に、表示パネルPと、接続ケーブル3の接続端子(プラグ)を取り付けるソケット4を配置し、内部にレーザ光照射プローブ1の電源と、タイマ制御によりレーザ光照射プローブ1のレーザ光照射を制御する制御回路とを備えている。表示パネルPには、この装置が操作された内容や動作モードの状態が表示される。
【0021】
また、このコントロールボックス2のフロント面には、このレーザトリートメント装置の電源をオン・オフする電源スイッチ5と、電源の状態を示すLED6と、レーザ光出力の調節、照射時間などのレベルの設定、トリートメント時間の設定、レーザ光の照射モードのモード設定などを行う切替スイッチ7と、各設定状態を示すLED8とが設けられている。
【0022】
光出力の調節は、育毛モードと脱毛モードの各モード状態において、例えば複数段階(1〜6レベル)の選択によるものと、マニュアルによるものとがあり、マニュアル調整の場合、電源を連続出力からパルス出力に切り替え、さらにパルスのオンタイムを変更して行う。すなわち、光出力を強くするときは、パルスのオンタイムを長くして単位時間当たりの照射時間を長くし、弱くするときはパルスのオンタイムを短くして単位時間当たりの照射時間を短くする。そして、光出力を最大にするときは、一定の強さのレーザ光を送り続ける連続出力に切り替える。
【0023】
照射時間の設定は、皮膚に一過性のダメージを与えないために、レーザの出力に応じたカウント値をタイマに設定する。
【0024】
タイマのカウント値としては、半導体レーザの出力の可変範囲が例えば0.01w〜3w程度であれば、0.01秒〜30秒程度の範囲が良く、好ましくは、0.05w〜5秒の範囲が良い。また、半導体レーザの出力の上限が、例えば1w〜1.5w程度であれば、0.1秒〜3秒程度の範囲内でタイマを設定することが好ましい。
【0025】
トリートメント時間の設定は、皮膚あるいは筋肉に長時間の使用によるダメージを与えないために、タイマに通常の使用に適正な値、例えば5分〜60分のカウント値を設定する。
【0026】
図2、図3に示すように、レーザ光照射プローブ1は、ケースCの正面にへッド部1aを突設すると共に、ケースCの内部に、駆動回路20、ファン18、LEDランプ17および押しスイッチ15を取り付けた基板Kを取り付けて構成したものである。
【0027】
LEDランプ17と押しスイッチ15は、ケースCの対向面を開口して先端を外側に露出させるように配置している。
【0028】
ヘッド部1aには、中心を開口して球レンズ11を挿嵌し、球レンズ11を取り巻く周縁部に2本の接触子12、12’を植立させている。
【0029】
なお、接触子12、12’は、いずれか1つだけでもタッチセンサとしての機能は果たすが、接点が1箇所だけの場合、プローブの先端が目標部位(皮膚の毛根部分)に向かった場合だけでなく、接触子が皮膚に触れただけでも、また斜めに当っただけでも簡単にレーザ光が照射されてしまうため、不用意に人体の目標以外の部位にレーザ光が照射されたり、角度によっては遠く離れた所にレーザ光が照射されることもある。
【0030】
そこで、このレーザトリートメント装置では、レーザ光照射プローブ1の先端には、プローブ先端が当接部位の肌部分に向いたときだけレーザ光を照射するようにレーザ光照射口を挟むように2つのピン形状の導電性電極12、12’(以下接触子12、12’と称す)を設けている。これにより、互いの接触子12、12’が共に皮膚との当接を検知したとき、つまりレーザ光照射方向が皮膚の目標部分に向いたときでなければ、レーザ光が照射されなくなり、タッチセンサ付きレーザ光照射プローブ1の安全性をさらに高めることができる。
【0031】
接触子12、12’は、金属などの導電体からなるロッドの先端に平坦面あるいは凸曲面を形成し、表面を金メッキする。これら接触子12、12’の数は、この例のように2本に限定するものではなく、3本以上設けても良い。
【0032】
球レンズ11の後方にはヒートシンク13を設置し、軸心に通孔を穿って半導体レーザダイオード14を挿嵌している。
【0033】
球レンズ11は、半導体レーザダイオード14のレーザ光を集光して前方の焦点にビームウエストを形成するが、焦点距離が通常のレンズより短いので、焦点深度もわずかで狭い範囲に光パワーを絞り込むことができる。
【0034】
また、焦点を過ぎた位置からは逆に同じ角度で広がり、広い範囲に光パワーが分散する。このため、焦点を過ぎた位置ではエネルギー密度が低くなって光パワーが衰えるので、誤って生体に照射しても生体を損傷するようなことが少なくなる。
【0035】
ヒートシンク13は、半導体レーザダイオード14の動作時の発熱を熱伝導によって拡散させて性能の低下を抑える。このため、熱伝導効率の良いアルミあるいはその含金で鋳造し、ダミーの通孔をいくつか設けて表面積をかせぎ放熱効率を高める。
【0036】
半導体レーザダイオード14は、GaAs(ガリウムアルセナイド)などの化合物半導体を用いたPN接合ダイオードに直接電流を流して励起し、レーザ発振を得る。また、メラニンを吸収できるピーク波長が例えば600nm〜1600nmとすると、その範囲内の波長を出力可能なもので良い。半導体レーザダイオード14は、ピーク波長800nm程度のレーザ光を出力し、光出力としては5mW以上のレーザ光を出力し、熱効率が良くて皮膚に十分な光熱反応を起こす。なお、光出力の上限は、年々、増加しており、現在では、一つの半導体レーザダイオードで1.5W以上出力できるものも開発されている。
【0037】
さらに、半導体レーザダイオード14が照射するレーザ光によって、熱反応の他、光電気反応、光磁気反応、光力学反応、光化学反応、光免疫反応、光酵素反応などが生じる。つまり、レーザ光の皮膚に対する照射は、光生物学的活性化により生体組織の新陳代謝を促して皮膚血行を促進する効果がある。また、レーザ光は、水分や血液に吸収されにくいため、優れた皮膚深部への到達性を持つ。
【0038】
このレーザトリートメント装置の制御系は、図4に示すように、接触子12、12’の皮膚への接触を検出するタッチセンサ回路と、接触子12、12’に数Hzから数百Hz程度の低周波の微弱電流を通電するパルス発生回路と、脱毛用のレーザ光照射パターンと育毛用のレーザ光照射パターンとが記憶されたメモリ30と、半導体レーザダイオード14の間欠照射のオンタイムをメモリ30から読み出したレーザ光照射パターンとタイマで制御するCPU26、基準クロック発生器31、I/Oインタフェース25などからなる制御回路20と、この制御回路20によってI/Oインタフェース25を通じて制御される半導体レーザダイオード14の駆動回路27などから構成されている。
【0039】
メモリ30に記憶されている脱毛用のレーザ光照射パターンは、レーザ光を照射するタイミングパラメータであり、一回毎のレーザ光照射時間(ワンショット)として、0.1秒、0.2秒、0.3秒、0.4秒、0.5秒、1秒、1.5秒、2秒、3秒で、1回照射後、次の照射までの待ち時間が1秒、それぞれのショットに応じて皮膚の単位面積に14〜40J/cm2 の範囲のエネルギー密度が得られるように出力が設定されている。14〜40J/cm2の範囲は、スポットサイズに応じて設定するものとする。
【0040】
また、育毛用のレーザ光照射パターンとしては、ワンショット0.1秒×3回、0.1秒×4回、0.3秒×3回、0.5秒×3回、0.7秒×3回、1秒×3回などが6段階のレベルに分けて設定されており、各レベルとも皮膚表面の温度が40°Cを超えない範囲でレーザ光を出力するよう設定されている。
【0041】
タッチセンサ回路は、接触子12、12’が皮膚に接触したときに発生する微弱な交流電圧をそれぞれ帯域フィルタ21、整流回路22、増幅器23を介して直流電圧に変換し、波形整形、レベル調整、オフセット調整した後、A/D変換器24、I/Oインタフェース25を介してCPU26に入力するよう構成されている。
【0042】
CPU26には、I/Oインタフェース25を介して半導体レーザダイオード14の駆動回路27が接続されている。
【0043】
タッチセンサ回路は、接点式の他、静電容量や抵抗などのインピーダンス変化を検知するものや、圧電素子によって圧力変化を検知するものでも良い。
【0044】
タッチセンサ回路は、以上のような構成で、接触子12、12’の電圧値を読み込んで所定の交流電圧が発生しているかどうかを検出してCPU26へ通知し、CPU26は、接触子12、12’の両方に所定の交流電圧が発生しているとき、半導体レーザダイオード14の駆動回路27にオン信号を出力する。
【0045】
なお、この例のように接触子を2本、あるいはそれ以上設けるときは、それぞれの接触子12、12’に所定の交流電圧が発生しているかどうかを判定し、すべての接触子12、12’に所定の交流電圧が発生しているとき、初めて半導体レーザダイオード14の駆動回路27にオン信号を出力する。
【0046】
駆動回路27は、タッチセンサ回路とタイマ制御回路の両方の指令に基づいて半導体レーザダイオード14の点灯をオン・オフする。
【0047】
すなわち、タッチセンサ回路とタイマ制御回路の両方がオン信号を出力しているとき、初めて半導体レーザダイオード14を点灯する。
【0048】
従って、タッチセンサ回路がオン信号を出力していないときは、タイマ制御回路がオン信号を出力していても半導体レーザダイオード14は点灯されない。
【0049】
ファン18は、へッド部1の後方に設置されており、ヒートシンク13を空冷するものである。
【0050】
LEDランプ17は、赤と緑のLEDチップを1つのランプの中に入れ、それぞれ片方ずつ、あるいは両方同時に点灯して赤、緑、黄色、または、橙色(アンバー)の3色発光ができるものを使用する。
【0051】
押しスイッチ15は、電源のオン・オフと間欠照射のオンタイムを切り替える操作を行う。
【0052】
押しスイッチ15を1回押す毎に、電源オンと、オンタイムの切り替え(1秒〜6秒)と、電源オフの順にモードが切換わる。
【0053】
このとき、LEDランプ17は1秒1〜6秒のオンタイムに対応して緑色点灯から緑色点滅、橙色点灯、橙色点減、赤色点灯、赤色点滅の順に表示が切換わる。
【0054】
最後に押しスイッチ15をロングオン(1.5秒)すると、電源がオフとなり、レーザ光の照射が停止する。
【0055】
オンタイムは、皮膚に一過性のダメージを与えないために、このようにタイマにごく短い1〜6秒のカウント値を設定する。
【0056】
一方、パルス発生回路では、ユーザがカラー液晶の表示パネルPを操作して指定したレーザトリートメントモードの種類(脱毛モードあるいは育毛モードなど)に対応するレーザ光照射パターン(給電パターン)がCPU26によってメモリ30から読み出され、各トリートメントモードに基づいて基準クロック発生器31のクロックパルスを分周したデジタルトリガ信号をI/Oインタフェース25とD/A変換器32を介してパルス発生器33に入力し、所定の幅と周波数のパルスを生成してトランスT3の一次側に供給する。
【0057】
トランスT3にはトランスT4が並列に接続されている。トランスT4には電流検出回路34が接続されている。電流検出回路34は、トランスT4の電流値を測定し、過電流が流れていないかどうかを監視する。電流検出回路34が検出した検出電流は、A/D変換器35とI/Oインタフェース25を介してCPU26に入力し、電流値が基準をオーバーしているときは、電流保護回路36によって遮断スイッチ37を作動させて回路を遮断する。トランスT3の二次側の一端と遮断スイッチ37の一端には、それぞれスイッチ38A、38Bの一端が接続されている。
【0058】
また、スイッチング回路38A、38Bの一端には接触子12、12’が接続され、他端にはタッチセンサ回路の帯域フィルタ21が接続されている。このスイッチング回路38A、38Bによって、接触子12、12’の機能がタッチセンサとしての機能と低周波刺激のための機能とに切り替えられる。
【0059】
また、このスイッチング回路38A、38Bは、パルス発生する際にはフォトカプラ接続のスイッチング回路として動作し、対応する切換ユニット39A、39Bの出力信号によって任意のフォトカプラを通電してスイッチングを行う。
【0060】
これにより、表示パネルPで指定されたトリートメントの種類と、この種類に応じてメモリ30から読み出した給電パターンとに基づいて接触子12、12’に所定のパルス電流を通電する。
【0061】
トリートメントモードとしては、脱毛モードと育毛モードと、その他、低周波刺激モード(トーニングとドレナージュ)などがある。トーニングは、例えば1〜10Hz程度の低い周波数のパルスで身体の深部(筋肉など)を刺激し、骨格筋などを運動させて血液の循環を促し、筋肉を揉みほぐす効果がある。ドレナージュは、トーニングよりも高い、例えば20〜100Hzの周波数のパルスで身体の表部を刺激し、表皮近い部分の筋肉などを運動させてリンパ液の流れを助長し、浮腫などを取り除く効果がある。
【0062】
ドレナージュとトーニングには、パルス電圧をサイクリックに上下して刺激を変化させるスペシャル・ドレナージュとスペシャル・トーニングがある。また、同時に複数の電極間にパルスを流す通常のドレナージュとトーニングの他に、時系列で時間を分けて複数の電極間にパルスを流す時系列ドレナージュと時系列トーニング、あるいは時分割で同時に複数の電極間にパルスを流す時分割ドレナージュと時分割トーニングがある。
【0063】
以下、このレーザトリートメント装置の動作を説明する。まず、脱毛モードでのトリートメントを行う場合について説明する。
【0064】
脱毛を行うときは、事前準備として、脱毛箇所の体毛を剃って、皮膚表面の毛穴(毛の断面が黒い点となる)が解る状態にしておく。
【0065】
まず、レーサ光照射プローブ1の押しスイッチ5を押して電源をオンにする。
【0066】
コントロールボックス2の電源スイッチをオンすると、コントロールボックス2は、始め低周波刺激モードで起動する。なお、最後に操作したモードを記憶しておき、そのモードで起動させても良いが、ここでは、安全のため、低周波刺激モードで起動するものとする。
【0067】
ここで、ユーザがスイッチ7を操作することで、トリートメントのモード設定を、トーニングに設定する。
【0068】
そして、ヘッド部1aを脱毛すべき皮膚部分(皮膚面)に2本の接触子12、12’を当接すると、接触子12、12’から低周波の微弱電流がパルス状(極性反転など)で通電されてその部分の皮膚を通じて皮下の筋肉が刺激を受け、筋肉運動(収縮と緩み)が起こる。これにより、脱毛部位がマッサージされ、外的刺激に対して痛覚が鈍くなる。
【0069】
次に、ユーザがスイッチ7を操作して動作モードをレーザ光照射モードとすることで、コントロールボックス2の動作モードが、低周波刺激モードからレーザ光照射モードに切り替わる。
【0070】
そして、ヘッド部1aを脱毛すべき皮膚の部位(皮膚面)に対してほぼ直角に向け、2本の接触子12、12’を皮膚に押し当てる。
【0071】
2本の接触子12、12’が皮膚に接触すると、半導体レーザダイオード14が既定の1秒間点灯し、その後1秒間休止する。
【0072】
そして、この照射と休止を繰り返しながら間欠的にレーザ光を皮膚に照射する。
【0073】
オンタイムを変更するときは、押しスイッチ15を押してオンタイムを切り替え、所望のオンタイムのところで押しスイッチ5を押すのを止める。
【0074】
このように、2本の接触子12、12’を皮膚に接触させながらレーザ光を照射し、位置を移動させて脱毛を行う。
【0075】
接触子12、12’の少なくとも一方を皮膚から離すと、レーザ光の照射が停止する。また、2本の接触子12、12’を再び皮膚に接触させると、レーザ光の照射が再開される。
【0076】
レーザ光照射後は、その時点で、トリートメントを終了してもよく、また、レーザ光照射によって脱毛部位に少し痛みが残るような場合は、上記低周波刺激モードに切り換えて、再度、脱毛部位に低周波刺激を与え、マッサージを行ってもよい。また、レーザ光照射に際して、皮膚表面にクーリングジェルを塗布すると皮膚表面の刺激が緩和されてさらに効果的である。
【0077】
続いて、育毛モードでのトリートメントを行う場合について説明する。
育毛のトリートメントを行う場合、まず、コントロールボックス2の切替スイッチ7を操作してトリートメントモードを脱毛モードから育毛モードに切替え、表示パネルPに表示されるメッセージとの対話形式でユーザ自身の現在のレベル(毛髪の程度や毛の密集度)を選択し設定する。つまり、光出力の調節、照射時間の設定、トリートメント時間の設定、トリートメントモードの設定などを行う。
【0078】
レベルには、六型:あまり目立たない(0.1秒×3回)、五型:やや薄い(0.1秒×4回)、四型:薄い(0.3秒×3回)、三型:かなり薄い(0.5秒×3回)、二型:非常に薄い(0.7秒×3回)、一型:ほとんどない(1秒×3回)などの6段階があり、この他、ユーザが所望によりレーザ光照射時間と照射回数を調整可能なマニュアル設定がある。
【0079】
そして、レーザ光照射プローブ1を育毛対象の部位、例えば頭皮などに当接し、レーザ光照射プローブ1の押しスイッチ15を押すことで上記照射パターンでレーザ光が照射される。
【0080】
レーザ照射は、一週間以上の間隔を空けて、一日の中では、例えば5分〜60分の間で設定したトリートメント時間だけ照射と休止を繰り返えしながら行う。1回の照射時間は、設定した0.1〜数秒で、その後、3秒間程度休止し、その間にエアの吹き出しを行う。このように、半導体レーザダイオード14の点灯を休止する間にエアを吹き出すことで、レーザ光照射プローブ1内の冷却効率が高まる。
【0081】
このように半導体レーザダイオード14のレーザ光によるトリートメントを行うことで、レーザ光の照射部位に対しては、かなりの血行促進作用があり、局所の血行を促進して頭皮の温度を上昇し、毛根部を刺激して毛嚢の活動を賦活させることができる。また、このレーザ光は、毛穴を開いて頭皮表面と毛穴を洗浄して老廃物を除去し、新陳代謝を活発にして固くなった頭皮を元の弾力のある柔らかい頭皮に戻す働きがある。さらに、発毛促進剤やマッサージと組み合わせてレーザ光を照射することで、頭皮への薬の吸収がよくなり、栄養分を導入して、血行の促進をさらに促すことができる。
【0082】
次に、図5,図6を参照してレーザ光照射プローブ1の第1の変形例について説明する。図5は接触センサをアジャスタの先端に取り付けたレーザ光照射プローブの正面図、図6はその縦断面図である。
【0083】
このレーザ光照射プローブ1は、へッド部1aの先端にスクリューねじaを介して皮膚面からの高さを調節する絶縁性のアジャスタ16を取り付け、アジャスタ16の開口端面から側面に沿って導電性の薄膜を接着あるいは蒸着して上下2本の接触子12、12’を形成する。
これにより、アジャスタ16の開口端面全部が皮膚に接触しないとレーザ光が照射されないようにする。
【0084】
次に、図7,図8を参照してレーザ光照射プローブ1の第2の変形例について説明する。図7は接触センサをレーザ透過体の先端に取り付けたレーザ光照射プローブの正面図、図8はその縦断面図である。
【0085】
このレーザ光照射プローブ1は、へッド部1aの先端に透明な誘電体からなるレーザ透過体16’を取り付け、このレーザ透過体16’の先端面の緑部から側面に沿って導電性の薄膜を接着あるいは蒸着して上下2本の接触子12、12’を形成したものである。
【0086】
これにより、レーザ透過体16’の先端面全部が皮膚に接触しないとレーザ光が照射されないようにできる。レーザ透過体16’は、レーザ光を高密度に拡散してエネルギー密度を平均化し、均一な光パワーを皮膚に作用する働きをする。
【0087】
このようにこの実施の形態のトリートメント装置によれば、レーザ光照射プローブ1にタッチセンサの機能と低周波パルスの発生機能とを兼用する接触子12、12’を設けたことで、例えば脱毛を行う際に、まず、脱毛箇所の筋肉のトーニングを行うことで毛穴を拡げ、脱毛の準備をしてから、レーザ光の照射を行う、といった一連の脱毛処理の手順を、1つのレーザ光照射プローブ1で安全に行えるので、操作性を向上できると共に、装置の低コスト化を図ることができる。
【0088】
なお、本発明は上記実施の形態のみに限定されるものではない。
上記実施形態では、メモリ30に脱毛用のレーザ光照射パターンと育毛用のレーザ光照射パターンとを記憶しておき、モード切り替え時にCPU26が対応するレーザ光照射パターンを読み出してレーザ光照射プローブ1によるレーザ光の照射を制御したが、これ以外に、例えばメモリをコントロールボックス2から取り外し可能なようなチップ化し、このチップを着脱自在なソケットをコントロールボックス2に設け、脱毛・育毛それぞれの用途に応じた専用のレーザ光照射パターンを記憶したチップをコントロールボックス2のソケットに装着して脱毛あるいは育毛それぞれのトリートメントの機能を実現するようにしても良い。
【0089】
つまり、コントロールボックス2の構成を、レーザ光照射プローブ1が照射するレーザ光の照射パターンのデータを記憶したチップを着脱自在に装着したソケットと、このソケットに装着されたチップからレーザ光の照射パターンデータを読み出してレーザ光照射プローブ1を制御するCPU26という構成とする。
【0090】
また、上記実施の形態では、レーザ光照射プローブ1を一つだけ用いたが、これ以外に、例えば育毛用に照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ光照射プローブと、脱毛用に照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第2のレーザ光照射プローブとをコントロールボックス2に接続し、これら第1および第2のレーザ光照射プローブを切り替えて、いずれか一つをコントロールボックス2のCPU26が制御するよう構成してもよい。
【0091】
さらに、上記実施形態では、メモリ30に脱毛用と育毛用のそれぞれのレーザ光照射パターンを記憶した例について説明したが、さらに、メモリ30に、美顔用、針灸用などのレーザ光照射パターンを記憶しておき、これら多くのトリートメントモードの中からいずれか一つを選択してトリートメントを行なえるようにしてもよい。
【0092】
また、例えば育毛用に照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ光照射プローブと、脱毛用に照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第2のレーザ光照射プローブと、美顔用にレーザ光照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第3のレーザ光照射プローブと、針灸用にレーザ光照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第4のレーザ光照射プローブとをコントロールボックス2に接続し、これら第1〜第4のレーザ光照射プローブを切り替えて、いずれか一つをコントロールボックス2のCPU26が制御するよう構成してもよい。
さらに、これらのトリートメント用のレーザ光照射プローブの中から、所望のものを選択的に組み合わせてシステム構成として販売してもよい。
例えば美顔用にレーザ光照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第3のレーザ光照射プローブと、脱毛用に照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第2のレーザ光照射プローブとを組み合わせることで、女性に好適な構成とすることができ、また、育毛用に照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ光照射プローブと、針灸用にレーザ光照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第4のレーザ光照射プローブとを組み合わせることで男性に好適な構成とすることができる。なお、このような構成例は一例にして過ぎず、この他、さまざまな組み合わせで適用できることは言うまでもない。
【0093】
より具体的には、例えば図9に示すように、コントロールボックス2に2つのソケット91,92を設け、それぞれのソケット91,92に各トリートメント専用のプローブを接続、例えばタッチセンサ付きレーザ光照射用のプローブ93をソケット91に接続し、低周波刺激用のプローブ94をソケット92に接続し、切り替えスイッチ95などでコントロールボックス2の動作回路を切り替えて使用するようにしても良い。
【0094】
また、図10に示すように、コントロールボックス2の1つのソケット105に、レーザ光照射用のプローブ93および低周波刺激用のプローブ94のうち、いずれか1つを接続し、プローブからのプラグを挿脱することで差し替えて使用するようにしても良い。
【0095】
上記図9および図10の低周波刺激用のプローブ94としては、例えば図11に示すように、接触子12、12’の皮膚との接触面をほぼ平坦にし、各接触子12、12’からプラス(+)イオンあるいはマイナス(−)イオンを発生させることで、肌表面への刺激効果をより向上させるようにしてもよい。また、レーザ照射後に適用するモードとしてクールダウンモード、痩身用のモードとして、引き締めモードなどを設定してもよい。
【0096】
さらに、上記実施の形態では、レーザ光照射プローブ1の先端に設けた接触子12と接触子12’とを別の極性(+/−)として通電したが、図12に示すように、レーザ光照射プローブ1の先端に設けた接触子12、12’を同じ極性とし、他の箇所、例えばレーザ光照射プローブ1のグリップ部に異なる極性となる電極111を設け、接触子12、12’を当接した人体部位を通じてグリップを持つ手の電極111へ直流電流を通電(ガルマニック通電)することで、当接部位の皮膚、特に真皮層付近の浅い部位に刺激を行うようにしても良い。この場合、印加される電圧の極性で、例えば接触子12、12’がマイナスとなったときに当接部分の緊張が緩み、また、プラスになったときにその部位が緊張するので、これを繰り返すことでマッサージ効果が得られる。
【0097】
上記実施の形態では、接触子12、12’については、タッチセンサと通電刺激兼用としたが、そこからタッチセンサの機能を省き、トリートメント装置を、例えば皮膚の所望の部位に対してレーザ光の照射を行うレーザ光照射プローブ1と、このレーザ光照射プローブ1の先端に設けられ、当接した部位に作用する低周波電流あるいは直流電流を通電する接触子12、12’とからなる構成としてもよい。
【0098】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、一つのレーザ光照射手段を異なるトリートメントに兼用させることで、異なるトリートメントの機能を一台の装置に集約することができ、製造および販売側としては、装置の低コスト化が図れ、ユーザとしては安価なものを購入および入手できる。
この結果、多くの機能を備え、安価なレーザトリートメント装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施したレーザトリートメント装置の概要構成を示す斜視図である。
【図2】図1のレーザトリートメント装置のレーザ光照射プローブの正面図である。縦断面図である。
【図3】図1のレーザトリートメント装置のレーザ光照射プローブの縦断面図である。
【図4】図1のレーザトリートメント装置の制御系を示すブロック図である。
【図5】第1の変形例のレーザ光照射プローブを示す正面図である。
【図6】第1の変形例のレーザ光照射プローブを示す縦断面図である。
【図7】第2の変形例のレーザ光照射プローブを示す正面図である。
【図8】第2の変形例のレーザ光照射プローブを示す縦断面図である。
【図9】レーザトリートメント装置の他の実施形態を示す図である。
【図10】レーザトリートメント装置の他の実施形態を示す図である。
【符号の説明】
1a…ヘッド部
2 …コントロールボックス
7 …切替スイッチ
11…球レンズ
14…半導体レーザダイオード
15…押しスイッチ
16…アジャスタ
16’…レーザ透過体
17…LEDランプ
20…制御回路
21…帯域フィルタ
22…整流回路
23…増幅器
24…A/D変換器
25…I/Oインタフェース
26…CPU
27…駆動回路
a …スクリューねじ
C …ケース
K …基板
P…表示パネル

Claims (4)

  1. 所望の部位に対してレーザ光の照射を行うレーザ光照射手段と、
    前記部位と前記レーザ光照射手段までの距離を一定に保つように設けられた接触子と、
    前記接触子に対してパルス電流を通電するパルス発生回路と、
    前記レーザ光照射手段により照射されるレーザ光の照射パターンが複数記憶された記憶手段と、
    前記レーザ光の照射を行う第1モードと前記パルス電流による電気的な刺激を行う第2モードとを少なくとも含む複数のトリートメントモードの中からいずれか一つのモードを選択するための選択手段と、
    前記選択手段により前記第1モードが選択された場合、前記接触子をタッチセンサの一部として利用し前記部位への前記接触子の接触が検知された場合、選択されたモードに対応する前記レーザ光の照射パターンを前記記憶手段から読み出して前記レーザ光照射手段のレーザ光照射を制御する一方、前記選択手段により前記第2モードが選択された場合、前記接触子に対してパルス電流を通電するよう前記パルス発生回路を制御する制御手段と
    を具備したことを特徴とするレーザトリートメント装置。
  2. 前記記憶手段には、前記レーザ光の照射パターンとして、脱毛用、育毛用、美顔用、鍼灸用の少なくとも二つの照射パターンが記憶され、
    前記第2モードには、脱毛、育毛、美顔、鍼灸の少なくとも二つのモードがあり、
    前記制御手段は、
    前記二つのモードのうちいずれか一つのモードが選択された場合、選択されたモードに対応するレーザ光の照射パターンを前記記憶手段から読み出して前記レーザ光照射手段のレーザ光照射を制御することを特徴とする請求項1記載のトリートメント装置。
  3. 前記記憶手段は、
    前記照射パターンのデータを記憶したメモリチップを着脱自在なソケットを備え、
    前記制御手段は、
    前記ソケットに装着されたチップからレーザ光の照射パターンのデータを読み出して前記レーザ光照射手段のレーザ光照射を制御することを特徴とする請求項1記載のレーザトリートメント装置。
  4. 前記レーザ光照射手段は、
    所望の部位に対する育毛用の照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第1のレーザ光照射手段と、
    所望の部位に対する脱毛用の照射パターンがプログラムされたレーザ光を照射する第2のレーザ光照射手段とを有し、
    前記制御手段は、
    これら第1および第2のレーザ光照射手段を切り替えていずれか一つを制御することを特徴とする請求項1記載のレーザトリートメント装置。
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