JP4785210B2 - Substrate transfer device - Google Patents
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Description
本発明は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置に関する。 The present invention relates to a substrate transfer apparatus for transferring a substrate to be processed in a flat flow.
例えば、FPD(フラットパネルディスプレイ)の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
具体的には、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト(以下、レジストと呼ぶ)を塗布してレジスト膜を形成し、回路パターンに対応してレジスト膜を露光し、これを現像処理するものである。
For example, in manufacturing an FPD (flat panel display), a circuit pattern is formed by a so-called photolithography process.
Specifically, after a predetermined film is formed on a substrate to be processed such as a glass substrate, a photoresist (hereinafter referred to as a resist) as a processing liquid is applied to form a resist film, which corresponds to the circuit pattern. The resist film is exposed to light and developed.
ところで近年、このフォトリソグラフィ工程では、スループット向上の目的により、被処理基板を略水平姿勢の状態で搬送しながら、その被処理面に対しレジストの塗布、乾燥、加熱、冷却処理等の各処理を施す構成が多く採用されている。
前記基板搬送の構成としては、基板支持部材のレジスト塗布面への転写を防止するため、基板を略水平姿勢の状態で所定の高さに浮上させ、基板搬送方向に搬送する浮上搬送が注目されている。
By the way, in recent years, in this photolithography process, for the purpose of improving throughput, each process such as resist coating, drying, heating, and cooling is performed on the surface to be processed while the substrate to be processed is conveyed in a substantially horizontal posture. Many configurations are used.
As a configuration of the substrate transport, a floating transport in which the substrate is levitated to a predetermined height in a substantially horizontal posture and transported in the substrate transport direction in order to prevent transfer of the substrate support member to the resist coating surface is attracting attention. ing.
この浮上搬送を用いた基板搬送装置は、例えばレジスト塗布処理装置に採用されている。その一般的な構成について図6に基づいて説明する。
例えば、図6の基板搬送装置200は、被処理基板であるLCD基板(液晶ディスプレイ基板)Gを浮上搬送するための浮上ステージ201と、浮上ステージ201の左右両側に敷設されたレール202と、基板Gの左右両側を保持し、レール202上をスライド移動するスライダ203とを備えている。
また、この塗布処理装置にあっては、浮上ステージ201上で浮上搬送されるLCD基板Gの表面にレジスト液を供給するレジストノズル204と、レジストノズル204を洗浄するためのノズル洗浄ユニット205と、レジストノズル204を待機させるノズル待機部206とをさらに備えている。
さらに、浮上ステージ201の後段には、複数の搬送コロ207が回転可能に設けられ、浮上搬送後の基板Gは前記搬送コロ207によって搬送される構成となされている。
A substrate transfer apparatus using this levitation transfer is employed in, for example, a resist coating processing apparatus. The general configuration will be described with reference to FIG.
For example, the
Further, in this coating processing apparatus, a
Further, a plurality of
浮上ステージ201の上面には、上方(Z方向)に向かって所定のガスを噴射するための多数のガス噴射口201aと、吸気を行うための多数の吸気口201bとが夫々、X方向とY方向に一定間隔で交互に設けられている。そして、ガス噴射口201aから噴射されるガス噴射量と吸気口201bからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、基板Gを浮上ステージ201の表面から一定の高さに浮上させるように構成されている。
On the upper surface of the
レジスト液の塗布処理に際しては、浮上ステージ201上を浮上する基板Gは、レール202上をスライド移動するスライダ203により左右両端が保持され、Y方向に移動する。そして、基板Gがレジストノズル204の下方を移動する際、スリット状のノズル口(図示せず)よりレジスト液が帯状に供給され、レジスト液が基板Gの被処理面に塗布される。
When applying the resist solution, the substrate G that floats on the
ところで、前記塗布処理装置においては、浮上する基板Gの下面と浮上ステージの上面とを一対の極板として、その間に静電容量が形成される。
このため、前記レジスト液を基板G上に塗布する際、レジスト液が基板Gに接触することによって生じた電荷が基板Gに帯電しやすく、基板Gに塵埃等が付着したり、配線パターンが破損する虞があった。
このような課題に対し、特許文献1には、イオン発生手段であるイオナイザを用いて、帯電した基板に対しイオンを供給し、帯電を中和させて除電する浮上式の基板搬送装置が開示されている。
By the way, in the said coating processing apparatus, an electrostatic capacitance is formed between a lower surface of the substrate G that floats and an upper surface of the floating stage as a pair of electrode plates.
For this reason, when the resist solution is applied onto the substrate G, the charges generated by the contact of the resist solution with the substrate G are easily charged on the substrate G, and dust or the like adheres to the substrate G or the wiring pattern is damaged. There was a fear.
In response to such a problem, Patent Document 1 discloses a floating substrate transport apparatus that uses an ionizer as an ion generating means to supply ions to a charged substrate, neutralize the charge, and eliminate the charge. ing.
ところで、特許文献1に開示されるようにイオナイザを用いて電荷を中和させることにより、ある程度の除電効果を期待できる。
しかしながら、本発明者が行った検証結果によれば、浮上ステージ上を搬送される基板に対し、イオンを吹き付けて除電作業を行っても、図7のグラフに示すように、基板がステージ上から移動して抜ける際(95sec付近)、基板とステージ間の電圧が突発的に上昇する現象が生じることを知見した。
By the way, a neutralization effect to some extent can be expected by neutralizing charges using an ionizer as disclosed in Patent Document 1.
However, according to the verification results performed by the present inventor, even if ion removal is performed by spraying ions on the substrate transported on the levitation stage, as shown in the graph of FIG. It has been found that a phenomenon occurs in which the voltage between the substrate and the stage suddenly rises when moving out (around 95 sec).
即ち、基板の後端部が浮上ステージ上から搬送コロに移動する瞬間に、基板とステージとの間に形成された静電容量が突然に無くなるため(急激に減少するため)、電圧が突発的に上昇していた。
そして、そのように電圧が突発的に上昇すると、イオナイザによっても除電されずに残留していた電荷が放電され、それが配線パターンの破損や断線等の原因となるという課題があった。
That is, at the moment when the rear end portion of the substrate moves from the floating stage to the transfer roller, the capacitance formed between the substrate and the stage suddenly disappears (because it suddenly decreases), so the voltage suddenly increases. Had risen to.
Then, when the voltage suddenly rises in this way, there remains a problem that the remaining charge is discharged without being neutralized by the ionizer, which causes damage to the wiring pattern or disconnection.
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、浮上ステージから搬出される基板における突発的な電圧上昇を抑制することのできる基板搬送装置を提供する。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and is a substrate transport apparatus that transports a substrate in a flat flow, and suppresses a sudden voltage increase in the substrate unloaded from the levitation stage. Provided is a substrate transfer apparatus capable of performing the above.
前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送装置は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って基板をコロ搬送するコロ搬送部とを備え、前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されるガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の側部を保持する一対の基板キャリアとを有し、前記コロ搬送部は、前記浮上ステージの後段において基板搬送方向に並列に配置され、回転可能に設けられた複数のコロ軸と、各コロ軸に所定間隔ごとに設けられ、前記コロ軸の駆動により回転可能な複数の搬送コロと、前記搬送コロの間に前記浮上ステージの高さに一致して設けられた、搬送される基板との対向面積が基板搬送方向に向かって減少する電極部とを有することに特徴を有する。 In order to solve the above-described problems, a substrate transport apparatus according to the present invention is a substrate transport apparatus that transports a substrate to be processed in a flat flow, a floating transport unit that transports the substrate in a floating state, and a substrate transport And a roller transport unit that receives the substrate from the levitation transport unit and rolls the substrate along the direction. The levitation transport unit is configured by gas injection or injection and suction. A levitation stage for levitating the substrate and a pair of substrate carriers that are movably provided along guide rails arranged parallel to the left and right sides of the levitation stage and hold the sides of the substrate. The roller transport unit is arranged in parallel with the substrate transport direction at the subsequent stage of the levitation stage, and is provided rotatably at a predetermined interval on each roller shaft. The facing area between a plurality of transport rollers that can be rotated by driving the shaft and a substrate to be transported that is provided between the transport rollers and coincides with the height of the floating stage decreases in the substrate transport direction. And having an electrode portion.
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送装置は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って基板をコロ搬送するコロ搬送部とを備え、前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されるガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の側部を保持する一対の基板キャリアとを有し、前記コロ搬送部は、前記浮上ステージの後段において基板搬送方向に並列に配置され、回転可能に設けられた複数のコロ軸と、各コロ軸に所定間隔ごとに設けられ、前記コロ軸の駆動により回転可能な複数の搬送コロと、前記搬送コロ間に露出する軸表面より構成された電極部とを有し、前記基板搬送方向に並列に配置された複数のコロ軸は、下流側のコロ軸ほど軸径がより小さく形成され、前記搬送コロ上を搬送される基板との前記電極部の対向面積が基板搬送方向に向かって減少することに特徴を有する。 Further, in order to solve the above-described problem, a substrate transfer apparatus according to the present invention is a substrate transfer apparatus that flatly transfers a substrate to be processed, and a floating transfer unit that transfers the substrate in a floating state; And a roller transport unit that is disposed downstream of the levitation transport unit along the substrate transport direction, receives the substrate from the levitation transport unit, and rolls the substrate, and the levitation transport unit is configured to perform gas injection or jetting. And a pair of substrate carriers that are provided movably along guide rails that are arranged in parallel to the left and right sides of the levitation stage and hold the sides of the substrate. The roller transport unit is arranged in parallel with the substrate transport direction in the latter stage of the levitation stage, and is provided rotatably at a predetermined interval on each roller shaft. A plurality of roller shafts having a plurality of transport rollers that can be rotated by driving the roller shafts, and electrode portions composed of shaft surfaces exposed between the transport rollers, and arranged in parallel in the substrate transport direction, The roller shaft on the downstream side is formed to have a smaller shaft diameter, and the facing area of the electrode portion to the substrate transported on the transport roller is reduced in the substrate transport direction.
このような構成によれば、基板の後端部が浮上ステージ上から移動して抜ける際に、基板と浮上ステージとの間に形成されていた静電容量が急激に減少することがないため、電圧の突発的な上昇を防ぐことができる。
その結果、基板を浮上搬送部からコロ搬送部に引き渡す際の電荷の放電を抑制することができ、配線パターン破損等の基板への悪影響を防止することができる。
According to such a configuration, the capacitance formed between the substrate and the levitation stage does not rapidly decrease when the rear end portion of the substrate moves away from the levitation stage. A sudden increase in voltage can be prevented.
As a result, it is possible to suppress the discharge of charges when the substrate is transferred from the floating conveyance unit to the roller conveyance unit, and it is possible to prevent adverse effects on the substrate such as damage to the wiring pattern.
本発明によれば、基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、浮上ステージから搬出される基板における突発的な電圧上昇を抑制することのできる基板搬送装置を得ることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is a board | substrate conveyance apparatus which carries out a flat flow of a board | substrate, Comprising: The board | substrate conveyance apparatus which can suppress the sudden voltage rise in the board | substrate carried out from a levitation | floating stage can be obtained.
以下、本発明の基板搬送装置にかかる実施形態を、図1、2に基づいて説明する。尚、この実施形態にあっては、基板搬送装置を、被処理基板であるガラス基板に対しレジスト塗布を行うレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明する。 Hereinafter, an embodiment of the substrate transfer apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, a case where the substrate transport apparatus is applied to a resist coating processing unit that performs resist coating on a glass substrate that is a substrate to be processed will be described as an example.
この基板搬送装置1は、ガラス基板Gを浮上搬送するための浮上搬送部2Aと、前記浮上搬送部2Aから基板Gを受け取り、コロ搬送するコロ搬送部2Bとを備え、基板Gが所謂平流し搬送されるように構成されている。
The substrate transport apparatus 1 includes a
前記浮上搬送部2Aにおいては、基板搬送方向であるY方向に延長された浮上ステージ3が設けられている。浮上ステージ3の上面には、図示するように多数のガス噴出口3aとガス吸気口3bとがX方向とY方向に一定間隔で交互に設けられている。
また、前記浮上ステージ3の幅方向(X方向)の左右側方には、Y方向に平行に延びる一対の第1のガイドレール5が設けられている。前記一対の第1のガイドレール5には,ガラス基板Gの幅方向の両側部を保持して第1のガイドレール5上を移動する一対の基板キャリア6が設けられている。
In the
A pair of first guide rails 5 extending in parallel to the Y direction are provided on the left and right sides of the
そして、前記ガス噴出口3aからのガス噴出量と、ガス吸気口3bからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、ガラス基板Gを浮上させている。さらに、この浮上したガラス基板Gを基板キャリア6により保持して,ガラス基板Gを搬送方向に沿って移動させるようになされている。尚、この実施形態においては、ガスの噴出及び吸気により基板Gを浮上させるようにしたが、それに限定されず、ガス噴出のみの構成によって基板浮上させるようにしてもよい。
And the glass substrate G is levitated by making constant the pressure load of the gas ejection amount from the said gas ejection port 3a, and the intake air amount from the
基板搬送装置1のステージ3上には、ガラス基板Gにレジスト液を吐出するノズル7が設けられている。ノズル7は、例えばX方向に向けて長い略直方体形状に形成されている。また、ノズル7は、例えばガラス基板GのX方向の幅よりも長く形成されている。
また、図2に示すようにノズル7の下端部には、スリット状の吐出口7aが形成され、このノズル7には,レジスト液供給源(図示せず)からレジスト液が供給されるようになされている。
On the
Further, as shown in FIG. 2, a slit-like discharge port 7a is formed at the lower end of the
図1に示すようにノズル7の両側には、Y方向に延びる第2のガイドレール8が形成されている。ノズル7は、第2のガイドレール8上を移動するノズルアーム9によって保持されている。このノズル7は、ノズルアーム9が有する駆動機構により、第2のガイドレール8に沿ってY方向に移動可能となされている。
また、ノズルアーム9には、昇降機構が設けられており、ノズル7は、所定の高さに昇降可能である。かかる構成により、図2に示すように、ノズル7は、ガラス基板Gにレジスト液を吐出する吐出位置と、それより上流側にある回転ロール10及び待機部12との間を移動可能となされている。
As shown in FIG. 1,
The
前記回転ロール10は、洗浄タンク11内に軸周りに回転可能に収容されている。図2に示すノズル7の吐出口7aを洗浄する際には、回転ロール10の最上部にノズル7の吐出口7aを近接させる。そして、回転ロール10を回転させながら、吐出口7aから回転ロール10にレジスト液を吐出することにより、ノズル7の吐出口7aにおけるレジスト液の付着状態が整えられる。これにより、ノズル7の吐出口7aにおけるレジスト液の吐出状態を安定させることができる。
前記回転ロール10のさらに上流側には,ノズル7の待機部12が設けられている。この待機部12には,例えばノズル7を洗浄する機能やノズル7の乾燥を防止する機能が設けられている。
The
A
また、基板搬送方向の下流となるステージ3の後端部上方には、基板搬送路の幅方向に沿って取り付けられ、下方を搬送されるガラス基板Gの表面にイオンを供給するイオナイザ15(イオン供給手段)が設けられている。
即ち、レジスト塗布に伴い電荷が帯電した基板Gに対し、イオナイザ15から供給されるイオンによって電荷を中和し、除電する構成となされている。
尚、このイオナイザ15は、例えば軟X線の照射により雰囲気をイオン化させる方式、あるいは、コロナ放電により発生させたイオンを基板Gに吹き付ける方式を用いることができる
Further, an ionizer 15 (ion) for supplying ions to the surface of the glass substrate G, which is attached along the width direction of the substrate transfer path, is provided above the rear end of the
That is, the substrate G charged with the resist coating is neutralized by the ions supplied from the
The
また、前記浮上搬送部2Aの後段には、コロ搬送部2Bが設けられている。
このコロ搬送部2Bにおいては、ステージ3の後段に、コロ駆動部25によって軸周りに回転可能となされた複数本のコロ軸16(16a、16b、16c、・・・)が並列に設けられている。各コロ軸16には、複数の搬送コロ17が取り付けられ、これら搬送コロ17の回転によって基板Gを搬送する構成となされている。
各コロ軸16には、幅細の搬送コロ17が所定間隔ごとに複数個(例えば図1に示すように9個)取り付けられている。
Further, a
In the
A plurality of narrow conveying
図1、図2に示すようにステージ3の下流側に最初に設けられたコロ軸16aにあっては、隣り合う搬送コロ17の間に、平面視上矩形状の板部材20(電極部)が設けられている。この板部材20の上面の高さ位置は、ステージ3の上面の高さ位置と一致している。この板部材20は、基板Gと対となる極板として機能するよう例えば、SUS、アルミ等の金属部材により形成されている。
尚、板部材20の上面の高さ位置がステージ3の上面の高さ位置と一致するとは、その高さ位置が完全に一致している場合の他、板部材20の上面の高さ位置が、ステージ3の上面に対し−1.0mm〜+0mmの範囲内でずれている場合も含まれる。
また、前記コロ軸16aに沿って設けられた複数の板部材20による基板幅方向の長さの合計は、基板Gの幅の略半分の長さ寸法となることが望ましい。
As shown in FIGS. 1 and 2, in the
Note that the height position of the upper surface of the
The total length in the substrate width direction by the plurality of
また、前記コロ軸16aの下流側に設けられたコロ軸16bにあっては、前記コロ軸16aに沿って配置された複数の板部材20よりも少ない数の板部材20が、コロ軸16bに沿って所定の間隔をもって配置されている。
このコロ軸16bに沿って配置される板部材20は、コロ軸16aに沿って配置された複数の板部材20により形成される上面面積(合計面積)の略半分の面積(合計面積)となるよう配置枚数、あるいは形状を調整するのが好ましい。
図1に示す形態では、同一形状の板部材20が、コロ軸16aに沿って8枚配置され、コロ軸16bに沿って4枚配置されている。即ち、コロ搬送部2Bに配置される複数の板部材20により、基板搬送方向に向かって基板Gの下面への対向面積が徐々に減少するようになされる。
尚、形状により調整する場合は、例えば板部材20のX方向寸法(幅)を半分として、コロ軸16bに沿って8枚配置してもよい。
Further, in the
The
In the form shown in FIG. 1, eight
In addition, when adjusting with a shape, you may arrange | position eight sheets along the roller axis |
このように構成された基板搬送装置1においては、ステージ3上に搬入されたガラス基板Gは、先ず基板キャリア6によって保持され、待機状態となされる。
この待機中において、ノズル7は待機部12から回転ロール10上に移動する。回転ロール10が回転した状態で、ノズル7から回転ロール10にレジスト液が吐出されて、レジスト液の試し出しが行われる。その後、ノズル7は、所定の吐出位置に移動する。
In the substrate transport apparatus 1 configured as described above, the glass substrate G carried onto the
During this standby, the
ステージ3上で待機していた基板Gは、基板キャリア6がレール5に沿って移動することによりステージ3上を浮上しながら搬送される。
そして、ノズル7の吐出口7aからはレジスト液が吐出され、ノズル7の下方を通過する基板Gの上面にレジスト液が塗布される。
レジスト液の塗布が終了した基板Gは、次いでイオナイザ15の下方を通過しながらステージ3上から搬出される。ここで、イオナイザ15から基板Gの上面にイオンが供給され、基板Gに帯電していた電荷の大部分が中和され、除電される。
The substrate G waiting on the
Then, a resist solution is discharged from the discharge port 7 a of the
The substrate G on which the application of the resist solution has been completed is then unloaded from the
ステージ3上から搬出される基板Gは、その前端側から搬送コロ17上に載置され、搬送コロ17の回転によって搬送される。このステージ3からの搬出工程にあっては、浮上搬送からコロ搬送に次第に切り替わるため、基板Gの下面に対向していたステージ3の対向面積が基板Gの移動と共に減少していく。
The substrate G unloaded from the
ここで、前記したように、ステージ3の後段に配置されたコロ軸16a、及びコロ軸16bには、それぞれ軸方向に沿って、複数の板部材20が配置されている。この複数の板部材20は、基板搬送方向に向かって次第に基板Gへの対向面積が小さくなるよう構成されている。
このため、ステージ3上から搬送コロ17へ基板Gが移動する際、基板Gの下面との対向面積は次第に減少していく。
前記板部材20は、基板Gの下面と対をなす極板として機能するため、基板Gとステージ3との間に形成されていた静電容量は(急激ではなく)徐々に減少していく。
ここで、ガラス基板Gに帯電する電荷をQ(クーロン)、静電容量をC(ファラド)、電圧をV(ボルト)とすれば、V=Q/Cとなり、静電容量Cは急激に減少しないため、電圧Vの突発的な上昇が抑制される。
Here, as described above, the plurality of
For this reason, when the substrate G moves from the
Since the
Here, if the charge charged on the glass substrate G is Q (Coulomb), the capacitance is C (Farad), and the voltage is V (Volt), V = Q / C, and the capacitance C decreases rapidly. Therefore, sudden increase in the voltage V is suppressed.
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、浮上ステージ3の後段に、前記浮上ステージ3の高さに合わせ、極板として機能する板部材20が設けられ、ガラス基板Gの下面に対する前記板部材20の対向面積が徐々に減少するように構成される。
これにより、基板Gの後端部が浮上ステージ3上から移動して抜ける際に、基板Gと浮上ステージ3との間に形成されていた静電容量が徐々に減少し、電圧の突発的な上昇を防ぐことができる。
その結果、基板Gを浮上搬送部2Aからコロ搬送部2Bに引き渡す際の電荷の放電を抑制することができ、配線パターン破損等の基板Gへの悪影響を防止することができる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, the
As a result, when the rear end portion of the substrate G moves off from the
As a result, it is possible to suppress the discharge of electric charges when the substrate G is transferred from the floating
尚、前記実施の形態においては、前記板部材20は、SUS、アルミニウム等の金属部材により形成された単なる板状の部材としたが、ステージ3と同様にガス噴出口3a(及びガス吸気口3b)を設け、基板Gを浮上させるように構成してもよい。
また、前記実施の形態においては、矩形状の板部材20を、コロ軸16a、16bにそれぞれ沿って2段に設けた構成としたが、その形態に限定されず、基板搬送方向に向かって表面面積が次第に減少するならば、3段以上に構成してもよい。
In the embodiment, the
Moreover, in the said embodiment, although the rectangular-shaped
また、板部材の形態としては、前記矩形状の板部材20に限定されず、図3に示すように基板搬送方向に向かって平面視上先細り形状となる三角形状の板部材21を用いてもよい。その場合、図示するようにステージ3の後段に複数個の板部材21を一列に並べて配置すればよい。
Further, the form of the plate member is not limited to the
また、前記実施の形態においては、電極部として板部材20(あるいは板部材21)を設けたが、本発明の基板搬送装置においては、その形態に限定されるものではない。
例えば、電極部として板部材20(板部材21)を設ける代わりに、各コロ軸16(16a〜16e)において、隣り合う搬送コロ17間に露出する軸表面を電極部として利用してもよい。
即ち、図4及び図5に示すように、ステージ3の下流側に最初に設けられたコロ軸16aの軸径を極力大きくなし、軸表面を基板の下面に近接させる。そして更に下流側のコロ軸16(16b、16c、16d、16e)の軸径を徐々に小さく形成し、軸表面が基板下面から徐々に離れるように構成してもよい。
Moreover, in the said embodiment, although the plate member 20 (or plate member 21) was provided as an electrode part, in the board | substrate conveyance apparatus of this invention, it is not limited to the form.
For example, instead of providing the plate member 20 (plate member 21) as the electrode portion, the shaft surface exposed between the
That is, as shown in FIGS. 4 and 5, the diameter of the
尚、前記コロ軸16aの軸表面の上端高さ位置は、ステージ3の上面の高さ位置と一致するように構成することが好ましい。コロ軸16aの軸表面の上端高さ位置がステージ3の上面の高さ位置と一致するとは、その高さ位置が完全に一致している場合の他、コロ軸16aの軸表面の上端高さ位置が、ステージ3の上面に対し−1.0mm〜+0mmの範囲内でずれている場合も含まれる。
また、コロ軸16の軸表面は、SUSまたはアルミニウム等により形成されていることが望ましい。
The upper end height position of the shaft surface of the
Moreover, it is desirable that the shaft surface of the
このように構成することによっても、基板Gの後端部が浮上ステージ3上から抜ける際に、極板として機能する前記基板Gへの対向面積を徐々に減少させることができる。
したがって、基板Gと浮上ステージ3との間に形成されていた静電容量が急激に減少することなく、電圧の突発的な上昇、電荷の放電が抑制され、配線パターン破損等の基板Gへの悪影響を防止することができる。
Also with this configuration, when the rear end portion of the substrate G comes off from the
Therefore, the electrostatic capacitance formed between the substrate G and the
また、上記実施形態にあっては、本発明にかかる基板搬送装置をレジスト塗布処理ユニットに適用した場合を例にとって説明したが、本発明にかかる基板搬送装置は、このユニットに限定されることなく、他の基板処理ユニット等においても好適に用いることができる。 Moreover, in the said embodiment, although the case where the board | substrate conveyance apparatus concerning this invention was applied to the resist coating processing unit was demonstrated to the example, the board | substrate conveyance apparatus concerning this invention is not limited to this unit. Also, it can be suitably used in other substrate processing units.
Claims (8)
前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、
基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って基板をコロ搬送するコロ搬送部とを備え、
前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されるガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の側部を保持する一対の基板キャリアとを有し、
前記コロ搬送部は、前記浮上ステージの後段において基板搬送方向に並列に配置され、回転可能に設けられた複数のコロ軸と、各コロ軸に所定間隔ごとに設けられ、前記コロ軸の駆動により回転可能な複数の搬送コロと、前記搬送コロの間に前記浮上ステージの高さに一致して設けられた、搬送される基板との対向面積が基板搬送方向に向かって減少する電極部とを有することを特徴とする基板搬送装置。 A substrate transfer device for transferring and transferring a substrate to be processed,
A levitation transport unit for transporting the substrate in a levitated state;
A roller transport unit that is disposed downstream of the levitation transport unit along the substrate transport direction, receives the substrate from the levitation transport unit, and rolls the substrate;
The levitation transport unit is provided movably along a levitation stage that levitates the substrate by gas injection or injection and suction, and guide rails arranged in parallel to the left and right sides of the levitation stage, A pair of substrate carriers that hold the sides of the substrate;
The roller transport unit is arranged in parallel with the substrate transport direction at the subsequent stage of the levitation stage, and is provided with a plurality of roller shafts rotatably provided at predetermined intervals on each roller shaft. A plurality of rotatable transport rollers, and an electrode portion provided between the transport rollers so as to coincide with the height of the levitation stage and having an opposing area with the transported substrate that decreases in the substrate transport direction. A substrate transfer device comprising:
各コロ軸に沿って配置される前記板部材の数は、基板搬送方向の下流側がより少ないことを特徴とする請求項1に記載された基板搬送装置。 The electrode portion is constituted by a plurality of rectangular plate members provided in accordance with the height of the floating stage between the adjacent conveyance rollers,
2. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the number of the plate members arranged along each roller axis is smaller on the downstream side in the substrate transfer direction.
前記複数の板部材は、前記基板搬送方向に並列に配置された複数のコロ軸に跨り、基板幅方向に沿って一列に配置されると共に、基板搬送方向に向かって平面視上先細り形状となされていることを特徴とする請求項1に記載された基板搬送装置。 The electrode portion is constituted by a plurality of triangular plate members provided in accordance with the height of the floating stage between the adjacent conveyance rollers,
The plurality of plate members straddle a plurality of roller shafts arranged in parallel in the substrate transport direction, are arranged in a line along the substrate width direction, and have a tapered shape in plan view toward the substrate transport direction. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the substrate transfer apparatus is provided.
前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、
基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って基板をコロ搬送するコロ搬送部とを備え、
前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されるガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の側部を保持する一対の基板キャリアとを有し、
前記コロ搬送部は、前記浮上ステージの後段において基板搬送方向に並列に配置され、回転可能に設けられた複数のコロ軸と、各コロ軸に所定間隔ごとに設けられ、前記コロ軸の駆動により回転可能な複数の搬送コロと、前記搬送コロ間に露出する軸表面より構成された電極部とを有し、
前記基板搬送方向に並列に配置された複数のコロ軸は、下流側のコロ軸ほど軸径がより小さく形成され、前記搬送コロ上を搬送される基板との前記電極部の対向面積が基板搬送方向に向かって減少することを特徴とする基板搬送装置。 A substrate transfer device for transferring and transferring a substrate to be processed,
A levitation transport unit for transporting the substrate in a levitated state;
A roller transport unit that is disposed downstream of the levitation transport unit along the substrate transport direction, receives the substrate from the levitation transport unit, and rolls the substrate;
The levitation transport unit is provided movably along a levitation stage that levitates the substrate by gas injection or injection and suction, and guide rails arranged in parallel to the left and right sides of the levitation stage, A pair of substrate carriers that hold the sides of the substrate;
The roller transport unit is arranged in parallel with the substrate transport direction at the subsequent stage of the levitation stage, and is provided with a plurality of roller shafts rotatably provided at predetermined intervals on each roller shaft. It has a plurality of rotatable transport rollers and an electrode part composed of a shaft surface exposed between the transport rollers,
The plurality of roller shafts arranged in parallel in the substrate transport direction are formed such that the downstream roller shaft has a smaller shaft diameter, and the area of the electrode portion facing the substrate transported on the transport roller is the substrate transport A substrate transfer device that decreases in a direction.
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