JP4770302B2 - レーザ走査光学装置 - Google Patents
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Description
3≦√(2dw+w^2)≦15 ・・・(1)
15≦d≦50 ・・・(2)
w<2.5 ・・・(3)
3≦√(2dw+w^2)≦15 ・・・(1)
15≦d≦50 ・・・(2)
w<2.5 ・・・(3)
を満たすようにd及びwを設定することにより、光源部2と同期検出器3との位置関係及び調整幅を最適化して、基板1の小型化によるレーザ走査光学装置の低コスト化、省スペース化を達成することが可能となる。例えば同期検出器3の有効検出幅wが2mm、光源部2の中心2cからビーム走査位置までの最短距離dが20mmである場合、最大調整幅Aを9.2mmに設定すれば良い。
2 光源部
2c 回転中心
3 同期検出器(同期検出手段)
4 ポリゴンミラー(偏向手段)
5 走査光学系
5a 第1fθレンズ
5b 第2fθレンズ
6 第1折り返しミラー(光路変更手段)
7 第2折り返しミラー(光路変更手段)
8 入射光学系
9 コリメータレンズ
10 シリンドリカルレンズ
Claims (7)
- 光源部から射出されるビームを偏向走査する偏向手段と、該偏向手段により偏向されたビームの光路に配設されビームを被走査面上に結像させる走査光学系と、該走査光学系を通過したビームの一部を前記被走査面の有効露光領域外において検出する同期検出手段と、を備え、
前記同期検出手段により検出された検出信号を主走査方向の同期に用いるレーザ走査光学装置において、
前記光源部及び前記同期検出手段は同一基板上に配置され、前記基板はその平面内で回動可能に支持されるとともに、前記偏向手段から前記同期検出手段までの光路上にはビームの光路を変更する複数の平面ミラーが配置されており、前記同期検出手段上を走査するビームの走査方向は、前記偏向手段から第1番目の前記平面ミラーに至るビームの走査平面に対し略垂直であることを特徴とするレーザ走査光学装置。 - 前記基板は、前記光源部の略中心を回転中心として回動可能に構成されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ走査光学装置。
- 前記回転中心から前記同期検出手段上を走査するビームの走査位置までの最短距離をd、前記同期検出手段の有効検出幅をwとするとき、以下の条件式(1)乃至(3)を満たすことを特徴とする請求項2に記載のレーザ走査光学装置。
3≦√(2dw+w^2)≦15 ・・・(1)
15≦d≦50 ・・・(2)
w<2.5 ・・・(3) - 前記同期検出手段上を走査するビームは副走査方向に集光されることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- 前記光源部から射出されるビームは、前記同期検出手段に至るまでに少なくとも1つの前記光路変更手段を介して略直角に折り曲げられることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- 前記光源部から射出されるビームを集光して偏向手段に入射させる入射光学系が、前記光源部と一体に設けられることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- 前記基板は、前記入射光学系から前記偏向手段に至るビームの光軸を回転軸として回動することを特徴とする請求項6に記載のレーザ走査光学装置。
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