JP4769448B2 - 干渉計を備えた露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の別の側面としての露光装置は、投影光学系と、計測用パターンを照明する照明光学系と、前記計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導き、前記投影光学系からの光によって形成される干渉縞を検出して前記投影光学系の光学性能を測定する測定手段とを有する露光装置であって、前記計測用パターンを照明する光は、前記計測用パターンの短手方向と長手方向で最大入射角度が異なることを特徴とする。
114a σ絞り
114b 計算機ホログラム
116 オプティカルインテグレータ
119 レンズ
150 投影光学系
170 測定装置
Claims (12)
- 投影光学系と、
計測用パターンを照明する照明光学系と、
前記計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導き、前記投影光学系からの光によって形成される干渉縞を検出して前記投影光学系の光学性能を測定する測定手段とを有する露光装置であって、
前記計測用パターンを照明する光が前記計測用パターンの短手方向と長手方向で開口数が異なるように、前記計測用パターンを照明する前記光の開口数を調節することを特徴とする露光装置。 - 前記計測用パターンの前記短手方向を照明する前記光の開口数をNA1、前記投影光学系の前記計測用パターン側の開口数をNAo、σ1をNA1/NAoとすると、σ1≦0.3を満足するように、前記光の開口数を調節することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記投影光学系の前記計測用パターン側の開口数をNAo、前記計測用パターンの前記長手方向を照明する前記光の開口数をNA2、σ2をNA2/NAoとすると、σ2≧1となるか前記計測用パターンを照明する前記光の開口数が最大となるように、前記光の開口数を調節することを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。
- 前記測定手段は、回折格子を有し、前記計測用パターンを前記投影光学系により前記回折格子の近傍に結像させるシアリング干渉計であり、
前記干渉縞は、前記回折格子から射出した2つ以上の異なる次数の光により形成され、前記計測用パターンの前記短手方向は前記回折格子の格子パターンが並んでいる方向であることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか一項記載の露光装置。 - 前記光の前記開口数を調節する開口絞りを更に有することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 前記光の前記開口数を調節するスリット形状の開口を有する開口絞りを更に有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 光路から退避可能に設けられ、前記光の前記開口数を調節するための計算機ホログラムを更に有することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 光路から退避可能に設けられ、前記光の前記開口数を変更するレンズを更に有することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 前記レンズはシリンドリカルレンズであることを特徴とする請求項8記載の露光装置。
- 前記露光装置は、前記計測用パターンと、マスクと被露光体とのアライメントに使用するアライメントマークと、を照明するアライメントスコープを更に有することを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 投影光学系と、
計測用パターンを照明する照明光学系と、
前記計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導き、前記投影光学系からの光によって形成される干渉縞を検出して前記投影光学系の光学性能を測定する測定手段とを有する露光装置であって、
前記計測用パターンを照明する光は、前記計測用パターンの短手方向と長手方向で最大入射角度が異なることを特徴とする露光装置。 - 請求項1乃至11のうちいずれか一項記載の露光装置を利用して被露光体を露光するステップと、
前記露光された前記被露光体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004296973A JP4769448B2 (ja) | 2004-10-08 | 2004-10-08 | 干渉計を備えた露光装置及びデバイス製造方法 |
US11/246,036 US7417712B2 (en) | 2004-10-08 | 2005-10-06 | Exposure apparatus having interferometer and device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004296973A JP4769448B2 (ja) | 2004-10-08 | 2004-10-08 | 干渉計を備えた露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006108597A JP2006108597A (ja) | 2006-04-20 |
JP4769448B2 true JP4769448B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=36377923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004296973A Expired - Fee Related JP4769448B2 (ja) | 2004-10-08 | 2004-10-08 | 干渉計を備えた露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7417712B2 (ja) |
JP (1) | JP4769448B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20210114037A (ko) * | 2019-03-13 | 2021-09-17 | 오므론 가부시키가이샤 | 센서 헤드 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4666982B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2011-04-06 | キヤノン株式会社 | 光学特性測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4797764B2 (ja) * | 2006-04-14 | 2011-10-19 | 株式会社ニコン | 露光装置の較正方法及び露光装置 |
JP5063229B2 (ja) * | 2007-07-12 | 2012-10-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5219534B2 (ja) * | 2008-01-31 | 2013-06-26 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
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KR101941987B1 (ko) * | 2011-12-26 | 2019-01-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 노광 장치 |
JP6980562B2 (ja) * | 2018-02-28 | 2021-12-15 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置、アライメントマークの検出方法及びパターン形成方法 |
CN115390364A (zh) * | 2022-07-22 | 2022-11-25 | 北京华卓精科科技股份有限公司 | 曝光周期调整装置及方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5764139A (en) | 1980-10-08 | 1982-04-19 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Interferometer |
JP3414763B2 (ja) * | 1991-10-08 | 2003-06-09 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法、並びに回路素子形成方法 |
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JP3796368B2 (ja) | 1999-03-24 | 2006-07-12 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
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2004
- 2004-10-08 JP JP2004296973A patent/JP4769448B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-10-06 US US11/246,036 patent/US7417712B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060119821A1 (en) | 2006-06-08 |
US7417712B2 (en) | 2008-08-26 |
JP2006108597A (ja) | 2006-04-20 |
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A621 | Written request for application examination |
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