JP4751753B2 - レンズアレイの製造方法、レンズアレイ、及び固体撮像素子 - Google Patents
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Description
上凸レンズは、例えば、シリコン基板上に形成した電荷転送電極や遮光膜による段差を絶縁膜によって埋めて平坦化した後、この平坦化された絶縁膜上に形成される。図1の符号15で示される膜が、上凸レンズの形成面を構成する平坦化された絶縁膜(以下、平坦化膜15という)である。
図1(a)において、平坦化膜15の材料を窒化シリコンとし、レンズ材料膜16の材料を窒化シリコンとし、レンズ材料膜16の膜厚を0.4μmとし、パターン間の距離を0.3μmとし、次のような条件でスパッタエッチングを行って上凸レンズを作製した。この結果、レンズ材料膜16のパターン間にVoidが発生するのを抑制することができた。又、孔部kの底部に反応性生物を堆積させることができ、ギャップレスの上凸レンズを形成することができた。
<スパッタエッチング条件>
ガス組成:Ar(750sccm)、CF4(25sccm)、CHF3(50sccm)
圧力:500mTorr
RFパワー:900W
RF周波数:0.38MHz
サセプタ温度:0℃
図1(a)において、平坦化膜15の材料を酸化シリコンとし、レンズ材料膜16の材料を酸化シリコンとし、レンズ材料膜16の膜厚を0.6μmとし、パターン間の距離を0.3μmとし、次のような条件でスパッタエッチングを行って上凸レンズを作製した。この結果、レンズ材料膜16のパターン間にVoidが発生するのを抑制することができた。又、孔部kの底部に反応性生物を堆積させることができ、ギャップレスの上凸レンズを形成することができた。
<スパッタエッチング条件>
ガス組成:Ar(300sccm)、CHF3(40sccm)、CF4(20sccm)
圧力:500mTorr
RFパワー:900W
RF周波数:0.38MHz
サセプタ温度:−10℃
16 レンズ材料膜
17 絶縁膜
k 孔部
Claims (3)
- 平坦面上に多数の集光レンズを配列したレンズアレイの製造方法であって、
前記平坦面上に無機のレンズ材料膜のパターンを形成するレンズパターン形成工程と、
不活性ガスにCxHyFz系の反応性ガス(x>0,y≧0,z>0)を添加したガスを用いたスパッタエッチングにより、前記無機のレンズ材料膜のパターンを変形させると共に、前記反応性ガスと前記無機のレンズ材料との反応生成物を前記パターン間に堆積させて前記多数の集光レンズを形成するレンズ形成工程とを含み、
前記無機のレンズ材料が酸化シリコン又は窒化シリコンであり、
前記不活性ガスがアルゴンガスであり、
前記反応性ガスが、CF 4 とCHF 3 であるレンズアレイの製造方法。 - 請求項1記載の製造方法によって製造されたレンズアレイ。
- 請求項2記載のレンズアレイを備える固体撮像素子。
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