JP4742580B2 - フィルムおよびそれを用いた積層体 - Google Patents

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Description

本発明は、フィルムおよびそれを用いた積層体に関する。さらに詳しくは、フレキシブル配線基板等に用いられるフィルムおよびそれを用いた積層体に関する。
フレキシブル配線基板用の積層体における電気絶縁フィルムとして、ポリイミドフィルムが使用されており、例えば、金属箔等の導体からなる層とポリイミドフィルムからなる層とが、直接接して又は接着剤を介して積層されてなる積層体などが知られている。しかしながら、ポリイミドフィルムは、耐熱性、寸法安定性の点で十分ではなく、この点の改良が求められていた。(非特許文献1)。また、導体上にポリイミド樹脂前駆体溶液を塗布した後、溶媒を除去することにより、導体からなる層とポリイミドフィルムからなる層とが直接接して積層されてなる積層体を製造する方法も知られている(特許文献1)。しかしながら、この積層体の製造方法においては、前駆体がポリイミドに変換される際に体積収縮が起こるため、カールした積層体が得られるという問題があった。
特開昭58−190093号公報 日本ポリイミド研究会編 最新ポリイミド−基礎と応用−、第549頁(2002).
本発明の目的は、耐熱性、寸法安定性に優れ、積層体製造時のカールを抑制することができるフィルムを提供することにあり、またそのフィルムを用いた積層体を提供することにある。
本発明者らは、上記の課題を解決すべく、フィルムの構成成分について鋭意研究を重ねた結果、液晶ポリエステルとポリイミドとの樹脂アロイを含有するという特定のフィルムが、耐熱性、寸法安定性に優れ、積層体製造時のカールを抑制することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、下記のフィルム、液状組成物および積層体を提供するものである。
<1>(A)液晶ポリエステルと(B)ポリイミドとの樹脂アロイを含有することを特徴とするフィルム。
<2>さらに(C)無機フィラーを含有する前記のフィルム。
<3>樹脂アロイ100重量部に対して、(C)無機フィラーの含量が0〜100重量部である前記のフィルム。
<4>(C)無機フィラーがホウ酸アルミニウム、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、酸化亜鉛、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ガラス繊維およびアルミナ繊維からなる群より選ばれる1種以上である前記のフィルム。
<5>(A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸および(D)有機溶媒を含有することを特徴とする液状組成物。
<6>さらに(C)無機フィラーを含有する前記の液状組成物。
<7>(A)液晶ポリエステルと(B’)ポリアミド酸との和100重量部に対して、(C)無機フィラーの含量が0〜100重量部である前記の液状組成物。
<8>(C)無機フィラーがホウ酸アルミニウム、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、酸化亜鉛、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ガラス繊維およびアルミナ繊維からなる群より選ばれる1種以上である前記の液状組成物。
<9>液晶ポリエステルおよびポリアミド酸溶液を混合して得られる液状組成物。
<10>液晶ポリエステル溶液およびポリアミド酸溶液を混合して得られる液状組成物。
<11>液晶ポリエステル、ポリアミド酸溶液および無機フィラーを混合して得られる液状組成物。
<12>液晶ポリエステル溶液、ポリアミド酸溶液および無機フィラーを混合して得られる液状組成物。
<13>前記いずれかに記載の液状組成物を支持体上に流延したのちに、溶媒を除去し、次いで加熱処理し、支持体を剥離して得られるフィルム。
<14>前記いずれかに記載のフィルムからなる層を有することを特徴とする積層体。
<15>導体からなる層とフィルムからなる層とが直接接して積層されてなる積層体であって、該フィルムからなる層のうち少なくとも一層が前記の<1>、<2>、<3>、<4>または<13>のいずれかに記載のフィルムである前記の<14>に記載の積層体。
<16>導体からなる層とフィルムからなる層とが接着剤を介して積層されてなる積層体であって、該フィルムからなる層のうち少なくとも一層が前記の<1>、<2>、<3>、<4>または<13>のいずれかに記載のフィルムである前記の<14>に記載の積層体。
本発明のフィルムは、耐熱性が高く、また線膨張率が低く寸法安定性に優れ、さらに本発明のフィルムからなる層を有する積層体も寸法安定性に優れる。本発明のフィルムおよびそれを用いた積層体は、電気、電子分野において、フレキシブル配線基板(FPC)、フィルムキャリア、高密度磁気テープ素材、電線被覆剤、フィルムコンデンサーなどに用いることができ、工業的に極めて有用である。
以下、本発明について説明する。
本発明のフィルムは、(A)液晶ポリエステルと(B)ポリイミドとの樹脂アロイからなるフィルムである。ここでいう樹脂アロイは、これらの樹脂が混合されてなるものであり、これらの樹脂同士の一部または全部が互いに結合しているものであってもよい。
本発明に使用される(A)液晶ポリエステルは、サーモトロピック液晶ポリマーと呼ばれるポリマーであり、450℃以下の温度で光学的に異方性を示す溶融体を形成するものである。
(A)液晶ポリエステルとしては、例えば、
(1)芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、および芳香族ジオールを重合させて得られるもの、
(2)同種または異種の芳香族ヒドロキシカルボン酸を重合させて得られるもの、
(3)芳香族ジカルボン酸および芳香族ジオールを重合させて得られるもの、
(4)ポリエチレンテレフタレートなどの結晶性ポリエステルに芳香族ヒドロキシカルボン酸を反応させて得られるもの、
(5)芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、およびフェノール性水酸基を有する芳香族アミンを重合させて得られるもの、
(6)芳香族ジカルボン酸およびフェノール性水酸基を有する芳香族アミンを重合させて得られるもの、
(7)芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、および芳香族ジアミンを重合させて得られるもの、
(8)芳香族ジカルボン酸および芳香族ジアミンを重合させて得られるもの
(尚、上記(8)のものは一般にはポリアミドと称されるが、本発明ではこのものを含めて液晶ポリエステルと称する。)
などが挙げられる。本発明においては、上記(5)、(6)、(7)または(8)の液晶ポリエステルを用いると、得られるフィルムが、特に耐熱性および寸法安定性に優れ、好ましい。
なお、これらの芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオールおよびフェノール性水酸基を有する芳香族アミンの代わりに、それらのエステル形成性誘導体もしくはアミド形成性誘導体を使用してもよい。
ここで、カルボン酸のエステル形成性誘導体もしくはアミド形成性誘導体としては、例えば、カルボキシル基が、ポリエステル生成反応もしくはポリアミド生成反応を促進するような酸塩化物、酸無水物などの反応性が高い誘導体となっているもの、カルボキシル基が、エステル交換反応もしくはアミド交換反応によりポリエステルもしくはポリアミドを生成するようなアルコール類やエチレングリコール、アミンなどとエステルもしくはアミドを形成しているものなどが挙げられる。
また、フェノール性水酸基のエステル形成性誘導体としては、例えば、エステル交換反応によりポリエステルを生成するように、フェノール性水酸基がカルボン酸類とエステルを形成しているものなどが挙げられる。
さらに、アミノ基のアミド形成性誘導体としては、例えば、アミド交換反応によりポリアミドを生成するようなカルボン酸類とアミドを形成しているものなどが挙げられる。
また、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオールおよびフェノール性水酸基を有する芳香族アミン、芳香族ジアミンは、エステル形成性もしくはアミド形成性を阻害しない程度であれば、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基などで置換されていてもよい。
上記(A)液晶ポリエステルの繰り返し構造単位としては、下記のものを例示することができるが、これらに限定されるものではない。
芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰り返し構造単位:
Figure 0004742580
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
芳香族ジカルボン酸に由来する繰り返し構造単位:
Figure 0004742580
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
芳香族ジオールに由来する繰り返し構造単位:
Figure 0004742580
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
フェノール性水酸基を有する芳香族アミンに由来する繰り返し構造単位:
Figure 0004742580
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
芳香族ジアミンに由来する繰り返し構造単位:
Figure 0004742580

Figure 0004742580
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
なお、繰り返し構造単位に置換されていてもよいアルキル基としては、例えば炭素数1〜10のアルキル基が通常用いられ、中でもメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基が好ましい。繰り返し構造単位に置換されていてもよいアリール基としては、例えば炭素数6〜20のアリール基が通常用いられ、中でもフェニル基が好ましい。
本発明のフィルムの耐熱性、寸法安定性をバランス良く向上させるためには、(A)液晶ポリエステルは、前記(A1)、(A3)、(B1)、(B2)または(B3)式で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
ここで前記繰り返し単位を含む構造単位の好ましい組み合わせとしては、例えば、下記(a)〜(d)が挙げられる。
(a):
前記繰り返し構造単位(A1)、(B2)および(D1)の組み合わせ、
前記繰り返し構造単位(A3)、(B2)および(D1)の組み合わせ、
前記繰り返し構造単位(A1)、(B1)、(B2)および(D1)の組み合わせ、
前記繰り返し構造単位(A3)、(B1)、(B2)および(D1)の組み合わせ、
前記繰り返し構造単位(A3)、(B3)および(D1)の組み合わせ、または、
前記繰り返し構造単位(B1)、(B2)または(B3)および(D1)の組み合わせ。
(b):前記(a)の組み合わせのそれぞれにおいて、(D1)の一部または全部を(D2)に置換した組み合わせ。
(c):前記(a)の組み合わせのそれぞれにおいて、(A1)の一部を(A3)に置換した組み合わせ。
(d):前記(a)の組み合わせのそれぞれにおいて、(D1)の一部または全部を(E1)または(E5)に置換した組み合わせ。
さらに好ましい組み合わせとしては、p−ヒドロキシ安息香酸および2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に由来する繰り返し構造単位30〜80モル%、4−ヒドロキシアニリンおよび4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に由来する繰り返し構造単位10〜35モル%、テレフタル酸およびイソフタル酸からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に由来する繰り返し構造単位10〜35モル%からなることがより好ましく、更には、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸に由来する繰り返し構造単位30〜80モル%、4−ヒドロキシアニリンに由来する繰り返し構造単位10〜35モル%、イソフタル酸に由来する繰り返し構造単位10〜35モル%からなることが特に好ましい。
また、(A)液晶ポリエステルの重量平均分子量は、特に限定されないが、通常100000〜500000程度である。
本発明に用いられる(A)液晶ポリエステルの製造方法は、特に限定されないが、例えば、芳香族ヒドロキシカルボン酸や芳香族ジオール、フェノール性水酸基を有する芳香族アミン、芳香族ジアミンを過剰量の脂肪酸無水物によりアシル化してアシル化物を得、得られたアシル化物と、芳香族ヒドロキシカルボン酸および/または芳香族ジカルボン酸とをエステル交換・アミド交換することにより重合する方法が挙げられる。
アシル化反応においては、脂肪酸無水物の添加量がフェノール性水酸基とアミノ基の総計の1.0〜1.2倍当量であることが好ましく、より好ましくは1.05〜1.1倍当量である。脂肪酸無水物の添加量が少ないと、エステル交換・アミド交換による重合時にアシル化物や芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸などが昇華し、反応装置の配管等が閉塞し易い傾向があり、また、脂肪酸無水物の添加量が多すぎると、得られる液晶ポリエステルの着色が著しくなる可能性がある。
アシル化反応は、130〜180℃で5分間〜10時間反応させることが好ましく、140〜160℃で10分間〜3時間反応させることがより好ましい。
アシル化反応に使用される脂肪酸無水物は、特に限定されないが、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水吉草酸、無水ピバル酸、無水2エチルヘキサン酸、無水モノクロル酢酸、無水ジクロル酢酸、無水トリクロル酢酸、無水モノブロモ酢酸、無水ジブロモ酢酸、無水トリブロモ酢酸、無水モノフルオロ酢酸、無水ジフルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水β−ブロモプロピオン酸などが挙げられ、これらは2種類以上を混合して用いてもよい。価格と操作性の観点から、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、または無水イソ酪酸が好ましく、より好ましくは、無水酢酸である。
エステル交換・アミド交換による重合においては、アシル化物のアシル基がカルボキシル基の0.8〜1.2倍当量であることが好ましい。また重合温度は、400℃以下で行うことが好ましく、さらに好ましくは350℃以下である。また、昇温時の昇温速度は、0.1〜50℃/分であることが好ましく、さらに好ましくは0.3〜5℃/分である。また、この際、平衡を移動させるため、副生する脂肪酸と未反応の脂肪酸無水物は、蒸発させるなどして系外へ留去することが好ましい。
なお、アシル化反応、エステル交換・アミド交換による重合は、触媒の存在下に行ってもよい。前記触媒としては、従来からポリエステルの重合用触媒として公知のものを使用することができ、例えば、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモンなどの金属塩触媒、N,N−ジメチルアミノピリジン、N−メチルイミダゾールなどの有機化合物触媒などを挙げることができる。触媒は、通常、アシル化反応時に存在させ、アシル化反応後も除去することは必ずしも必要ではなく、前記触媒を除去しない場合にはそのまま次の処理を行うことができる。また次の処理を行うときに、前記のような触媒をさらに添加してもよい。
エステル交換・アミド交換による重合は、通常、溶融重合により行われるが、溶融重合と固相重合とを併用してもよい。固相重合は、溶融重合工程からポリマーを抜き出し、固化後、粉砕してパウダー状もしくはフレーク状にした後、公知の固相重合方法により行うことができる。具体的には、例えば、窒素などの不活性雰囲気下、20〜350℃で、1〜30時間固相状態で熱処理する方法などが挙げられる。固相重合は、攪拌しながらでも、攪拌することなく静置した状態で行ってもよい。なお適当な攪拌機構を備えることにより溶融重合槽と固相重合槽とを同一の反応槽とすることもできる。固相重合後、得られた液晶ポリエステルは、公知の方法によりペレット化して使用してもよい。
(A)液晶ポリエステルの製造は、例えば、回分装置、連続装置等を用いて行うことができる。
また、本発明のフィルムを構成する(B)ポリイミドは、下記式(a3)で示されるテトラカルボン酸二無水物および下記式(a4)で示されるジアミンを重合して得られる。
Figure 0004742580
(式中、Ar1は、芳香族を含有する基および/または環状脂肪族を含有する基であり、Ar2は芳香族を含有する基および/または環状脂肪族を含有する基である。)
Ar1における芳香族を含有する基および/または環状脂肪族を含有する基は4価の基であり、一つの分子中のAr1は複数の芳香環および/または単環式飽和炭化水素環が縮合していたり、結合しあっていてもよい。
式(a3)で示されるテトラカルボン酸二無水物としては、その具体例として、以下の式F1〜F11で示される構造を有するものが挙げられ、これらのうちの2種以上を用いることもできる。
Figure 0004742580

Figure 0004742580
Ar2における芳香族を含有する基および/または環状脂肪族を含有する基は2価の基であり、一つの分子中のAr2は複数の芳香環および/または単環式飽和炭化水素環が縮合していたり、結合しあっていてもよい。
式(a4)で示されるジアミンとしては、その具体例として、以下の式G1〜G13で示される構造を有するもの等が挙げられ、これらのうちの2種以上を用いることもできる。
Figure 0004742580

Figure 0004742580
本発明のフィルムの耐熱性、寸法安定性をバランス良く向上させるためには、(B)ポリイミドを得るための、前記テトラカルボン酸二無水物と前記ジアミンの好ましい組み合わせとしては、例えば、下記(d)〜(I)が挙げられる。
(d):前記(F1)、および前記(G1)からなる組み合わせ。
(e):前記(F1)、および前記(G5)からなる組み合わせ。
(f):前記(F2)、および前記(G1)からなる組み合わせ。
(g):前記(F2)、および前記(G5)からなる組み合わせ。
(h):前記(d)および(e)において、(F1)の一部を(F2)に置換した組み合わせ、前記(d)および(f)において、(G1)の一部を(G5)に置換した組み合わせ。
(I):前記(d)において、(F1)の一部を(F2)に置換し、かつ(G1)の一部を(G5)に置換した組み合わせ。
前記(B)ポリイミドは、前記式(a3)で示されるテトラカルボン酸二無水物および前記式(a4)で示されるジアミンを反応させて得られる(B’)ポリアミド酸を、さらに加熱処理するか、化学閉環剤によって処理することにより、得られる。
ここで、式(a3)で示されるテトラカルボン酸二無水物と式(a4)で示されるジアミンとの使用モル比率は、1:1.3〜1:0.85が好ましく、1:1.25〜1:0.95がより好ましい。化学量論的には、1:1のモル比であるのが最適であるが、これらの成分のうち一方を他方に対して少々過剰に使用してもよい。
また、本発明のフィルムは、上記の(A)液晶ポリエステルと(B)ポリイミドとの樹脂アロイの他に(C)無機フィラーを含有することができる。
(C)無機フィラーとしては、ホウ酸アルミニウム、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、酸化亜鉛、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ガラス繊維およびアルミナ繊維が挙げられる。これらの無機フィラーの形状としては、平均粒子径(D)×平均粒子長(L)が0.05μm×0.5μm〜5μm×20μmで、アスペクト比(L/D)が4〜400のものを用いることが好ましい。さらに好ましくはアスペクト比が50〜400のものである。また、平均粒子径(D)×平均粒子長(L)が0.05μm×0.5μmより小さいと無機フィラーの分散性が悪化する傾向にあり、また5μm×20μmより大きいとフィルムの機械強度が低下の傾向にあるため好ましくない。さらに、無機フィラーと樹脂との相溶性、接着性を高めるために、表面をシランカップリング剤等で表面処理したものを用いても差し支えない。
(C)無機フィラーを用いる場合、その含有量は、(B)ポリイミドの前駆体である(B’)ポリアミド酸と(A)の総重量部100に対し、(C)無機フィラーを0〜100重量部の割合で配合することが好ましく、さらに好ましくは0〜40重量部の範囲である。これらの配合割合において、無機フィラーの使用量が100重量部を上回るとフィルムの機械強度が低下する傾向がある。
次に上記した(A)液晶ポリエステル、(B)ポリイミド、必要に応じて存在させる(C)無機フィラーからなる本発明のフィルムの製造方法について説明する。
本発明のフィルムは、例えば(A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸、必要に応じて存在させる(C)無機フィラーおよび(D)有機溶媒からなる液状組成物を支持体上に流延したのちに、溶媒を除去し、次いで加熱処理し、支持体を剥離して製造することができる。
(A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸および(D)有機溶媒を含有する液状組成物の調製方法としては、液晶ポリエステルおよびポリアミド酸溶液を混合して調製する方法が好ましい。
前記ポリアミド酸溶液の調製は、前記式(a3)で示されるテトラカルボン酸二無水物および前記式(a4)で示されるジアミンを、(D)有機溶媒の存在下に、反応させて得ることが好ましく、前記式(a3)で示されるテトラカルボン酸二無水物を(D)有機溶媒に溶解させた溶液および前記式(a4)で示されるジアミンを(D)有機溶媒に溶解させた溶液を混合し、反応させることがより好ましい。
かかるポリアミド酸の製造段階においては、反応温度は0〜100℃、好ましくは10〜50℃、反応時間は1〜24時間の範囲とすればよく、反応の終点は、IRによる酸無水物の特性吸収ピークの強度により判断することができる。
液晶ポリエステルおよびポリアミド酸溶液を混合する際には、固体の液晶ポリエステルをポリアミド酸溶液に投入して溶解させてもよいが、予め液晶ポリエステルを(D)有機溶媒に溶解させた液晶ポリエステル溶液を調製しておき、前記液晶ポリエステル溶液および前記ポリアミド酸溶液を混合する方法が好ましい。
液晶ポリエステルおよびポリアミド酸溶液を混合する際の混合温度は通常0〜100℃、好ましくは10〜50℃であり、混合時間は1〜24時間の範囲とすればよい。
また、(C)無機フィラーを用いる場合は、上記した液晶ポリエステルおよびポリアミド酸溶液の液状組成物に、さらに上記した無機フィラーを添加、攪拌して調製する方法が好ましい。
ここで(D)有機溶媒としては、(A)液晶ポリエステルおよび(B’)ポリアミド酸のいずれをも溶解するものであれば特に限定されないが、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチルプロピオンアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチルラクトン、ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチルホスホリックアミド、およびエチルセロソルブアセテート、ならびにパラクロロフェノールなどのハロゲン化フェノール類などが挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用できる。(D)有機溶媒の使用量は、(A)液晶ポリエステルおよび(B’)ポリアミド酸を溶解するのに十分な量があればよく、(A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸および(D)有機溶媒からなる液状組成物を調製する場合は、通常(D)有機溶媒以外のものが液状組成物に対して5〜50重量%となる量であり、好ましくは10〜20重量%となる量である。また、(A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸、(C)無機フィラーおよび(D)有機溶媒からなる液状組成物を調製する場合は、通常(D)有機溶媒以外のものが液状組成物に対して5〜50重量%となる量であり、好ましくは8〜35重量%となる量である。
本発明の(A)液晶ポリエステルと(B)ポリイミドとの樹脂アロイからなるフィルムにおける(A)液晶ポリエステルに基づく部分と(B)ポリイミドに基づく部分との重量比率は通常、[(A)液晶ポリエステルに基づく部分]:[(B)ポリイミドに基づく部分]=5:95〜95:5の範囲であり、好ましくは、[(A)液晶ポリエステルに基づく部分]:[(B)ポリイミドに基づく部分]=10:90〜30:70である。本発明の樹脂アロイからなるフィルムの製造に際しては、用いられる(A)液晶ポリエステルおよび(B’)ポリアミド酸は、フィルムの(A)液晶ポリエステルに基づく部分と(B)ポリイミドに基づく部分との重量比率が上記の範囲となるよう、適宜選択される。
また本発明の(A)液晶ポリエステルと(B)ポリイミドとの樹脂アロイおよび(C)無機フィラーからなるフィルムにおける(A)液晶ポリエステルに基づく部分と(B)ポリイミドに基づく部分と(C)無機フィラーとの重量比率に関しては通常、(A)液晶ポリエステルに基づく部分と(B)ポリイミドに基づく部分との重量比率は上記と同様であり、かつ、[(A)液晶ポリエステルに基づく部分]+[(B)ポリイミドに基づく部分]:[(C)無機フィラーに基づく部分]=100:0〜100:100の範囲であり、好ましくは[(A)液晶ポリエステルに基づく部分]+[(B)ポリイミドに基づく部分]:[(C)無機フィラーに基づく部分]=100:0〜100:40である。
また本発明の(A)液晶ポリエステルと(B)ポリイミドとの樹脂アロイおよび必要に応じて存在させる(C)無機フィラーからなるフィルムは、(A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸、必要に応じて存在させる(C)無機フィラーおよび(D)有機溶媒からなる液状組成物を支持体上に流延したのちに、溶媒を除去し、次いで加熱処理し、支持体を剥離して得ることができる。ここで、加熱処理することに替えて、化学閉環剤によって処理することにしてもよい。この場合の化学閉環剤としては、ポリアミド酸からポリイミドを得るのに使用されているものを用いることができ、例えば、ピリジン、無水酢酸、安息香酸等が用いられる。加熱処理する場合には、窒素雰囲気下で200〜450℃の温度範囲とするのがよい。
前記支持体としては、通常、ガラス等が用いられるが、導体を用いることもできる。かかる導体としては、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケルなどの金属板または金属箔が挙げられる。好ましくは、銅箔である。
前記液状組成物を支持体上に流延する方法としては、前記いずれかに記載の液状組成物を、必要に応じて、フィルターなどによってろ過し、液状組成物中に含まれる異物を除去した後、支持体上にローラーコート法、ディップコート法、スプレイコート法、スピナーコート法、カーテンコート法、スロットコート法、スクリーン印刷法等の各種手段により表面平滑かつ均一に流延し、その後、溶媒を除去することによって得ることができる。
また、前記溶媒を除去する方法としては、通常、溶媒の蒸発により行う。前記溶媒を蒸発する方法としては、加熱、減圧、通風などの方法が挙げられるが、中でも生産効率、操作性の点から加熱して蒸発せしめることが好ましく、通風しつつ加熱して蒸発せしめることがより好ましい。このときの温度および時間としては、50〜100℃で10分〜2時間予備乾燥を行う工程と、200〜450℃で30分ないし6時間熱処理を行う工程とを含むことが好ましい。
上記フィルムを製造する方法の一実施態様を以下に具体的に示す。すなわち、上記の方法により得られた(A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸および(D)有機溶媒を混合して得られた液状組成物をガラス板上に塗布し、80℃で1時間乾燥する。かくして得られたガラス板上のフィルムを窒素雰囲気中、200〜450℃で数分間〜数時間、好ましくは250〜350℃で1時間〜数時間加熱処理を行うことにより(A)液晶ポリエステルと(B)ポリイミドとの樹脂アロイを形成せしめ、ガラス板上からフィルムを剥離する。このようにして通常は褐色の樹脂アロイからなるフィルムが得られる。このようにして得られるフィルムの厚さとしては、(A)液晶ポリエステルおよび(B’)ポリアミド酸の固形分濃度、フィルムのアプリケーターのゲージ厚により異なるが、一般的には5〜50μmの厚さのものが得られる。また、(A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸、(C)無機フィラーおよび(D)有機溶媒からなる液状組成物をガラス板上に塗布した後は、上記と同様にして、(A)液晶ポリエステルと(B)ポリイミドとの樹脂アロイおよび(C)無機フィラーからなるフィルムを得ることができる。
また、上記で得られたフィルムの構成モノマーの分析は、例えば以下のようにして行うことができる。
本発明のフィルム200mgと、n−ブチルアミン5ml及びN−メチル−ピロリドン40mlとを混合し、熱をかけて還流することによりフィルムを溶解後、エバポレーターにより未反応のn−ブチルアミンを除去して、さらにN−メチル−ピロリドンを適量添加し、一定体積としたフィルム溶液100mlを調製する。前記フィルム溶液について、GCMS測定を行うことにより、モノマーの定性分析を行うことができる。また、前記フィルム溶液について、GC測定の検量線法により、モノマーの定量分析を行うことができる。また、分析の精度を高めるために、前記フィルム溶液にギ酸1mlを添加しておいてもよい。前記GCMS測定の条件としては以下の条件1が推奨され、前記GC測定の条件としては以下の条件2が推奨される。
条件1
GC装置:Agilent6890型
MSD装置:5973N型
カラム:UA−5(0.25mmφ×30m 膜厚25μ)
インターフェース温度(パイロライザー):320℃
注入モード:スプリット(100:1)
注入口温度:320℃
キャリアガスおよびその流量:He、1.0ml/分(定流量モード)
カラムオーブン温度:50℃から20℃/分で昇温し350℃で5分間保持
検出器:MSD
Aux温度:280℃
MS range:35〜550
条件2
装置:HP5890 seriesII型
カラム:BPX5(0.25mmφ×30m 膜厚25μ)
注入モード:スプリット(50:1)
注入口温度:280℃
カラムオーブン温度:50℃から20℃/分で昇温し350℃で5分間保持
検出器:FID
Aux温度:320℃
また本発明のフィルムを用いて、導体からなる層とフィルムからなる層とが接着剤を介して積層されてなる本発明の積層体は以下のようにして製造することができる。銅箔等の導体上に、接着剤を含有する溶液をリバースロールコーター、コンマコーター、ダイコーター等を用いて塗布し、例えば80℃〜120℃で3〜10分間の条件で乾燥し、例えば厚さ10〜40μm程度に接着剤が塗布された導体を得て、これと本発明のフィルムとを張り合わせて、ロールラミネーターにより加熱圧着し、必要に応じてアフターキュアーを行い、接着剤を完全硬化させることにより、本発明の積層体を製造することができる。また、本発明のフィルム上に接着剤を塗布し、これと導体を張り合わせる以外は上記と同様にして積層体を製造してもよい。また前記いずれかに記載の接着剤としては、エポキシ、フェノール、ポリエステル、NBR、アクリル、ポリイミド等からなる樹脂等を挙げることができる。
また本発明の液状組成物を銅箔等の導体上に流延し、加熱処理した後、導体の剥離を行わなければ、導体からなる層とフィルムからなる層とが直接接して積層されてなる本発明の積層体を得ることができる。
また、本発明の積層体は、本発明のフィルムに導体を蒸着する方法を用い、フィルムからなる層に導体からなる層を形成させることによっても、製造し得る。この場合、蒸着する方法としては、イオンビームスパッタリング法、高周波スパッタリング法、直流スパッタリング法、グロー放電法などが挙げられる。
また上記の本発明の積層体の銅箔上にレジストを用いて所望の回路を描き、酸性条件下で銅を溶解除去するエッチングを行い、さらに前記レジストを除去することにより銅回路を形成させ、その銅回路上にカバーフィルムを張り合わせることによって、フレキシブル配線基板を得ることができる。また、前記カバーフィルムに本発明のフィルムを用いることもできる。
以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明が実施例により限定されるものでないことは言うまでもない。
製造例1
攪拌装置、トルクメータ、窒素ガス導入管、温度計および還流冷却器を備えた反応器に、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸 941g(5.0モル)、4−アミノフェノール 273g(2.5モル)、イソフタル酸 415.3g(2.5モル)および無水酢酸 1123g(11モル)を仕込んだ。反応器内を十分に窒素ガスで置換した後、窒素ガス気流下で15分かけて150℃まで昇温し、温度を保持して3時間還流させた。
その後、留出する副生酢酸および未反応の無水酢酸を留去しながら170分かけて320℃まで昇温し、トルクの上昇が認められる時点を反応終了とみなし、内容物を取り出した。得られた固形分は室温まで冷却し、粗粉砕機で粉砕後、窒素雰囲気下250℃で3時間保持し、固相で重合反応を進めた。得られた粉末は350℃で偏向顕微鏡により液晶相に特有のシュリーレン模様が観察された。また前記粉末8gをN−メチル−2−ピロリドン92gに加え、120℃に加熱すると完全に溶解し透明な溶液が得られた。この溶液を溶液L1とした。
製造例2
窒素導入管、温度計、攪拌棒を備えた100ミリリットルの4つ口フラスコ内を窒素置換した後、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル 4.45g(22.2ミリモル)を仕込んだ。次いで、N−メチル−2−ピロリドン 106.84gを加え完全に溶解させた後、ピロメリット酸二無水物 4.84g(22.2ミリモル)を加え、25℃の反応温度で15時間攪拌すると、褐色で粘調なポリアミド酸溶液が得られた。この溶液を溶液L2とした。
製造例3
窒素導入管、温度計、攪拌棒を備えた100ミリリットルの4つ口フラスコ内を窒素置換した後、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル 4.45g(22.2ミリモル)を仕込んだ。次いで、N−メチル−2−ピロリドン 106.84gを加え完全に溶解させた後、ピロメリット酸二無水物 3.87g(17.8ミリモル)を加え、25℃の反応温度で15時間攪拌すると、褐色で粘調なポリアミド酸溶液が得られた。この溶液を溶液L3とした。
実施例1
製造例1で得られた溶液L1 25gと製造例2で得られた溶液L2 75gとを室温で混合し、攪拌を行った。次いで、得られた液状組成物をガラス板上にフィルムアプリケーターを用いてキャストし、80℃で1時間加熱し乾燥させた後、350℃で5時間加熱し、室温に冷却後、ガラス板より剥離し、褐色の樹脂アロイフィルムを得た。このフィルムをフィルム1とした。
実施例2
製造例1で得られた溶液L1 25gと製造例3で得られた溶液L3 75gとを室温で混合し、攪拌を行った。次いで、得られた液状組成物をガラス板上にフィルムアプリケーターを用いてキャストし、80℃に1時間加熱し乾燥させた後、350℃に2時間加熱し、室温に冷却後、ガラス板より剥離し、褐色の樹脂アロイフィルムを得た。このフィルムをフィルム2とした。
実施例3
実施例2において得られた液状組成物にさらに無機フィラーとしてホウ酸アルミニウム(四国化成工業株式会社製、商品名:アルボレックスM20C、平均粒子径(D)×平均粒子長(L)が0.1μm×7.5μmであり、アスペクト比(L/D)が75の針状である。)を3.2g添加し、室温1時間攪拌し、液状組成物を得た。この液状組成物をガラス板上にフィルムアプリケーターを用いてキャストし、80℃で1時間乾燥した後、350℃で2時間加熱し、ガラス板より剥離し、褐色のフィルムを得た。このフィルムをフィルム3とした。
実施例4
実施例2において得られた液状組成物にさらに無機フィラーとしてホウ酸アルミニウム(四国化成工業株式会社製、商品名:アルボレックスM20C)を3.2g添加し、室温1時間攪拌し、液状組成物を得た。この液状組成物を銅箔上にフィルムアプリケーターを用いてキャストし、80℃で1時間乾燥した後、350℃で2時間加熱して得られた積層体にカールは認められなかった。
比較例1
製造例1で得られた溶液L1をガラス板上にフィルムアプリケーターを用いてキャストし、80℃に1時間加熱し乾燥させた後、350℃に5時間加熱し、室温に冷却後、ガラス板より剥離し、液晶ポリエステルフィルムを得た。このフィルムをフィルム4とした。
比較例2
製造例2で得られた溶液L2をガラス板上にフィルムアプリケーターを用いてキャストし、80℃に1時間加熱し乾燥させた後、350℃に5時間加熱し、室温に冷却後、ガラス板より剥離し、ポリイミドフィルムを得た。このフィルムをフィルム5とした。
比較例3
製造例3で得られた溶液L3をガラス板上にフィルムアプリケーターを用いてキャストし、80℃に1時間加熱し乾燥させた後、350℃に2時間加熱し、室温に冷却後、ガラス板より剥離し、ポリイミドフィルムを得た。このフィルムをフィルム6とした。
以上、得られたフィルムにつき、次に記述した方法により性能を測定し、得られた結果を表1に示した。
(1)ガラス転移温度(Tg)
TAインスツルメント社製の粘弾性測定装置DMA2980を用いてガラス転移温度を測定することにより耐熱性を評価した。
(2)線膨張率(α)
理学電機株式会社製TMAを用いて、窒素気流下、5℃/分で昇温し、線膨張率を測定した。ただし比較例1のフィルム4においては、膨張が大きく、測定不可であった。
(3)引張弾性率
島津製作所株式会社製オートグラフを用いて、JIS K 7161に基づき測定した。
Figure 0004742580




Claims (11)

  1. (A)液晶ポリエステル、(B’)ポリアミド酸および(D)有機溶媒を含有することを特徴とする液状組成物。
  2. さらに(C)無機フィラーを含有する請求項記載の液状組成物。
  3. (A)液晶ポリエステルと(B’)ポリアミド酸との和100重量部に対して、(C)無機フィラーの含量が0〜100重量部である請求項または記載の液状組成物。
  4. (C)無機フィラーがホウ酸アルミニウム、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、酸化亜鉛、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ガラス繊維およびアルミナ繊維からなる群より選ばれる1種以上である請求項または記載の液状組成物。
  5. 液晶ポリエステルおよびポリアミド酸溶液を混合して得られる請求項1記載の液状組成物。
  6. 液晶ポリエステル溶液およびポリアミド酸溶液を混合して得られる請求項1記載の液状組成物。
  7. 液晶ポリエステル、ポリアミド酸溶液および無機フィラーを混合して得られる請求項2〜4のいずれかに記載の液状組成物。
  8. 液晶ポリエステル溶液、ポリアミド酸溶液および無機フィラーを混合して得られる請求項2〜4のいずれかに記載の液状組成物。
  9. 請求項のいずれかに記載の液状組成物を支持体上に流延したのちに、溶媒を除去し、次いで加熱処理し、支持体を剥離するフィルムの製造方法
  10. 導体からなる層とフィルムからなる層とが直接接して積層されてなる積層体の製造方法であって、請求項1〜8のいずれかに記載の液状組成物を導体上に流延したのちに、溶媒を除去し、次いで加熱処理する積層体の製造方法
  11. 導体からなる層とフィルムからなる層とが接着剤を介して積層されてなる積層体の製造方法であって、請求項9に記載のフィルムの製造方法によりフィルムを得、このフィルムを接着剤により導体と張り合わせる積層体の製造方法
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Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4665475B2 (ja) * 2004-09-30 2011-04-06 住友化学株式会社 芳香族液晶ポリエステルフィルム
JP5050514B2 (ja) * 2006-12-07 2012-10-17 住友化学株式会社 液晶ポリエステル溶液組成物およびその用途
US20080199698A1 (en) * 2007-02-16 2008-08-21 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for producing liquid crystalline polyester fiber
KR100929383B1 (ko) * 2007-05-23 2009-12-02 삼성정밀화학 주식회사 방향족 액정 폴리에스테르 아미드 공중합체, 상기 방향족액정 폴리에스테르 아미드 공중합체를 채용한 프리프레그,및 상기 프리프레그를 채용한 적층판과 프린트 배선판
KR101445871B1 (ko) * 2007-10-25 2014-09-30 삼성전기주식회사 액정 폴리에스터 수지 조성물 및 그를 이용한 인쇄회로기판
KR101485185B1 (ko) * 2007-12-14 2015-01-23 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 형성용 조성물 및 그를 이용하는 인쇄회로기판
WO2012133665A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 宇部興産株式会社 ポリイミドフィルム
JP2013087264A (ja) * 2011-10-21 2013-05-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 積層板の製造方法、積層板および回路基板
US9145469B2 (en) 2012-09-27 2015-09-29 Ticona Llc Aromatic polyester containing a biphenyl chain disruptor
TWI719955B (zh) 2014-12-18 2021-03-01 日商住友化學股份有限公司 三層薄膜、三層薄膜之製造方法、層合板及印刷電路基板
CN106928705B (zh) * 2015-12-30 2020-05-19 广东生益科技股份有限公司 一种含填料的聚酰亚胺复合材料、片材以及含有它的电路基板
US10743423B2 (en) 2017-09-15 2020-08-11 Azotek Co., Ltd. Manufacturing method of composite substrate
US11225563B2 (en) 2017-02-16 2022-01-18 Azotek Co., Ltd. Circuit board structure and composite for forming insulating substrates
TWI670312B (zh) * 2018-07-24 2019-09-01 佳勝科技股份有限公司 電路板結構以及用於形成絕緣基板的組成物
US11044802B2 (en) 2017-02-16 2021-06-22 Azotek Co., Ltd. Circuit board
US10813213B2 (en) 2017-02-16 2020-10-20 Azotek Co., Ltd. High-frequency composite substrate and insulating structure thereof
TWI650358B (zh) * 2017-09-14 2019-02-11 佳勝科技股份有限公司 液晶高分子組成物及高頻複合基板
CN107652433B (zh) * 2017-10-25 2020-07-07 湖北鼎龙控股股份有限公司 聚酰亚胺的制备方法
JP7398771B2 (ja) 2019-06-20 2023-12-15 共同技研化学株式会社 金属張積層板および金属張積層板の製造方法
CN113308091B (zh) * 2020-02-26 2023-04-07 广东生益科技股份有限公司 一种液晶聚酯树脂组合物及其应用
EP4177295A4 (en) * 2020-07-03 2023-11-22 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. RESIN COMPOSITION AND MOLDED ARTICLE
CN112795186A (zh) * 2020-12-25 2021-05-14 长沙新材料产业研究院有限公司 一种改性聚酰亚胺树脂及其制备方法
TWI783504B (zh) * 2021-06-03 2022-11-11 達邁科技股份有限公司 高分子薄膜及其製造方法(二)
TWI786659B (zh) * 2021-06-03 2022-12-11 達邁科技股份有限公司 高分子薄膜及其製造方法(一)
CN115505261B (zh) * 2021-06-07 2024-01-02 达迈科技股份有限公司 高分子薄膜及其制造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03138129A (ja) * 1989-10-25 1991-06-12 Toray Ind Inc 耐熱性フィルム
JPH07323506A (ja) * 1993-02-25 1995-12-12 Japan Gore Tex Inc 液晶ポリマーフィルム及びその製造方法
JPH0982459A (ja) * 1995-09-14 1997-03-28 Nippon Petrochem Co Ltd 加熱用積層構造体
JP2001049002A (ja) * 1999-08-10 2001-02-20 Kuraray Co Ltd 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびその製造方法
JP2004018607A (ja) * 2002-06-14 2004-01-22 Toray Ind Inc 液晶性ポリエステル、その製造方法および熱可塑性樹脂組成物

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58190093A (ja) 1982-04-30 1983-11-05 宇部興産株式会社 フレキシブル配線基板の製法
JPS6321115A (ja) * 1986-07-15 1988-01-28 Hitachi Chem Co Ltd ポリイミドフイルムの製造方法
US5312866A (en) * 1989-11-30 1994-05-17 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Polyimide based resin composition
US5231162A (en) * 1989-09-21 1993-07-27 Toho Rayon Co. Ltd. Polyamic acid having three-dimensional network molecular structure, polyimide obtained therefrom and process for the preparation thereof
JP2535666B2 (ja) * 1989-11-30 1996-09-18 三井東圧化学株式会社 ポリイミド系樹脂組成物
US5171778A (en) * 1990-03-12 1992-12-15 General Electric Company Melt blends of polyesters
US5438105A (en) * 1990-04-27 1995-08-01 Toho Rayon Co., Ltd. Polyamic acid composite, polyimide composite and processes for producing the same
US5460890A (en) * 1991-10-30 1995-10-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Biaxially stretched isotropic polyimide film having specific properties
US5981007A (en) * 1992-03-31 1999-11-09 Foster-Miller, Inc. Extruded thermoplastic, liquid crystalline polymers and blends thereof having a planar morphology
US5321096A (en) * 1992-04-02 1994-06-14 Mitsui Toatsu Chemical, Incorporated Polyimide composition
US5288519A (en) * 1992-04-27 1994-02-22 General Electric Company Method of producing modified polyimide layer having improved adhesion to metal layer thereon
US5346969A (en) * 1992-12-23 1994-09-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide polymeric blends
US5789523A (en) * 1995-07-11 1998-08-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide compositions with improved wear resistance and friction at high PV (pressure × velocity) conditions
US5700863A (en) * 1996-08-19 1997-12-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide polymeric blends
US5789524A (en) * 1997-04-15 1998-08-04 Olin Microelectronic Chemicals, Inc. Chemical imidization reagent for polyimide synthesis
US6277495B1 (en) * 1997-07-18 2001-08-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide film, a method for its manufacture and a polyimide film containing metal laminated plate
JPH11227099A (ja) * 1998-02-10 1999-08-24 Mitsubishi Chemical Corp 耐熱性基板
US7022396B1 (en) * 1999-08-25 2006-04-04 Toray Industries, Inc. Biaxially oriented film having specified micro protrusions
US20020111415A1 (en) * 2000-07-28 2002-08-15 Mack Edward J. Thermoplastic materials with improved thermal conductivity and methods for making the same
TWI256959B (en) * 2000-07-31 2006-06-21 Sumitomo Chemical Co Aromatic liquid-crystalline polyester solution composition
US20020130103A1 (en) * 2001-03-15 2002-09-19 Zimmerman Scott M. Polyimide adhesion enhancement to polyimide film
US6629348B2 (en) * 2001-05-01 2003-10-07 Oak-Mitsui, Inc. Substrate adhesion enhancement to film
EP1447214B1 (en) * 2001-11-01 2010-07-21 Arakawa Chemical Industries, Ltd. Polyimide-metal layered products and polyamideimide-metal layered product
US6838018B2 (en) * 2002-03-27 2005-01-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Liquid crystalline polyester resin composition and its molded article
TWI276660B (en) * 2002-12-18 2007-03-21 Sumitomo Chemical Co Aromatic liquid crystal polyester and film thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03138129A (ja) * 1989-10-25 1991-06-12 Toray Ind Inc 耐熱性フィルム
JPH07323506A (ja) * 1993-02-25 1995-12-12 Japan Gore Tex Inc 液晶ポリマーフィルム及びその製造方法
JPH0982459A (ja) * 1995-09-14 1997-03-28 Nippon Petrochem Co Ltd 加熱用積層構造体
JP2001049002A (ja) * 1999-08-10 2001-02-20 Kuraray Co Ltd 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびその製造方法
JP2004018607A (ja) * 2002-06-14 2004-01-22 Toray Ind Inc 液晶性ポリエステル、その製造方法および熱可塑性樹脂組成物

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