JP4740742B2 - マルチslmマスクレスリソグラフィにおける散乱光を最小化する方法、投影光学系および装置 - Google Patents
マルチslmマスクレスリソグラフィにおける散乱光を最小化する方法、投影光学系および装置 Download PDFInfo
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Description
リソグラフィシステムは、多様な製造用途においてフィーチャをプリントするために使用される。ホトリソグラフィシステムは、フィーチャを対象物体に露光させるためにマスクまたはレチクルを使用する。半導体製造においてたとえば、露光ビームによってレチクルが露光される。この場合、光学システムはレチクルの縮小像をシリコンウェハに投影する。これにより回路フィーチャを半導体基板上にプリントすることができる。
本発明は、SLMのようなパターン生成装置からの散乱光をウェハまたはディスプレイのような対象物体に対し阻止するリソグラフィシステムに係わるものである。このシステムには、1つまたは複数のパターン生成装置を備えたパターンジェネレータと、パターンジェネレータからの光を配向する投影システムと、対象物ウィンドウのところにまたはその近くに配置されたアパーチャが設けられている。このアパーチャは、パターン生成装置の構造とマッチしたプロフィルを有している。さらに本発明は、複数のパターン生成装置を使用したリソグラフィシステムにおいて散乱光を阻止する方法にも係わる。
以下、本発明について特定の用途に関する例示的な実施形態を参照しながら説明するけれども、本発明はそれらに限定されるものではない。以下の説明を参照するならば当業者は、本発明の範囲内で補足的な変形、用途、実施形態について思いつくであろうし、本発明が有用となるさらに別の分野について考えることができるであろう。
これまで本発明の実施形態について説明してきた。本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。これらの実施形態は例示目的でここに示したものであって、限定のためではない。本明細書の説明に基づき、当業者であれば代案(ここで述べたものと等価の形態、拡張形態、変形実施形態、それらとは異なる形態等を含む)を考えることができる。このような代案も本発明の範囲ならびに着想に含まれるものである。
Claims (9)
- 空間光変調器のアレイと、
前記アレイからの光を基板または被加工面に配向するための投影光学系と、
複数の開口部をもち前記投影光学系内に配置されたアパーチャプレートであって各開口部はレンズを含まないアパーチャプレートと、を備え、
前記複数の開口部のそれぞれは、前記アレイに含まれる複数の空間光変調器のそれぞれに対応し、
前記空間光変調器は、個別に制御可能な複数のエレメントのアレイであり、
隣り合う空間光変調器の光反射部の間には、回路またはアクチュエータを含む非活性エリアを含むスペースが存在し、
前記アパーチャプレートのうち前記複数の開口部以外のエリアは、前記非活性エリアからの散乱光を阻止することを特徴とする装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記個別に制御可能な複数のエレメントのアレイはディジタルマイクロミラーディバイスであることを特徴とする装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記個別に制御可能な複数のエレメントのアレイは透過型液晶ライトバルブであることを特徴とする装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記個別に制御可能な複数のエレメントのアレイは格子型ライトバルブであることを特徴とする装置。 - 空間光変調器のアレイを用いた用途のための投影光学系において、
光を配向するための1つまたは複数の光学素子と、複数の開口部を有するアパーチャプレートであって各開口部はレンズを含まないアパーチャプレートが設けられており、
前記複数の開口部のそれぞれは、前記アレイに含まれる複数の空間光変調器のそれぞれに対応し、
前記空間光変調器は、個別に制御可能な複数のエレメントのアレイであり、
隣り合う空間光変調器の光反射部の間には、回路またはアクチュエータを含む非活性エリアを含むスペースが存在し、
前記アパーチャプレートのうち前記複数の開口部以外のエリアは、前記非活性エリアからの散乱光を阻止することを特徴とする投影光学系。 - a)放射ビームを生成するステップと、
b)空間光変調器のアレイが該放射ビームの一部分をパターニングするステップと、
c)投影光学系が該パターニングされた放射ビームを基板に向けて投影するステップと、
d)複数の開口部をもち前記投影光学系内に配置されたアパーチャプレートであって各開口部はレンズを含まないアパーチャプレートが前記放射ビームによる散乱光を基板に対し阻止するステップと、を有し、
前記複数の開口部のそれぞれは、前記アレイに含まれる複数の空間光変調器のそれぞれに対応し、
前記空間光変調器は、個別に制御可能な複数のエレメントのアレイであり、
隣り合う空間光変調器の光反射部の間には、回路またはアクチュエータを含む非活性エリアを含むスペースが存在し、
前記アパーチャプレートのうち前記複数の開口部以外のエリアは、前記非活性エリアからの散乱光を阻止することを特徴とする方法。 - 請求項6記載の方法において、
前記基板としてディスプレイディバイスを用いることを特徴とする方法。 - 請求項6記載の方法において、
前記基板としてウェハを用いることを特徴とする方法。 - 請求項6記載の方法において、
前記基板としてカメラを用いることを特徴とする方法。
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