JP4735417B2 - プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネル - Google Patents

プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネル Download PDF

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Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル用の光学フィルターであって、プラズマディスプレイ本体からプラズマディスプレイパネル画面前面に向けて放射される近赤外線を吸収するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネルに関するものである。
近年、ディスプレイの大型化、薄型化に伴い、プラズマディスプレイパネルが注目を集めている。このプラズマディスプレイパネルの一般的構成について図面を参照しながら説明する。図1は、交流型(AC型)のプラズマディスプレイパネルの概略を示す断面図である。図1において、11は、前面ガラス基板(フロントカバープレート)であり、この前面ガラス基板11上に表示電極12が形成されている。更に、この表示電極12が形成されている前面ガラス基板11は、誘電体ガラス層13及び酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層14により覆われている(例えば、特許文献1参照)。また、15は、背面ガラス基板(バックプレート)であり、この背面ガラス基板15上には、アドレス電極16および隔壁17、蛍光体層18が設けられており、19が放電ガスを封入する放電空間となっている。
そして、プラズマディスプレイパネルの発光原理は、上記放電空間19において、電圧を印加することにより放電させ、放電空間に導入していたキセノンとネオンの混合ガスを励起して真空紫外線を放射させ、これが、赤、緑、青のそれぞれの蛍光体を発光させてカラー表示を可能にさせている。
このとき、キセノンガスから真空紫外線以外に近赤外線が発生し、プラズマディスプレイパネル前方に一部が放射される。特に800nm〜1100nmの波長域は、コードレスフォンや家電機器のリモコンの誤動作を引き起こしたり、伝送系光通信に悪影響を及ぼしたりする等の問題が生じている。この問題の解消のため、プラズマディスプレイパネルの前面には、上記誤動作等を防止する目的で、近赤外線の遮蔽加工が施されている。これら近赤外線の遮蔽加工に用いられる近赤外線吸収剤には、ディスプレイの輝度に悪影響を及ぼさないよう可視光線領域(約380nm〜780nm)の光は十分透過し、800nm〜1100nmの近赤外線を遮蔽するような特性が要求される。
当該要求を満たす手段として、近赤外線の吸収能を有するフィルターがある。そして当該近赤外線の吸収能を有するフィルターとして、(1)燐酸系ガラスに、銅や鉄などの金属イオンを含有したフィルター、(2)屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定の波長を透過させる干渉フィルター、(3)共重合体に銅イオンを含有するアクリル系樹脂フィルター、(4)樹脂に色素を分散又は溶解した層を積層したフィルター、(5)金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた積層フィルター、が提案されている。
これらの中で(4)のフィルターは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きく、各種の方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
また、(5)の金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた積層フィルターは、例えば、特許文献3に開示されている。この金属薄膜層は厚くすると可視光線透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。しかし、ある厚みの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚みを増やすことが可能である。また、層数および/またはそれぞれの層の厚みを制御することによって可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、および反射色をある範囲で変化させることも可能である。
一般に、可視光線反射率が高いと画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、表示部表面の反射を防止する効果が低下し、視認性とコントラストとが低下するようになる。また、反射色としては、白色、青色、紫色系の目立たない色が好ましい。これらのことから、上記(5)の積層フィルターは、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましいとされている。この積層フィルターは、高分子フィルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(a)、金属薄膜層(b)の順に、(a)及び(b)を繰り返し単位として2〜4回繰り返して積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層(a)を積層して形成される。金属薄膜層の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため、好適であるとされている。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上加えた合金、またはこれら環境に安定な金属も好適に使用できる。特に、金およびパラジウムは耐環境性、光学特性に優れ好適であるとされている。
一方、本発明者らは、特許文献4において、日射遮蔽機能を有する微粒子が、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.0<z/y<3.0)で表記されるタングステン酸化物の微粒子、および/または、一般式MxWyOz(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Reの内から選択される1種以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.0<z/y≦3.0)で表記される複合タングステン酸化物の微粒子で構成される日射遮蔽用合わせ構造体を提案している。
さらに、本発明者等は、特許文献5において、プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターとして、近赤外線を吸収する無機材料に注目し、可視光線領域を透過させ近赤外線領域を遮蔽する耐候性の良い無機材料微粒子として、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物の1種類以上の微粒子を用いることによって、波長380nm〜780nm領域の可視領域の線透過率の最高値が50%以上、波長800nm〜1100nm領域における透過率の極小値が30%以下であり、耐候性が良好で、しかも安価に作製できるプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターが得られることを提案している。
特開平5−342991号公報 特開2002−82219号公報 特許第3706105号 国際公開第WO2005/087680A1号パンフレット 特願平2004−347204号
ところで、上述の(1)のような金属イオンを含有したガラスフィルターは、素材がガラスであるため、加工性に問題がある。また、(2)のような光の干渉を利用した多層膜構造のフィルターは、10nm〜数百nmの薄膜を多層に重ねて作製されるため、高精度の均一性が必要となり製造が困難である。また、(3)のようなアクリル系樹脂フィルターでは、銅イオンの近赤外線吸収能が小さい上、樹脂中に含有できる銅イオン量にも限度があるため、アクリル樹脂層を厚くしなければならないという問題点がある。(4)のような色素を用いたフィルターでは近赤外線吸収能に限界があり、耐候性が良くない等の問題がある。また、また、(5)のようなスパッタリング法等の乾式法を用いて、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた積層フィルターを作製する場合には、装置が大掛かりとなり製造コストが割高となる問題があった。
また、複合タングステン酸化物微粒子のみで構成された膜を用いた、上記特許文献5の近赤外線吸収フィルターでは、近赤外線吸収フィルターとして高特性を示すが、プラズマディスプレイパネルのように、背景が黒色の部位に使用する場合や、映像が投影されていない時に、画面が青白く見えて、意匠性が低下するという課題があった。
本発明の目的は、上述の事情を考慮してなされたものであり、複合タングステン酸化物微粒子で散乱した散乱光を有機紫外線吸収剤によって吸収させて、背景が黒色の部位に使用する場合や、映像が投影されていない時に画面が青白く見えるという課題を解決するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びに上記近赤外線吸収フィルターを用いたプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
即ち、上述の課題を解決するための第1の構成は、
プラズマディスプレイパネルの表面に設けられ、近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体を有するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターであって、
上記近赤外線吸収材料は、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物微粒子であり、
上記有機紫外線吸収剤は、波長450nm以下の領域に吸収を有するヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選択されたいずれか1種類以上である光吸収微粒子であり、
上記有機紫外線吸収剤無添加時の上記プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおける、波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(0)nm、ピーク強度をP(0)とし、
上記有機紫外線吸収剤添加時の上記プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおける、波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(1)nm、ピーク強度をP(1)、前記波長λ(0)nmにおける同全光線反射の強度をP(1)’としたとき、
λ(1)≧λ(0)
P(1)≦P(0)
[P(0)−P(1)’]/P(0)≧0.05
を満たすことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第2の構成は、
基材と、その基材の片面または両面に形成された被膜とを有し、
上記被膜は、樹脂または透明酸化物材料をバインダー成分とし、
上記基材内もしくは上記被膜内、または、上記基材内と上記被膜内との両方に、上記近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が、分散され分散体となっていることを特徴とする第1の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第3の構成は、
基材と、その基材の片面または両面に形成された被膜とを有し、
上記被膜は、樹脂または透明酸化物材料をバインダー成分とし、
上記基材内に上記近赤外線吸収材料粒子が分散され且つ上記被膜内に上記有機紫外線吸収剤が分散され分散体となっているか、または、上記基材内に有機紫外線吸収剤が分散され且つ上記被膜内に近赤外線吸収材料粒子が分散され分散体となっていることを特徴とする第1の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第4の構成は、
プラズマディスプレイパネルの表面に接着層を介して基材が配置され、
上記基材と接着層の少なくとも一方に近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が分散され分散体となり、または、上記基材に上記近赤外線吸収材料粒子もしくは上記有機紫外線吸収剤の一方が、上記接着層に上記近赤外線吸収材料粒子もしくは上記有機紫外線吸収剤の他方がそれぞれ分散され分散体となっていることを特徴とする第1の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第5の構成は、
プラズマディスプレイパネルの表面に、近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が分散された分散体の被膜が設けられていることを特徴とする第1の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第6の構成は、
上記複合タングステン酸化物微粒子が、一般式MxWO(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x≦1)で表記される複合タングステン酸化物の微粒子であることを特徴とする第1乃至第5の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第7の構成は、
上記一般式MxWOで表記される上記複合タングステン酸化物微粒子が、六方晶、または、正方晶、または、立方晶のいずれかの結晶構造を有していることを特徴とする第6の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第8の構成は、
上記M元素が、Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snのうちのいずれか1種類以上であることを特徴とする第6乃至第7の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第9の構成は、
上記基材が、プラスチックボード、フィルム、またはガラスで構成されていることを特徴とする第2乃至第8の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第10の構成は、
上記バインダー成分が、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂、金属アルコキシド、粘着材から選択されたいずれか1種類以上の成分を有することを特徴とする第2乃至第9の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
第11の構成は、
プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの製造方法であって、
上記近赤外線吸収材料として、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物微粒子を所定の媒体に、0.01g/m〜10g/mの濃度で分散して分散体を得る工程と、
波長450nm以下の領域に吸収を有するヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選択されたいずれか1種類以上である有機紫外線吸収剤を、上記所定の媒体に、上記近赤外線吸収材料の分散重量の、1/200〜1/40の重量で分散して分散体を得る工程と、を有し、
当該得られた分散体を用いて近赤外線吸収フィルターを製造することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの製造方法である。
第12の構成は、
第1乃至第10の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを用いたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。
本発明に係るプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターによれば、複合タングステン酸化物微粒子で散乱した散乱光を、有機紫外線吸収剤によって吸収させることによって、プラズマディスプレイパネルの背景が黒色の部位に使用したときや、映像が投影されていない時に、画面が青白く見えるという意匠性の低下を抑制することができ、実用性が高い。
また、当該近赤外線吸収フィルターを用いたプラズマディスプレイパネルにおいても、上述と同様に、背景が黒色の部位や映像が投影されていない時に、画面が青白く見える意匠性の低下を抑制することができる。
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
複合タングステン酸化物を近赤外線吸収材として適用する場合、工業的に安価で簡便な方法として微粒子分散法が挙げられる。これは、上記複合タングステン酸化物の微粒子を、基材上に形成した被膜内に均一に分散して分散体とし、ここを透過する近赤外線を遮蔽する方法である。
上記微粒子分散法でプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを作製するとき、複合タングステン酸化物微粒子の粒子径は800nm以下であることを要し、好ましくは200nm以下、更に好ましくは100nm以下が良い。該微粒子の粒子径が800nm以下であれば、ディスプレイから放射される波長380nm〜780nmの可視光線領域の光が、幾何学散乱若しくはミー散乱により散乱されて曇りガラスのようになることを防止できるため、鮮明な画面表示が得られ好ましい。粒子径が200nm以下、好ましくは、100nm以下になると、上記散乱が低減し、レイリー散乱領域になる。レイリー散乱領域では、散乱光は粒子径の6乗に反比例して低減するため、散乱が低減し鮮明な画面表示が可能となる。さらに100nm以下になると散乱光は更に少なくなり透明性が良好になる。
しかし、上述したように、複合タングステン酸化物微粒子のみが分散した分散体で構成された膜を用いた、上記特許文献5に記載の近赤外線吸収フィルターでは、近赤外線吸収フィルターとして高特性を示すが、プラズマディスプレイパネルのように背景が暗色系になる場合や、もしくは映像が投影されていない時に画面が青白く見えて、意匠性が低下するという問題があった。
そこで、本発明者らは、上記特許文献に記載の近赤外線吸収フィルターにおいて画面が青白く見えて意匠性が低下する原因を研究した。そして、数十nmレベルの微粒子を分散した膜においても微少な光の散乱が生じ、特に、複合酸化タングステン微粒子分散体の場合、波長350nmから400nmの領域の散乱光が顕著であり、この領域の散乱光が意匠性低下の原因であることに想到した。
そこで、本発明者らはさらに研究を続け、有機紫外線吸収剤のように、可視光領域において、特に波長350nm〜450nmの領域の光を吸収する化合物を、複合酸化タングステン微粒子と同時に分散体中に分散させることで、問題となる青白色の散乱光が抑制されることを見出した。
本発明者らの研究結果を簡単に説明する。
分散体中に分散している複合タングステン酸化物微粒子は、可視光領域の短波長側の光(特に波長370nm程度の光)を散乱する。散乱された光は、二次散乱を繰り返しながら当該分散体中を広がり、この光が青白い散乱光として視認される。この複合タングステン酸化物微粒子の分散体中に、上記有機紫外線吸収剤を併せて添加し分散させると、複合タングステン酸化物微粒子によって散乱された光が有機紫外線吸収剤によって吸収され、分散体中の青白い散乱光が吸収抑制され、背景が暗い状態でも、当該分散体が青白く視認されなくなるのである。
さらに、有機紫外線吸収剤は、それ自体が分子量の小さい化合物であるため、当該有機紫外線吸収剤が添加され分散したことによる散乱光の増加は無い。さらに、当該有機紫外線吸収剤による可視光領域の吸収は、非常に少ないため、分散体中へ、有機紫外線吸収剤が添加されても輝度の低下が殆ど無く有用である。
以下、本発明の構成要素について詳細に説明する。
(1)複合タングステン酸化物微粒子
本実施形態の近赤外線吸収材料としては複合タングステン酸化物微粒子が用いられる。その中でも、複合タングステン酸化物微粒子として、一般式MxWO(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x≦1)で表記される複合タングステン酸化物微粒子は、Mの添加によりWO構造中に自由電子が生成される。この結果、近赤外線領域に自由電子由来の吸収特性が発現し、波長1000nm付近の近赤外線吸収材料として有効になり好ましい。
さらに、上記一般式MWOで示される複合タングステン酸化物微粒子は、六方晶、または、正方晶、または、立方晶のいずれかの結晶構造を有していることが、当該微粒子の可視光領域の透過率を向上させ、かつ、近赤外領域の吸収効率を向上させる観点から好ましい。
ここで、当該微粒子の可視光領域の透過率を向上させ、かつ、近赤外領域の吸収効率を向上させる観点から好ましいM元素として、Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snの各元素から選択される1種類以上の元素を含むような複合タングステン酸化物微粒子が挙げられる。
添加されるM元素の添加量Xは、0.001以上、1.0以下が好ましく、更に好ましくは0.33付近が好ましい。これは六方晶の結晶構造から理論的に算出されるXの値が0.33であり、この前後の添加量で好ましい光学特性が得られるからである。典型的な例としてはCs0.33WO、Rb0.33WO、K0.33WO、Ba0.33WOなどを挙げることができるが、Xが上記範囲に収まるものであれば、有用な近赤外線吸収特性を得ることができる。
また、上記複合タングステン酸化物の粒子の表面を、Si、Ti、Zr、Alのいずれか1種類以上の元素を含有する酸化物で被覆すれば、耐候性をより向上させることができ、好ましい。
当該近赤外線吸収材料が分散された分散体を有するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターでは、当該近赤外線吸収材料は、透明性を保持したまま近赤外線の効率良い吸収を行なうことが必要となる。本実施形態の複合タングステン酸化物微粒子を含有する近赤外線吸収成分は、近赤外線領域、特に、波長900〜2200nm付近の光を大きく吸収するため、その透過色調は青色系から緑色系となる物が多い。
複合タングステン酸化物微粒子の含有量は、単位面積あたりの含有量で表現されて、0.01g/m〜10g/mの間で使用されることが好ましい。0.01g/m以上の含有量であれば、効果が十分に現れて十分な近赤外線吸収効果が得られ、10g/m以下であれば十分な可視光線を透過できる。
上記複合タングステン酸化物微粒子を近赤外線吸収材料として適用した場合、波長380nm〜780nmにおける可視光線領域の透過率が高く、波長780nm〜1500nmにおける近赤外線領域の透過率が低くなる。波長780nm〜1500nmにおける透過率の低下は、上記複合タングステン酸化物の伝導電子によるプラズモン共鳴に起因した吸収反射が原因である。また、波長380nm〜780nmにおける可視光線領域では、波長1000nm付近の吸収と比較してその吸収量が少ないため、視認性が良好で、ディスプレイ前面に設置しても画面表示を十分鮮明に確認することが可能となる。
上記複合タングステン酸化物を近赤外線吸収材として適用する場合、工業的に安価で簡便な方法としての微粒子分散法を用いることが好ましい。これは、上記複合タングステン酸化物の微粒子をフィルター基材内、もしくはフィルター基材上に形成した被膜内に均一に分散させて分散体とすれば、そこを透過する近赤外線を遮蔽することが可能になるからである。
上記微粒子分散法でプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを作製するとき、微粒子の粒子径は800nm以下であることを要し、好ましくは200nm以下、更に好ましくは100nm以下がよい。複合タングステン酸化物微粒子の粒子径が800nm以下であれば、ディスプレイから放射される波長380nm〜780nmの可視光線領域の光が、幾何学散乱もしくはミー散乱により散乱されて曇りガラスのようになることを防止できるので、鮮明な画面表示が得られて好ましい。粒子径が200nm以下、好ましくは、200nm以下になると、上記散乱が低減し、レイリー散乱領域になる。レイリー散乱領域では、散乱光は粒子径の6乗に反比例して低減するため、散乱が低減し鮮明な画面表示が可能となる。さらに100nm以下になると散乱光は非常に少なくなりより好ましい。一方、粒子径が1nm以上であれば、工業的な製造は容易である。
上記複合タングステン酸化物微粒子を分散する方法は、乾式法、湿式法等各種挙げられるが、特に粒子径が200nm以下の複合タングステン酸化物を分散する場合には湿式法が有効であり、具体的には、ボールミル、サンドミル、媒体攪拌ミル、超音波照射等が挙げられる。また、微粒子分散時に、各種分散剤を添加したり、pHを調整することで200nm以下の、複合タングステン酸化物微粒子を安定して液体中に分散保持することが容易になる。各種分散剤は、使用する溶媒やバインダー等との相性で各種選択可能であり、代表的なものは、シランカップリング剤や各種界面活性剤が挙げられる。
(2)有機紫外線吸収剤
本実施形態のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターに用いられる有機紫外線吸収剤は、波長450nm以下の領域に吸収があることが求められる。
(1)にて説明した複合タングステン酸化物微粒子を分散した分散体においては、微小な光の散乱が生じ、特に、発明者等が研究した結果によれば、波長350nmから400nmの領域の散乱光が顕著であり、この領域の散乱光を抑制することが重要である。ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選択される1種類以上の光吸収微粒子のように、可視光領域の特に波長350nm〜400nmの領域の光を吸収する材料を、有機紫外線吸収剤として、複合タングステン酸化物微粒子と伴に分散体中に分散させることで、青白色の散乱光を抑制できる。
上記有機紫外線吸収剤は、波長450nm以下の光を吸収するものであれば、特に限定しないが、例えば、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が好ましい。
複合タングステン酸化物微粒子は、可視光領域の短波長側の光を散乱し、散乱された光は分散体中で、二次散乱を繰り返しながら分散体中に広がり、この光が青白色の散乱光として視認される。ここで、複合タングステン酸化物微粒子が分散された分散体中に、上述のような有機紫外線吸収剤を併せて分散させると、複合タングステン酸化物によって散乱された青白色の光が、当該有機紫外線吸収剤によって吸収されて分散体中の青白色の散乱光が抑制され、背景が黒い状態でも、映像が投影されていない状態でも、当該分散体が青白く視認されなくなるものと考えられる。
有機紫外線吸収剤の添加量は、可視光領域の透過率を高く保ったまま、赤外線領域の光を十分に吸収する範囲で適当量加えるが、複合タングステン酸化物200重量部に対して1〜5重量部(複合タングステン酸化物の分散重量の、1/200〜1/40の重量)が適当である。1重量部以上であれば、波長350nmから400nm領域の散乱光の抑制が十分となるため、分散体が青白く視認されることが防止される。また、5重量部以下であれば、紫外線吸収効果を確保しつつ、コストを低減でき好ましい。
(3)その他の添加剤
近赤外線吸収材としての複合タングステン酸化物微粒子と有機紫外線吸収剤との混合物中に、色調調整用として、染料や顔料を添加することも好ましい構成である。特に、コントラスト向上に寄与するような色調調整は、プラズマディスプレイの画像品質を向上させるためにも有効な方法である。
また、複合タングステン酸化物微粒子と、有機化合物や金属錯体等の近近赤外線吸収材であるジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、有機金属錯体、シアニン系化合物、アゾ化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物等とを併用することも可能である。当該構成を採ることで、有機化合物や金属錯体等を単独で使用する場合よりも耐候性を向上させる効果が得られる。
(4)プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
次に、本実施形態のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを製造する方法を、以下に具体的に説明する。
本実施形態の近赤外線吸収フィルターは、基材と、この基材の片面もしくは両面に形成された樹脂もしくは透明酸化物材料をバインダー成分とする被膜よりなり、または、基材と、この基材をプラズマディスプレイパネルの前面ガラスに接着する接着剤とからなり、または、プラズマディスプレイパネルの前面ガラスに直接被覆される被膜からなる。
(a)基材内に複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が混合分散されたプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
まず、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が液体媒質中に混合分散された近赤外線吸収材の分散液を調製し、かつ、この分散液から溶剤成分を除去して複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤の粉末を得る。尚、原料である複合タングステン酸化物微粒子、有機紫外線吸収剤を液体媒質中に分散させることにより、原料段階で結合されていた微粒子同士が分離され微細な粒子が分散した粉末を得ることが可能となる。但し、原料段階で微粒子の粒子径が微細化されている場合、これらの処理については省略してもよい。
そして、複合タングステン酸化物及び有機紫外線吸収剤を、基材を構成する樹脂中にそのまま練り込んで、複合タングステン酸化物及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体であるプラスチックボードやフィルム等の基材を作製することが可能である。ここで、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤等を樹脂に練り込むとき、一般的には樹脂の融点付近の温度(200〜300℃前後)で加熱混合するため、近赤外線吸収材として染料等を適用した場合には耐熱性に劣り、練り込み作業が困難である。しかし、本実施形態においては、熱安定性が高い無機酸化物微粒子の粉末を適用するため、樹脂の融点である200℃〜300℃前後での混合も可能となる。
更に、樹脂に複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤を混合後ペレット化し、各種方式でフィルムを形成することが可能である。例えば、透明樹脂フィルムは、上記樹脂を公知のTダイ成形、カレンダー成形、圧縮形成などの方法やキャスティング方法で形成することができる。また、基材の厚みについては、目的に応じて10μm〜3mmの範囲のフィルムやボード状のものが望ましい。更に、樹脂に対する近赤外線吸収材の配合量は、基材厚や必要とされる光学特性に応じて任意に設定可能である。
上記樹脂の具体的例としては、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂等を挙げることができる。これらの中では、特に非晶質のポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂が好ましく、非晶質ポリオレフィン系樹脂の中では環状ポリオレフィンが、ポリエステル系樹脂の中では、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
(b)基材上に形成した被膜内に、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が混合分散されたプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
まず、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が液体媒質中に混合分散された近赤外線吸収材の分散液を調製し、この分散液を(a)で説明したプラスチックボード、プラスチックフィルム、または、ガラス等から成る基材の表面に均一にコートし、かつ、溶媒を蒸発させて複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体である被膜とする。この被膜の膜厚を変えることで近赤外線の吸収効率を調整することが可能である。更に、近赤外線吸収材の分散液内にバインダー成分を配合させ、かつ、バインダー成分を各種選定することで基材への結着性が向上し、フィルター表面における保護機能や本体への粘着の機能付与が可能となる。
ここで、上記バインダーとしては特に限定されるものではなく、基材や要求特性、構成によって適したものを適宜選択することができる。具体的には、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂、常温硬化樹脂、金属アルコキシド、各種粘着材等を例示することができる。特に、紫外線硬化樹脂を使用した製造工程は生産効率が高く、更にハードコート性も兼ね備えているので、バインダーに紫外線硬化型ハードコート樹脂を使用することで、基材の耐磨耗性付与と近赤外線吸収機能を1層で両立させることが可能となる。
尚、有機化合物や金属錯体等の近赤外線吸収材では、紫外線や熱によって分解するので、紫外線硬化樹脂や、高温硬化させるバインダー、溶解性の低いアルコールや水を溶媒として使用することが困難であった。しかし、本実施形態においては、上述したように熱安定性が高い無機酸化物微粒子の粉末を適用しているため、紫外線硬化樹脂の適用や樹脂への練り込みが可能である。紫外線硬化は数秒以下の照射時間で膜を硬化させることが可能であり、生産効率が非常に高いコーティング方法であることから、本実施形態は極めて有用である。
次に、ガラス基材上に形成される被膜においては、バインダーとしてシリケート等の金属アルコキシドのゾルゲル溶液を用いて均一に塗布し、焼成して金属アルコキシドの加水分解重合物することで、表面強度の強い近赤外線吸収膜の生成が可能となる。
そして、本実施形態の近赤外線吸収材としての複合タングステン酸化物微粒子と有機紫外線吸収剤との混合分散液を用いてプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルターを作製する場合、波長380nm〜780nm領域の透過率の最大値が50%以上、波長800nm〜1100nm領域における透過プロファイルの極小値が30%以下であることを要する。波長800nm〜1100nm領域における透過プロファイルの極小値が30%以下であれば、プラズマディスプレイから発生する近赤外線によって電子機器の誤動作が生じなくなり好ましい。また、このとき、波長380nm〜780nm領域の透過率の最大値が50%以上であれば、プラズマディスプレイの輝度を低下させることがなく、画像が暗くならず好ましい。
(c)基材と、この基材上に形成される被膜とのそれぞれに、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が混合して分散されたプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルター
この近赤外線フィルターは、基材と、この基材上に形成される被膜とのそれぞれに、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が混合して分散し、分散体となったものである。微粒子の分散方法は、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤を、基材または被膜のそれぞれに分散させた、上述の分散方法と同様の方法で分散させれば良い。
(d)基材内に近赤外線吸収材料粒子が分散され、該基材上に形成された被膜内に有機紫外線吸収剤が分散されるか、または、基材内に有機紫外線吸収剤が分散され、該基材上に形成された被膜内に近赤外線吸収材料粒子が分散されたプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
このプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターは、基材と、その基材の片面もしくは両面に形成された樹脂もしくは透明酸化物材料をバインダー成分とする被膜よりなり、1)基材内に近赤外線吸収材料粒子が分散されて分散体となり、該基材上に形成された被膜内に有機紫外線吸収剤が分散されて分散体となるか、または、2)基材内に有機紫外線吸収剤が分散されて分散体となり、該基材上に形成された被膜内に近赤外線吸収材料粒子が分散されて分散体となる形態も可能である。
分散方法は、複合タングステン酸化物微粒子、有機紫外線吸収剤をそれぞれ単独で、上述した方法と同様にして分散させれば良い。
(e)基材と、この基材をプラズマディスプレイパネル前面ガラスに接着する接着層とからなるプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルター
基材としてのプラスチックフィルムやボードをプラズマディスプレイパネル前面ガラスに接着する接着層に対して、本実施形態の近赤外線吸収機能を持たせ、これらの基材及び接着層により、本実施形態のプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルターを作製することも可能となる。この場合、これらの基材と接着層の少なくとも一方に近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤が混合して分散された分散体としてもよく、または、基材に近赤外線吸収材料粒子もしくは有機紫外線吸収剤の一方が分散された分散体とし、接着層に近赤外線吸収材料粒子もしくは有機紫外線吸収剤の他方が分散された分散体としてもよい。
(f)プラズマディスプレイパネル前面ガラスに被覆される被膜のみによるプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルター
被膜における各種バインダーの選定により、プラズマディスプレイ前面ガラスに、本実施形態の近赤外線吸収材としての複合タングステン酸化物微粒子と有機紫外線吸収剤との混合分散液を直接塗布し、溶媒を蒸発後、各種最適な硬化方法を用いて上記近赤外線吸収材等が分散された被膜(近赤外線吸収膜)を形成し、近赤外線吸収材粒子及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体とする。これにより、本実施形態のプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルターを作製することも可能である。
(5)プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの光学特性
上述のような形態を採ったプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターでは、有機紫外線吸収剤無添加時の波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(0)nm、ピーク強度をP(0)とし、有機紫外線吸収剤添加時の波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(1)nm、ピーク強度をP(1)、前記波長λ(0)nmにおける同全光線反射の強度をP(1)’としたとき、
λ(1)≧λ(0)
P(1)≦P(0)
[P(0)−P(1)’]/P(0)≧0.05
を満たす。
一方、複合タングステン酸化物微粒子を分散した分散体においては、微小な光の散乱が生じ、特に、複合タングステン酸化物微粒子の分散膜の場合、波長350nmから400nmの領域の散乱光が顕著であるが、上記有機紫外線吸収剤を添加することにより、上記領域の散乱光を吸収することが可能となり、青白い散乱光を抑制できる。
ここで、青白い散乱光の抑制について、さらに説明する。
本発明者らの研究によれば、近赤外線吸収フィルターにおける青白い散乱光の抑制を定量的に表す方法として、450nm以下の波長領域の全光線反射を用いることができる。即ち、当該青白い散乱光は、波長350nm〜400nmの領域にピークを持つ全光線反射として観測され、そのピーク位置が長波長側にあるほど、また、ピーク強度が小さいほど、目視による青白さが抑制されて感じられることによる。従って、有機紫外線吸収剤無添加時の450nm以下の波長領域の全光線反射のピーク位置の波長λ(0)nmが、有機紫外線吸収剤添加時の450nm以下の波長領域の全光線反射のピーク位置の波長λ(1)nmに比べて短波長側にあり、かつ、有機紫外線吸収剤添加時の450nm以下の波長領域の全光線反射のピーク強度P(1)が有機紫外線吸収剤無添加時の450nm以下の波長領域の全光線反射の強度P(0)に比べて減少していれば、青白さの低減・抑制が実現出来たことになる。
また、本発明者らの研究によれば、本発明のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおいて、450nm以下の波長領域の全光線反射は、有機紫外線吸収剤添加の前後でピーク位置が変化し、有機紫外線吸収剤無添加時のピーク位置の波長λ(0)nmにおける全光線反射の有機紫外線吸収剤添加時の強度P(1)’が小さいほど、目視による青白さが抑制されて感じられる。ここで、有機紫外線吸収剤添加の前後での波長λ(0)における強度変化[P(0)−P(1)’]の値が、P(0)の値の5%より小さいと、目視によって青白さの減少を確認できず、意匠性低下も抑制されないことが判明した。従って、[P(0)−P(1)’]/P(0)≧0.05であることが求められる。また、P(1)’が小さいほど散乱光が減少していることになるため、[P(0)−P(1)’]/P(0)の値が大きいほど意匠性低下の抑制効果は高い。しかし、P(1)’を小さくするために有機紫外線吸収剤の添加量を増やしていくと、今度は、コストが嵩んで経済性を悪化させる。加えて、複合タングステン酸化物微粒子や有機紫外線吸収剤を分散させた分散液への有機紫外線吸収剤の添加量が多すぎると、当該分散液を近赤外線吸収膜としたとき、当該近赤外線吸収膜の硬化強度や密着性などに悪影響を与えてしまう。これらのことから、[P(0)−P(1)]/P(0)の値は0.05以上であり、かつ近赤外線吸収フィルターとしての経済性や機能を損なわない範囲において、可能な限り大きいことが望ましい。
(6)プラズマディスプレイパネル
上記近赤外線吸収フィルターを用いたプラズマディスプレイパネルにおいても、上述と同様に、近赤外線吸収フィルターの複合タングステン酸化物微粒子で散乱した散乱光を有機紫外線吸収剤によって吸収させることよって、背景が黒色の部位や映像が投影されていない時に、画面が青白く見える意匠性の低下を抑制することができる。
以下、本発明について実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は当然のことながらこれらの実施例に限定されるわけではない。
以下の各実施例ではJIS A 5759に準ずる方法で測定を行っている(但し、ガラスに貼付せず測定を行っている)。すなわち、透過率測定は分光光度計(日立製作所U―4000)を使用して、波長300nm〜2600nmの範囲で5nm間隔で測定している。
膜のヘイズ値は、JIS K 7105に基づき測定を行なった。
平均分散粒子径は、動的光散乱法を用いた測定装置[大塚電子株式会社製 ELS−800]により測定した平均値を用いた。
(実施例1)
Cs0.33WO粉末を18.5重量部、4−メチル−2−ペンタノンを63重量部、分散剤を18.5重量部混合し、分散処理を行って分散液Aを作製した。次に、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤とベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の混合物(商品名:TINUVIN5236、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)5重量部を4−メチル−2−ペンタノン45重量部に溶かして有機紫外線吸収剤溶液Bを作製した。A液を100重量部、有機紫外線吸収剤溶液Bを50重量部、ハードコート用紫外線硬化樹脂(固形分100%)を100重量部混合して、赤外線遮蔽材料微粒子分散体液とした。この赤外線遮蔽材料微粒子分散体液を、ガラス基板上にバーコーターを用いて塗布し、成膜した。この成膜を80℃で60秒乾燥し溶剤を蒸発させた後、高圧水銀ランプで硬化させ、複合タングステン酸化物微粒子と有機紫外線吸収剤とが分散された分散体である赤外線遮蔽膜を得た。
この赤外線遮蔽膜の光学特性を測定したところ、可視光透過率は63%、1000nmの透過率は1.4%で、可視光は十分透過しており、かつ、近赤外線は良く遮断していることがわかった。
また、波長450nm以下の領域における全光線反射のピークは、波長400nmで強度が6.0%であり、波長370nmにおける強度は5.3%と低い。このため、後述の比較例1を考慮したとき実施形態の式(1)及び(2)を満たし、このうち、式(1)の値は0.12となり、0.05より大きく、散乱光が吸収されて青白みが抑制されていた。
(実施例2)カーボンブラック添加
カーボンブラック粉末を9重量部、分散剤を11.7重量部、トルエンを79.3重量部混合し、分散処理を行って分散液Cを作製した。次に、実施例1で説明したA液を120重量部、有機紫外線吸収剤溶液Bを30.5重量部、C液を2重量部、ハードコート用紫外線硬化樹脂(固形分100%)を61重量部混合して赤外線遮蔽材料微粒子分散体液とし、実施例1と同様の操作により赤外線遮蔽膜を得た。
この赤外線遮蔽膜の光学特性を測定したところ、可視光透過率は56%、1000nmの透過率は3.2%で、可視光は十分透過しており、かつ、近赤外線は良く遮断していることがわかった。
また、波長450nm以下の領域における全光線反射のピークは、波長400nmで強度が5.6%であり、波長370nmにおける強度は5.2%と低い。このため、後述の比較例1を考慮したとき実施形態の式(1)及び(2)を満たし、このうち、式(1)の値は0.13となり、0.05より大きく、散乱光が吸収されて青白みが抑制されていた。
(比較例1)
実施例1で説明したA液100重量部と、ハードコート用紫外線硬化樹脂(固形分100%)50重量部とを混合して、赤外線遮蔽材料微粒子分散体液としたほかは、実施例1と同様の操作により赤外線遮蔽膜を得た。
この赤外線遮蔽膜の光学特性を測定したところ、可視光透過率は67%、1000nmの透過率は1.9%で、可視光は十分透過しており、かつ、近赤外線は良く遮断していることがわかった。
しかし、波長450nm以下の領域における全光線反射のピークは、波長が370nmで強度が6.0%と高く、散乱光の吸収が十分でないために顕著な青白みが見られた。
プラズマディスプレイパネルの概略構成を説明する断面図である。
符号の説明
11 前面ガラス基板
12 表示電極
13 誘電体ガラス層
14 保護層
15 背面ガラス基板
16 アドレス電極
17 隔壁
18 蛍光体層
19 放電空間

Claims (12)

  1. プラズマディスプレイパネルの表面に設けられ、近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体を有するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターであって、
    上記近赤外線吸収材料は、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物微粒子であり、
    上記有機紫外線吸収剤は、波長450nm以下の領域に吸収を有するヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選択されたいずれか1種類以上である光吸収微粒子であり、
    上記有機紫外線吸収剤無添加時の上記プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおける、波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(0)nm、ピーク強度をP(0)とし、
    上記有機紫外線吸収剤添加時の上記プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおける、波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(1)nm、ピーク強度をP(1)、前記波長λ(0)nmにおける同全光線反射の強度をP(1)’としたとき、
    λ(1)≧λ(0)
    P(1)≦P(0)
    [P(0)−P(1)’]/P(0)≧0.05
    を満たすことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  2. 基材と、その基材の片面または両面に形成された被膜とを有し、
    上記被膜は、樹脂または透明酸化物材料をバインダー成分とし、
    上記基材内もしくは上記被膜内、または、上記基材内と上記被膜内との両方に、上記近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が、分散され分散体となっていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  3. 基材と、その基材の片面または両面に形成された被膜とを有し、
    上記被膜は、樹脂または透明酸化物材料をバインダー成分とし、
    上記基材内に上記近赤外線吸収材料粒子が分散され且つ上記被膜内に上記有機紫外線吸収剤が分散され分散体となっているか、または、上記基材内に有機紫外線吸収剤が分散され且つ上記被膜内に近赤外線吸収材料粒子が分散され分散体となっていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  4. プラズマディスプレイパネルの表面に接着層を介して基材が配置され、
    上記基材と接着層の少なくとも一方に近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が分散され分散体となり、または、上記基材に上記近赤外線吸収材料粒子もしくは上記有機紫外線吸収剤の一方が、上記接着層に上記近赤外線吸収材料粒子もしくは上記有機紫外線吸収剤の他方がそれぞれ分散され分散体となっていること特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  5. プラズマディスプレイパネルの表面に、近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が分散され分散体の被膜が設けられていること特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  6. 上記複合タングステン酸化物微粒子が、一般式MxWO(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x≦1)で表記される複合タングステン酸化物の微粒子であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  7. 上記一般式MxWOで表記される上記複合タングステン酸化物微粒子は、六方晶、または、正方晶、または、立方晶のいずれかの結晶構造を有していることを特徴とする請求項6に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  8. 上記M元素が、Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snのうちの1種類以上を含むことを特徴とする請求項6乃至7のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  9. 上記基材が、プラスチックボード、フィルム、またはガラスで構成されていることを特徴とする請求項2乃至8のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  10. 上記バインダー成分が、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂、金属アルコキシド、粘着材から選択されたいずれか1種類以上の成分を有することを特徴とする請求項2乃至9のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
  11. プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの製造方法であって、
    上記近赤外線吸収材料として、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物微粒子を所定の媒体に、0.01g/m〜10g/mの濃度で分散して分散体を得る工程と、
    波長450nm以下の領域に吸収を有するヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選択されたいずれか1種類以上である有機紫外線吸収剤を、上記所定の媒体に、上記近赤外線吸収材料の分散重量の、1/200〜1/40の重量で分散して分散体を得る工程と、を有し、
    当該得られた分散体を用いて近赤外線吸収フィルターを製造することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの製造方法。
  12. 請求項1乃至10のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを用いたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5328364B2 (ja) * 2006-11-17 2013-10-30 リンテック株式会社 ディスプレイ用感圧接着剤組成物
WO2008149974A1 (ja) * 2007-06-08 2008-12-11 Bridgestone Corporation 近赤外線遮蔽体、これを用いた積層体及びディスプレイ用光学フィルタ
JP5287080B2 (ja) * 2007-10-18 2013-09-11 日油株式会社 プラズマディスプレイパネル用ハードコートフィルム及びプラズマディスプレイパネル
JP5181716B2 (ja) * 2008-02-22 2013-04-10 住友金属鉱山株式会社 赤外線遮蔽材料微粒子分散液、赤外線遮蔽膜と赤外線遮蔽光学部材およびプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
JP5338099B2 (ja) * 2008-03-24 2013-11-13 大日本印刷株式会社 粘着剤組成物及び該粘着剤組成物を用いた近赤外線吸収フィルター
JP2010010461A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Dainippon Printing Co Ltd ディスプレイ装置用複合フィルタ
JP6201152B2 (ja) * 2014-04-01 2017-09-27 住友金属鉱山株式会社 熱線遮蔽膜、熱線遮蔽透明基材、自動車および建造物

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000191957A (ja) * 1998-12-24 2000-07-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 熱線・紫外線遮蔽膜形成用塗布液及びこれを用いた膜、基材
JP2003227922A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Sumitomo Metal Mining Co Ltd プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターとこのフィルターの製造に用いられる近赤外線吸収剤の分散液
JP2004059875A (ja) * 2002-07-31 2004-02-26 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 熱線遮蔽成分含有マスターバッチとこのマスターバッチが適用された熱線遮蔽透明樹脂成形体並びに熱線遮蔽透明積層体
WO2005037932A1 (ja) * 2003-10-20 2005-04-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子
JP2005187323A (ja) * 2003-12-05 2005-07-14 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および日射遮蔽体形成用分散液並びに日射遮蔽体
JP2005226008A (ja) * 2004-02-13 2005-08-25 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽体形成用分散液及び日射遮蔽体並びにその製造方法
JP2006010759A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 近赤外線遮蔽材料微粒子分散体および近赤外線遮蔽体並びに近赤外線遮蔽材料を通過する可視光の色調調整方法
JP2006018062A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
JP2007311208A (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Sumitomo Metal Mining Co Ltd プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネル

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000191957A (ja) * 1998-12-24 2000-07-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 熱線・紫外線遮蔽膜形成用塗布液及びこれを用いた膜、基材
JP2003227922A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Sumitomo Metal Mining Co Ltd プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターとこのフィルターの製造に用いられる近赤外線吸収剤の分散液
JP2004059875A (ja) * 2002-07-31 2004-02-26 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 熱線遮蔽成分含有マスターバッチとこのマスターバッチが適用された熱線遮蔽透明樹脂成形体並びに熱線遮蔽透明積層体
WO2005037932A1 (ja) * 2003-10-20 2005-04-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子
JP2005187323A (ja) * 2003-12-05 2005-07-14 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および日射遮蔽体形成用分散液並びに日射遮蔽体
JP2005226008A (ja) * 2004-02-13 2005-08-25 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽体形成用分散液及び日射遮蔽体並びにその製造方法
JP2006010759A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 近赤外線遮蔽材料微粒子分散体および近赤外線遮蔽体並びに近赤外線遮蔽材料を通過する可視光の色調調整方法
JP2006018062A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
JP2007311208A (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Sumitomo Metal Mining Co Ltd プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネル

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