JP4725814B2 - 光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 - Google Patents
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Description
(1)SR(シンクロトロン放射光)を供給する光源
(2)レーザ光をターゲット上に集光し、ターゲットをプラズマ化してEUV光を得るLPP(Laser Produced Plasma)光源
(3)DPP(Discharge Produced Plasma)光源。ターゲット物質からなる電極、あるいは電極間にターゲット物質が存在する状態で電極間に電圧を印加すると、ある電圧を越えたところで電極間で放電が生じ、ターゲット材料をプラズマ化する。この放電によって電極間に大電流が流れ、この電流によって生じる磁場によりプラズマ自身が微小空間内に圧縮され、プラズマ温度を上昇させる。この高温プラズマからEUV光が放出される。このように、放電によりプラズマにエネルギーを供給し(励起し)、EUV光を放出させる光源を一般にDPP光源と呼ぶ。
前記光源本体から放出されるデブリを前記第1反射鏡と前記第2反射鏡との間の光路中において除去するためのデブリ除去機構をさらに備え、
前記EUV光を、前記第1反射鏡の反射面、前記第2反射鏡の反射面、および前記第1反射鏡の貫通孔を介して、所定の位置に集光することを特徴とする光源ユニットを提供する。
(主要諸元)
λ=13.5nm
H=−1mm〜+1mm
NA=0.7
(光学部材諸元)
面番号 r d 光学部材
(発光点) 300
1 -353.02832 -285 (凹面反射鏡12a)
2 -429.74950 435 (凸面反射鏡12b)
(集光点)
2 照明光学系
5 マスクステージ
7 ウェハステージ
11 光源本体
11a,11b 電極
12 集光光学系
12a 凹面反射鏡
12b 凸面反射鏡
14 オプティカルインテグレータ
14a,14b フライアイミラー
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (13)
- 標的材料をプラズマ化し、該プラズマからEUV光を放出する光源本体と、
貫通孔を有する第1反射鏡と、
前記光源本体と前記第1反射鏡との間の光路中に配置された第2反射鏡と、
前記第1反射鏡と前記第2反射鏡との間の空間を包囲するためのケーシングと、該ケーシング内に設けられて光軸を中心として放射状に延びる断面を有する複数のプレート部材とを有し、前記光源本体から放出されるデブリを前記第1反射鏡と前記第2反射鏡との間の光路中において除去するためのデブリ除去機構とを備え、
前記EUV光を、前記第1反射鏡の反射面、前記第2反射鏡の反射面、および前記第1反射鏡の貫通孔を介して、所定の位置に集光することを特徴とする光源ユニット。 - 前記空間には所定ガスが導入されていることを特徴とする請求項1に記載の光源ユニット。
- 前記所定ガスは、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、クリプトン、窒素、酸素またはオゾンであることを特徴とする請求項2に記載の光源ユニット。
- 前記複数のプレート部材および前記ケーシングは、冷却可能に構成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光源ユニット。
- 前記複数のプレート部材と前記ケーシングとの間には所定の電圧が印加されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光源ユニット。
- 前記複数のプレート部材は、前記光軸を中心として回転可能に構成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光源ユニット。
- 標的材料をプラズマ化し、該プラズマからEUV光を放出する光源本体と、貫通孔を有する第1反射鏡と、前記光源本体と前記第1反射鏡との間の光路中に配置された第2反射鏡とを備え、
光軸を中心として放射状に延びる断面を有する複数のプレート部材を有し、前記光源本体から放出されるデブリを前記第1反射鏡と前記第2反射鏡との間の光路中において除去するためのデブリ除去機構をさらに備え、
前記EUV光を、前記第1反射鏡の反射面、前記第2反射鏡の反射面、および前記第1反射鏡の貫通孔を介して、所定の位置に集光し、
前記複数のプレート部材は、冷却可能に構成されていることを特徴とする光源ユニット。 - 前記デブリ除去機構は、前記第1反射鏡と前記第2反射鏡との間の空間を包囲するためのケーシングを有し、該ケーシングは冷却可能に構成されていることを特徴とする請求項7に記載の光源ユニット。
- 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光源ユニットと、該光源ユニットからのEUV光を被照射面へ導くための導光光学系とを備えていることを特徴とする照明光学装置。
- 所定のパターンが形成された反射型のマスクを照明するための請求項9に記載の照明光学装置と、前記マスクのパターン像を感光性基板上に形成するための投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置。
- 前記投影光学系に対して前記マスクおよび前記感光性基板を所定方向に沿って相対移動させて前記マスクのパターンを前記感光性基板上へ投影露光することを特徴とする請求項10に記載の露光装置。
- 請求項9に記載の照明光学装置を用いて所定のパターンが形成された反射型のマスクを照明する照明工程と、投影光学系を介して前記マスクのパターンを前記感光性基板上へ投影露光する露光工程とを含むことを特徴とする露光方法。
- 前記露光工程では、前記投影光学系に対して前記マスクおよび感光性基板を所定方向に沿って相対移動させて前記マスクのパターンを前記感光性基板上へ投影露光することを特徴とする請求項12に記載の露光方法。
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