JP4719541B2 - 半導体薄膜成長装置 - Google Patents
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Description
図2において、符号1は第1フローライナーを、符号2は第2フローライナーを示す。
第1フローライナー1は、石英などの耐熱性材料からなる中空の筒状のものである。この第1フローライナー1内には原料噴射管3が挿通されている。この原料噴射管3は、石英などからなるものであって、原料ガスの一部、例えばトリメチルアルミニウム(TMA)、トリメチルガリウム(TMG)、塩化アルミニウムなどがガス状で水素、アルゴンなどのキャリアガスに同伴されて供給され、その開口端から噴出されるようになっている。
さらに、第1フローライナー1の外周側には、この第1フローライナー1を包囲するように、筒状の冷却部5が設けられている。
また、冷却部5と加熱部6との間には、断熱部12が設けられている。この断熱部12は、加熱部6からの熱が冷却部5に伝わることを防止し、冷却部5の冷却性能の低下を抑えるためのためのものであって、ガラスウールなどの断熱材を固めた環状のもので第1フローライナー1の外周面を包囲するように設けられている。
これにより、成長領域内部においてトリメチルアルミニウムとアンモニアとが反応し、AlNが生成し、このAlNが基板上に堆積、成長することになる。
請求項1にかかる発明は、原料ガスの一部を流す原料噴射管と原料ガスの残部を流す原料ガス流路とがその内部に設けられた第1フローライナーと、
この第1フローライナーに連続する第2フローライナーと、
この第2フローライナーの外周に配された第1加熱部および第2加熱部を備えてなり、
第1加熱部は、第1フローライナー寄りに配され、第2フローライナー内の第1加熱部が位置する解離領域を加熱するものであり、
第2加熱部は、第1加熱部を挟んで第1フローライナーの反対側に配され、第2フローライナー内の第2加熱部が位置する成長領域を加熱するものであり、
解離領域の温度が、成長領域の温度よりも高温とされ、
上記解離領域では、第1フローライナー内の原料噴射管の開口端付近での原料ガスの反応により生成した固体状の微粒子が気体状に解離分解され、
上記成長領域では、原料ガスの反応により基板上に半導体薄膜が形成されることを特徴とする半導体薄膜成長装置である。
この例の装置にあっては、第2フローライナー2の長さが第1フローライナー1側に延長されており、この延長部分の外周側に第1加熱部21が設けられている。
また、従来装置と同様に炭化ケイ素ヒータ10は、第2加熱部22の一部を構成するものである。なお、第1加熱部21をなす高温発熱体としては、従来の装置と同様に、気密構造とするか不活性ガス供給してパージするなどすれば、カーボンヒータも使用できる。
原料噴射管3に原料ガスとしてトリメチルアルミニウムまたは塩化アルミニウムを供給し、原料ガス流路4にアンモニアとキャリアガスとしての窒素を供給し、第2フローライナー2に向けて流す。
この場合、原料噴射管3にトリメチルガリウムを、原料ガス流路4にアンモニアとキャリアガスとしての窒素を供給し、第2フローライナー2に向けて流す。この例では、第1加熱部21によって解離領域Aの温度を600〜700℃に、第2加熱部22によって成長領域Bの温度を500〜600℃とする。これにより、先の例と同様の作用効果が得られ、基板上にInN膜が堆積、成長する。
この場合、原料噴射管3にトリメチルアルミニウムとトリメチルガリウムを、原料ガス流路4にアンモニアとキャリアガスとしての窒素を供給し、第2フローライナー2に向けて流す。この例では、第1加熱部21によって解離領域Aの温度を1200〜1400℃に、第2加熱部22によって成長領域Bの温度を1100〜1200℃とする。これにより、先の例と同様の作用効果が得られ、基板上にAlGaN膜が堆積、成長する。
Claims (3)
- 原料ガスの一部を流す原料噴射管と原料ガスの残部を流す原料ガス流路とがその内部に設けられた第1フローライナーと、
この第1フローライナーに連続する第2フローライナーと、
この第2フローライナーの外周に配された第1加熱部および第2加熱部を備えてなり、
第1加熱部は、第1フローライナー寄りに配され、第2フローライナー内の第1加熱部が位置する解離領域を加熱するものであり、
第2加熱部は、第1加熱部を挟んで第1フローライナーの反対側に配され、第2フローライナー内の第2加熱部が位置する成長領域を加熱するものであり、
解離領域の温度が、成長領域の温度よりも高温とされ、
上記解離領域では、第1フローライナー内の原料噴射管の開口端付近での原料ガスの反応により生成した固体状の微粒子が気体状に解離分解され、
上記成長領域では、原料ガスの反応により基板上に半導体薄膜が形成されることを特徴とする半導体薄膜成長装置。 - 上記第1フローライナーの外周には、第1フローライナー内の空間を冷却する冷却部が設けられたことを特徴とする請求項1記載の半導体薄膜成長装置。
- 上記冷却部と第1加熱部との間に、第1加熱部からの熱を遮る断熱部を設けたことを特徴する請求項2記載の半導体薄膜成長装置。
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