JP4695632B2 - 光情報記録媒体 - Google Patents

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Description

本発明は、光情報記録媒体に関するもので、特に光記録層に有機色素を用いた、ブルーレイディスク等のより高い記録密度を有する光情報記録媒体に関するものである。
情報記録媒体として、光ディスク等の光情報記録媒体が普及している。このような光情報記録媒体としては、例えばCD−R等のような、厚さ1.2mm、直径120mmまたは80mmの光透過性の樹脂基板上に記録層、反射層を順次形成したものがある。近年、さらに高い情報記録密度が要求されてきている。そこで、レーザ波長を短く且つ開口数(NA:numerical aperture)の大きな対物レンズを使用する方式が考えられ、DVD±R等のような光情報記録媒体が実現されている。このDVD±Rは、短波長化と高NA化によるディスクの傾き角度(チルト)の許容値を大きくするために、厚さ0.6mmの光透過性の樹脂基板を2枚貼り合せ、この基板間に反射層及び記録層を挟んだ構造を有している。
さらに、近年では高精細な映像データを記録するために、より高い情報記録密度が要求されてきている。そこで、ブルーレイディスク(BD−R)のように、厚さ1.1mmの樹脂基板上に反射層及び記録層が形成され、この反射層及び記録層が形成された面上に厚さ0.1mmの光透過性のカバー層が設けられた構造の光情報記録媒体が提案されている。具体的には、外径120mm、内径15mm、厚さ約1.1mmのディスク状の基板上に光反射層と相変化記録層と厚さ約0.1mmのカバー層を有し、開口数約0.85の光ヘッドから波長約405nmのレーザ光を前記カバー層側から照射して前記記録層にユーザー情報を記録可能なものである。
上記光情報記録媒体は、記録層として相変化記録層を用いるものであるが、色素を含有する記録層を用いることも検討されている。
ところが、色素を含有する記録層上に例えば透明樹脂材料を塗布して前記カバー層を形成しようとすると、色素を含有する記録層に塗液が浸透してしまうという課題があった。
これに対し、図5に示すように、特許文献1には、基板1上に、反射層2、色素を含有する記録層3及びカバー層5を有し、該カバー層5を通して記録再生を行う光学記録媒体であって、該記録層3とカバー層5との間に、記録層3とカバー層5との混和を防止するための障壁層4を設けたものが提案されている。またその障壁層4として、酸化珪素、硫化亜鉛、酸化亜鉛、窒化珪素、炭化珪素、酸化セリウム、酸化イットリウム、硫化イットリウム、および酸化物と硫黄との混合物から選ばれた少なくとも1種よりなるものが提案されている。
ところが、上記特許文献1に記載されたように、障壁層4に硫黄を含有する材料を使用すると、当該硫黄と反射層2を構成する金属(例えば、Ag等)とが反応し、硫化物を生成して保存性を低下させるという課題があった。
これに対し、特許文献2には、基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、カバー層とを備えた光記録媒体であって、前記記録層と前記カバー層との間に、Taを含む化合物又はNbを含む化合物からなる中間層、又はTa及び/又はNbを含む複合酸化物からなる中間層を有し、該中間層の層厚が1〜80nmであるものが提案されている。また、上記中間層の形成方法として、RFスパッタ法やDCスパッタ法を用いることが提案されている。
特開2003−36562号公報 特開2006−147135号公報
ところで、上記特許文献2に提案されているように、Taを含む化合物又はNbを含む化合物からなる中間層、又はTa及び/又はNbを含む複合酸化物からなる中間層を有する光情報記録媒体、具体的には、例えばNb:70atm%,Al:30atm%の複合酸化物からなる中間層を有する光情報記録媒体においては、以下のような課題があった。具体的には、例えばNb:70atm%,Al:30atm%の複合酸化物からなるターゲットは、該ターゲットの酸素欠損の度合いに従って導電性に差が生じる。例えば酸素欠損の無い状態であれば完全絶縁体になり、該ターゲットを用いて、前記色素を含有する記録層上にRFスパッタ法により前記中間層を形成しようとすると、前記中間層の成膜速度が遅くなり、容易に生産することができず、生産する上で現実的ではない。また、RFスパッタ装置においては、本来、真空チャンバーとターゲットとの間に高周波電圧を印加すべきところが、酸素欠損させて前記ターゲットに導電性を持たせた場合には、中間層のスパッタリング時に前記ターゲットと中間層との間に異常放電が生じやすかった。このように異常放電が生じると、前記複合酸化物の膜からなる中間層の表面に、異常放電に起因して所謂ひっかき傷のように溝状の傷つきが生じ、さらにカバー層が形成された後の光情報記録媒体において、前記溝状の痕跡が外観不良として認識されるという課題があった。また、上記のように異常放電が生じると、その前後でターゲットへの印加電圧が変動して前記保護層の成膜速度にばらつきを生じたり、成膜状態に偏在を生じたりして、安定生産が難しいという課題があった。
本発明者らが鋭意検討した結果、中間層の組成を所定の範囲に調整することで中間層形成時の異常放電の発生が減少して中間層表面への傷つきが低減することがわかった。また、RFスパッタ法により中間層を形成する際、完全な絶縁体でなく、抵抗値を所定の範囲に調整したターゲットを用いることで、成膜速度を高められることがわかった。本発明は、中間層表面の傷つきによる外観不良が生じにくく安定生産が可能な光情報記録媒体を提供することを目的とする。また、本発明は、中間層の成膜速度が高く容易に生産することが可能な光情報記録媒体を提供することを目的とする。
前記目的を達成するため、本発明の光情報記録媒体は、(1)基板上に、光反射層、有機色素を含有する光記録層、中間層、及びカバー層をこの順に備えた光情報記録媒体であって、前記中間層は、スパッタリングにより形成されたNb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%より多く、60mol%未満である。(以下、第1の課題解決手段と称する。)
また、主要な実施形態の一つは、上記第1の課題解決手段に加えてさらに、(2)上記中間層が、バルクの抵抗値が1〜5Ω・cmのターゲットを用いてRFスパッタ装置により成膜されたものである。(以下、第2の課題解決手段と称する。)
次に、上記第1の課題解決手段による作用は、以下の通りである。すなわち、本発明の光情報記録媒体は、前記中間層が、スパッタリングにより形成されたNb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%より多く、60mol%未満である。このため、中間層を形成する際に、中間層とスパッタリングターゲットとの間に異常放電による傷つきが生じにくい。また、上記複合酸化物におけるNbの比率が50mol%より多く、60mol%未満とすることにより、バルクの抵抗値が1〜5Ω・cmで安定したターゲットを用いることができる。上記複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%以下である場合、又は60mol%以上である場合、バルクの抵抗値が1〜5Ω・cmで安定したターゲットを得ることが困難である。
また、上記第2の課題解決手段による作用は以下の通りである。すなわち、上記第1の課題解決手段に加えて、さらに、上記中間層が、バルクの抵抗値が1〜5Ω・cmのターゲットを用いてRFスパッタ装置により成膜されたものである。このため、中間層を形成する際に、高い成膜速度で成膜することができる。
本発明によれば、前記中間層の表面の傷付きによる外観不良が生じにくく安定生産が可能な光情報記録媒体を提供することができる。また、本発明によれば、高い成膜速度で中間層を形成でき、容易に生産することが可能な光情報記録媒体を提供することができる。本発明の前記目的とそれ以外の目的、構成特徴、作用効果は、以下の説明と添付図面によって明らかとなろう。
以下、本発明の光情報記録媒体の第1の実施形態について、図1及び図2を参照して説明する。図1は第1の実施形態の光情報記録媒体10の全体構造を示す平面図である。図2は前記実施形態の内部構造の概要を説明するための上記図1における破線で囲まれたBの領域内における部分拡大断面図である。
図1に示すように、本実施形態の光情報記録媒体10は、中心に孔を有し、外径約120mm、内径約15mm、厚さ約1.2mmのディスク状の外観を有するものである。そして、前記光情報記録媒体10の図1において破線で囲まれたBの領域の内部構造の概要を図2に示す。図より明らかなように、まず、基板11は、一方の主面に螺旋状の溝12が形成された円環状の外観を呈し、その厚さは約1.1mmであり、材質は樹脂製である。該基板11の前記一方の主面上には、後述するようにレーザ光を反射するAg合金からなる光反射層13が形成されている。前記光反射層13の前記基板11の溝12が形成された主面と接する側とは反対側の表面には、前記基板11の溝12に対応するように前記基板11の溝12と等しいトラックピッチTrBで螺旋状に形成されたグルーブ13bと、該グルーブ13bに隣接するランド13aとが形成されている。次に、前記光反射層13の上には、波長400〜420nm(例えば405nm)のレーザ光を吸収する例えば下記化学式1に示す有機色素等から構成された光吸収物質を含有する光記録層14が形成されている。
Figure 0004695632
(式中、環Aはそれが結合している炭素原子及び窒素原子と一緒になって形成する複素環を表し、環Bは置換されてもよいベンゼン環を表し、環Cはそれが結合している窒素原子を含む複素環を表し、これが環Bと結合してもよく、Xは活性水素を有することができる基を表し、M2+は2価の陽金属イオンを表し、陰イオン全体をアゾ色素分子としてその2分子に対してM2+を1分子結合させた金属錯体を表す。)そして、前記光記録層14の上には、例えばNb−Al系複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nb/(Nb+Al)の比率が55mol%である光透過性の中間層15が形成されている。該中間層15は、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%より多く、60mol%未満である。該中間層15の組成を上記のようにすることで、該中間層15を形成する際の中間層15とスパッタリングターゲットとの間の異常放電による前記中間層15表面への傷つきが生じにくい。また、上記中間層15が、バルクの抵抗値が1〜5Ω・cmのターゲットを用いてRFスパッタ装置により成膜されたものである。該ターゲットのバルクの抵抗値を上記のようにすることで、高い成膜速度で成膜することができる。さらに前記中間層15の上には、透明樹脂材料からなる光透過性のカバー層が形成されており、該カバー層16の厚さは約0.1mmである。
上記本実施形態の光情報記録媒体10に前記光透過性のカバー層16側から波長400〜420nm(例えば405nm)のレーザ光を照射することにより、図3に示すように、前記光記録層14中の有機色素が前記レーザ光を吸収して発熱し、光学的に読み取り可能なピット17が形成される。このとき、前記中間層15は、容易に変形を生じ、前記ピット17の形成を助けるため、本実施形態の光情報記録媒体10は、ユーザー情報を良好に記録することができる。
次に、上記基板11の好ましい実施形態は次の通りである。すなわち、上記基板11としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。具体的には、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル樹脂、アルミニウム等の金属、ガラス等を挙げることができ、必要によりこれらを併用してもよい。上記材料の中では、成型性、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。これらの樹脂を用いた場合には、射出成形等の方法で所定の形状(光ディスクなら円環状)に基板11を作成することが好ましい。また、上記基板11の厚さは0.9〜1.1mmの範囲とすることが好ましい。このとき、基板11の射出成型に用いられる金型内に、一方の主面に前記溝12とは逆パターンの螺旋状の凸条の微細加工が施されたスタンパと呼ばれる型板を配置して前記基板11の射出成型時に同時に螺旋状の溝12が形成されることが好ましい。この溝12は、一般的には、0.35μmあるいは0.32μmのピッチで形成されている。また、基板11はこれに限るものではなく、例えば紫外線硬化性樹脂を基台上に塗布し、塗膜を硬化させ前記基台から分離して基板11として用いることもできる。
次に、上記光反射層13の好ましい実施形態は次のとおりである。上記光反射層13はデータの記録および/または再生用のレーザ光を反射させるものであり、本発明においては、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板11と光記録層14との間に設けられることが好ましい。上記光反射層13としては、Au,Al,Ag,CuあるいはPd等の金属膜、これらの金属の合金膜、例えばAg合金やAl合金、あるいはこれらの金属に微量成分が添加された合金膜等、反射率の高い金属薄膜が好ましく、例えば蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、等により前記基板11の溝12が形成された面上に形成されることが好ましい。中でも、量産性、コストの面からスパッタリング法が特に好ましい。前記光反射層13の前記基板の主面と接する側とは反対の表面には、前記基板11の溝12に対応するように前記基板11の溝12と等しいトラックピッチで螺旋状のグルーブ13bが形成されることが好ましい。また、該グルーブ13bは、前記基板11の前記螺旋状の溝が形成された主面上に前記光反射層13をスパッタリング法等により一様な厚みで形成することにより形成されることが好ましい。
次に、上記光記録層14の好ましい実施形態は次の通りである。すなわち、上記光記録層14としては、レーザ光を吸収する有機色素から構成された光吸収物質を含むことが好ましい。中でも、レーザ光照射によりピットが形成されデータが記録される色素型の光記録層であることが好ましい。上記有機色素としては、フタロシアニン色素、シアニン色素、アゾ系色素等が好ましい。例えば下記化学式1又は化学式2に示すアゾ系の色素もしくは化学式3に示すシアニン系色素を結合剤等と共に例えばTFP(テトラフルオロプロパノール)等の溶剤に溶解して塗布液を調整し、次いで、この塗布液を前記基板11上に上記光反射層を介してスピンコート法やスクリーン印刷法等により塗布して塗膜を形成した後、例えば温度80℃で30分間程度乾燥することにより形成することが好ましい。
Figure 0004695632
(式中、環Aはそれが結合している炭素原子及び窒素原子と一緒になって形成する複素環を表し、環Bは置換されてもよいベンゼン環を表し、環Cはそれが結合している窒素原子を含む複素環を表し、これが環Bと結合してもよく、Xは活性水素を有することができる基を表し、M2+は2価の陽金属イオンを表し、陰イオン全体をアゾ色素分子としてその2分子に対してM2+を1分子結合させた金属錯体を表す。)
Figure 0004695632
(式中、A及びA’は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれるヘテロ原子を1又は複数含んでなる、互いに同じか異なる複素環を表わし、R21乃至R24は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表わし、Y21、Y22は周期律表における第16族の元素から選ばれる互いに同じか異なるヘテロ原子を表わす。)
Figure 0004695632
(式中、Φ+ 及びφは、それぞれイドレニン環残基、ベンゾインドレニン環残基又はジベンゾインドレニン環残基を表し、Lはモノ又はジカルボシアニン色素を形成するための連結基を表し、X- は陰イオンを表し、mは0又は1の整数である。)
次に、上記中間層15の好ましい実施形態は次のとおりである。上記中間層15は、上記光記録層14と後述するカバー層16との間に、光記録層14とカバー層16との混和を防止する等を目的として形成されることが好ましい。上記中間層15としては、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%より多く、60mol%未満であることが好ましい。該中間層15は、光透過性を有することが好ましく、例えば蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、等により前記光記録層14が形成された面上に形成されることが好ましい。中でも、量産性、コストの面からRFスパッタ装置を用いたスパッタリング法が特に好ましい。RFスパッタ装置は、導電性の真空チャンバーとターゲットとの間に交流(高周波)電圧をかけるもので、ターゲット側の電子は逃げ場がなく密度が高まり、結果的にターゲット側がマイナスにバイアスされ、イオンがターゲットに引き寄せられ、ターゲットに衝突したイオンがターゲットの複合酸化物の粒子をはじき飛ばし、はじき飛ばされた複合酸化物の粒子が基板11の前記光記録層14上に衝突、付着し、中間層15が形成される。このとき、抵抗が小さい前記複合酸化物におけるNbの比率が70mol%の従来のターゲットを使用すると、すでに堆積された中間層とターゲットとの間に異常放電を生じやすいが、本発明においては、前記複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%より多く、60mol%未満であるため、前記従来の複合酸化物に比べて抵抗が大きく、すでに堆積された中間層15とターゲットとの間に異常放電が生じるのを抑制することができる。RFスパッタ装置を用いて前記中間層15をスパッタリングにより形成する場合、真空チャンバー内の圧力は1×10−2〜1×10−5torrとすることが好ましく、スパッタ速度は、0.1〜20nm/secとすることが好ましい。スパッタ電力は、0.2〜5.0kWが好ましい。また、上記中間層15は、バルクの抵抗値が1〜5Ω・cmのターゲットを用いてRFスパッタ装置により成膜されたものであることが好ましい。上記ターゲットのバルクの抵抗値は、例えば該ターゲットを構成する複合酸化物中に酸素欠損を生じさせる等により1〜5Ω・cmに調整することが好ましい。また、上記複合酸化物中に酸素欠損を生じさせるためには、例えば焼成により前記複合酸化物を得る際の焼結過程を真空中、または還元雰囲気中で行うことにより酸素欠損を積極的に導入することができる。また、上記に限らず、例えば、前記複合酸化物を構成する原料の少なくとも一つの原料をその一部または全部を酸化物粉体もしくは炭酸塩粉体ではなく、金属粉体の形で混合し、かつ真空中または酸素を含まない雰囲気中で焼成することにより、酸素欠損を積極的に導入することができる。
次に、上記カバー層16の好ましい実施形態は次の通りである。すなわち、上記カバー層16としては、光透過性の樹脂からなるものが好ましく、紫外線硬化性樹脂をスピンコート法等によって塗布形成されることが好ましい。上記カバー層16の厚さは、通常400nm〜420nm付近(例えば405nm)の波長のレーザ光が照射されて前記光記録層14にデータ記録及び/又は前記光記録層14から読み出しされるように構成されるために、0.1mmが好ましい。該カバー層16の光透過率は、硬化後の厚さ0.1mmで、波長400nm〜420nm付近(例えば、405nm)の光にて分光光度計で測定したとき、70%以上が好ましく、80%以上がより好ましい。また、上記に限定するものではなく、例えばポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、等の光透過性の良好な樹脂からなる厚さ約0.1mmのシートを、エポキシ系その他の透明な反応性硬化樹脂、もしくは紫外線硬化性の透明な樹脂を主成分とする接着剤を用いて、前記中間層15の上に接着してもよい。
次に、本発明の実施形態の光情報記録媒体10の実施例について説明する。(実施例1)ガラス原盤上にスピンコート法によってフォトレジスト(感光剤)をそれぞれ所定の厚さで塗布してレジスト膜を形成し、カッティング装置のレーザ光により所定の露光幅寸法となるように露光した後、得られたガラス原盤上に現像液を滴下し、現像処理して、ディスク状の光情報記録媒体の基板の溝に対応した凹凸のレジストパターンを形成した。次に、このガラス原盤上にめっき処理によりニッケルを析出させ、これを剥離し、外形をディスク形状にトリミングしてスタンパを得た。次に、このスタンパを射出成型装置のキャビティ内にセットし、キャビティ内にポリカーボネート樹脂を注入して、一方の主面に螺旋状の溝を有する基板11を得た。この基板11の前記螺旋状の溝12が形成された主面上にスパッタ装置を用いてAg合金を一様な厚みでスパッタして、前記基板11の溝12が形成された主面と接する側とは反対側の表面に前記基板11の溝12に対応する螺旋状のグルーブ13bを備えた厚さ100nmの光反射層13を設けた。さらにこの基板上に厚さ60nmになるように、前記一般式1に示すアゾ系の有機色素を含有する色素溶液をスピンコート法により塗布し、乾燥して、光記録層14を形成した。次に、この基板上に、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が55mol%のターゲット(ターゲットのバルク抵抗値:1.4Ω・cm)を用い、RFスパッタ装置のスパッタ電力を2.0kWの条件でスパッタリングして、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が約55mol%の厚さ25nmの中間層15を形成した。次に、この基板上に紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、UV照射により硬化させ、厚さ0.1mmのカバー層16を形成して光情報記録媒体10を作成した。
作成した光情報記録媒体10の外観を前記カバー層16側から目視で観察した結果、異常放電に起因する傷跡等は見当たらなかった。また、前記光情報記録媒体10を波長405nm,NA=0.85のレーザ光学系を搭載したパルステック工業株式会社製の光記録媒体評価装置「ODU−1000」にセットし、5.5mWのパワーで1−7変調されたランダム信号(2T〜8T)を記録し、0.35mWのパワーで再生して電気特性のジッター特性を評価した。この時、線速は9.84m/sで、記録時のレーザの発光パターンを最適化して行った。尚、ジッター特性は、上記光記録媒体評価装置を使用して測定し、その結果は、6.5%であった。尚、このとき、成膜速度は3.43nm/secであり、放電中も安定していた。
(実施例2)上記中間層の形成時、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が58mol%であるターゲット(ターゲットのバルク抵抗値:1.2Ω・cm)を用いて、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が58mol%である中間層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして実施例2の光情報記録媒体を作成し、上記と同様に評価を行った。この結果、外観は上記実施例1と同様に、異常放電に起因する傷跡等は見当たらなかった。また、ジッター特性は、6.8%であった。尚、このとき、成膜速度は3.40nm/secであり、放電中も安定していた。
(実施例3)上記中間層の形成時、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が53mol%であるターゲット(ターゲットのバルク抵抗値:3.0Ω・cm)を用いて、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が53mol%である中間層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして実施例3の光情報記録媒体を作成し、上記と同様に評価を行った。この結果、外観は上記実施例と同様に、異常放電に起因する傷跡等は見当たらなかった。また、ジッター特性は、6.8%であった。尚このとき、成膜速度は3.55nm/secであり、放電中も安定していた。
(比較例1)上記中間層の形成時、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が65mol%であるターゲット(ターゲットのバルク抵抗値:0.4Ω・cm)を用いて、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が65mol%である中間層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして比較例1の光情報記録媒体を作成し、上記と同様に評価を行った。この結果、外観を観察したところ、光情報記録媒体試料10枚中10枚で異常放電に起因すると思われる傷跡(例えば、幅7mm、長さ5mm)が発見された。また、ジッター特性は7.5%であった。
(比較例2)上記中間層の形成時、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が70mol%であるターゲット(ターゲットのバルク抵抗値:1.0E+08Ω・cm(絶縁体))を用いて、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が70mol%である中間層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして比較例2の光情報記録媒体を作成し、上記と同様に評価を行った。この結果、成膜速度は0.90nm/secであり、前記実施例に比べて著しい低下が見られ、生産性を考慮すると現実的ではない。
(比較例3)上記中間層の形成時、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%であるターゲット(ターゲットのバルク抵抗値:1.0E+08Ω・cm(絶縁体))を用いて、Nb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%である中間層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして比較例3の光情報記録媒体を作成し、上記と同様に評価を行った。この結果、成膜速度は0.80nm/secであり、前記実施例に比べて著しい低下が見られ、生産性を考慮すると現実的ではない。
次に、本発明の光情報記録媒体の第2の実施形態について図4を用いて説明する。図4は、第2の実施形態の光情報記録媒体20の内部構造を示す部分拡大断面図である。
上記第1の実施形態の光情報記録媒体10においては、前記カバー層16が単層構造であったが、本発明はこれに限定するものではなく、例えば、図4に示すようにカバー層26が、光透過性の第1の樹脂層26aと、同じ
く光透過性の第2の樹脂層26bとの2層構造からなるものであってもよい。また、このとき、前記第1の樹脂層26aが紫外線硬化性の接着剤層であり、前記第2の樹脂層26bがポリカーボネート製の厚さ0.1mm未満(例えば、0.075mm)のシートであってもよい。この場合、前記第1の樹脂層26aと前記第2の樹脂層26bとを合計した厚さは、0.1mmであることが好ましい。
本実施形態の光情報記録媒体20が先の第1の実施形態の光情報記録媒体10と異なる点は、前記カバー層26が、光透過性の第1の樹脂層26aと、同じく光透過性の第2の樹脂層26bとの2層構造からなることにあり、その他の点は先の第1の実施形態と同様であるため説明を省略する。
本発明の光情報記録媒体の第1の実施形態の全体構造を示す平面図である。 上記第1の実施形態の光情報記録媒体の上記図1において破線で囲まれるBの領域の内部構造を示す部分拡大断面図である。 上記第1の実施形態の光情報記録媒体にレーザ光照射によりピットを形成した状態を示す部分拡大断面図である。 本発明の光情報記録媒体の第2の実施形態の内部構造を示す部分拡大断面図である。 背景技術の光情報記録媒体を示す部分拡大断面図である。
符号の説明
10:光情報記録媒体11:基板12:溝13:光反射層13a:ランド13b:グルーブ14:光記録層15:中間層16:カバー層17:ピット20:光情報記録媒体21:基板22:溝23:光反射層23a:ランド23b:グルーブ24:光記録層25:中間層26:カバー層26a:第1の樹脂層26b:第2の樹脂層

Claims (2)

  1. 基板上に、光反射層、有機色素を含有する光記録層、中間層、及びカバー層をこの順に備えた光情報記録媒体において、 前記中間層は、スパッタリングにより形成されたNb−Al系の複合酸化物からなり、該複合酸化物における前記Nbの比率が50mol%より多く、60mol%未満であることを特徴とする光情報記録媒体。
  2. 上記中間層は、バルクの抵抗値が1〜5Ω・cmのターゲットを用いてRFスパッタ装置により成膜されたものであることを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。
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