JP4694959B2 - 光線路試験方法及び試験システム - Google Patents

Description

本発明は、光通信設備の信頼性を向上させ、保守運用を効率化する、光通信設備の光線路試験方法及び試験システムに関するものである。

光線路試験システムは、光線路である光ファイバケーブルを試験するシステムである。

図５は従来の光線路試験システムを示す構成説明図である。図５のシステムにおいて、光線路を構成する光ファイバ９は、電気通信設備を設置する通信設備ビル１０に設置され、光信号を送受信する伝送装置１１と、ユーザ宅１２に設置され、伝送装置１１と対向して光信号を送受信する伝送装置１３の間に接続されている。また、設備情報を管理する設備管理センタ１４には光線路設備のデータベース１５と後述する光試験装置１６を遠隔で操作する操作端末１７が設置され、通信網１８を介して通信設備ビル１０と設備管理センタ１４との間が接続されている。

通信設備ビル１０内の光ファイバ９に、試験光を構成する光ファイバ９に合分波すると共に、伝送装置１１への試験光を遮断する光カプラモジュール１９が設置され、ユーザ宅１２内の伝送装置１３の直前の光ファイバ９に、通信光を通過すると共に伝送装置１３への試験光を遮断するターミネーションフィルタ２０が接続されている。また、光カプラモジュール１９は、試験が実施される光ファイバ心線を選択する心線選択装置２１が接続された光成端架２２に設置されており、光成端架２２と後述の光測定器２３とを選択する光測定器・光成端架選択装置２４と、光パルス試験器（以下ＯＴＤＲという）、損失試験光源、心線対照光源、パワーメータの機能を持つ光測定器２３と、操作端末１７からの試験指示を受け取り、試験結果を設備管理センタ１４に送信する試験制御装置２５等から構成される。光測定器２３と、光測定器・光成端架選択装置２４、試験制御装置２５をまとめて光試験装置１６と呼ぶ。

設備管理センタ１４にある操作端末１７から、データベース１５に基づいて試験命令を光試験装置１６に出す。命令に従って、光試験装置１６の試験制御装置２５は、光測定器・光成端架選択装置２４で光測定器２３を選択し、更に、光カプラの試験光入出力ポートが収容されている心線選択装置２１で、指定された光ファイバ心線が接続された光カプラモジュール１９の試験光入力ポートを選択する。

光線路の障害を検知する方法として主にＯＴＤＲを用いた光パルス試験がある。図５の光線路試験システムでの試験において、パルス光の試験光を光測定器２３から入射する。光測定器・光成端架選択装置２４により試験する光ファイバ９に接続され、試験光は光ファイバ９に入射される。被測定光ファイバ９の各点において、入射した試験光に対して、レイリー後方散乱光が発生し、測定器２３に向かって戻る。ユーザ宅１２内のターミネーションフィルタ２０まで達した試験光パルスは、ターミネーションフィルタ２０により遮断される。各点でのレイリー後方散乱光は通信設備ビル１０内の伝送装置１１前の光カプラモジュール１９によって、ほぼ全てが光試験装置１６側に向かい、伝送装置１１には入射されない。入射から検出までの時間により、試験光パルスの光ファイバ９の各点での散乱光強度が測定される。光ファイバ９内での接続損失、反射点を検出できる。光測定器２３からの試験光が光通信サービスに影響を与えないように、通信光と試験光は異なる波長を用い、伝送装置１１と伝送装置１３の前には、試験光のみを遮断する光カプラモジュール内フィルタ２６とターミネーションフィルタ２０をそれぞれ設置する。

光ファイバの接続損失や反射点に加えて、歪みや温度の異常を検出する試験法としてＢＯＴＤＲ（Ｂｒｉｌｌｏｕｉｎ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｂｅｒ Ｔｉｍｅ Ｄｏｍａｉｎ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｒｙ）の方法があり、特許文献１に示されている。試験光パルスを、光カプラでプローブ光とローカル光に分岐して、プローブ光を光ファイバに入射し、発生した後方ブリルアン散乱光と、先の分岐したローカル光と合波し、受光素子でビート信号を受信する。ビート信号は、１０ＧＨｚほどのローカル光と散乱光の周波数の差の値の周波数を有しており、ブリルアン周波数シフトを示す。このブリルアン周波数シフトは、歪み、温度分布により変化するため、ブリルアン周波数シフトを測定することで、光ファイバ中の歪み、損失も測定できる。従来の光線路試験システムの光測定器２３にブリルアン散乱光測定器を用いれば、温度、歪みを測定可能なシステムとなる。

ここで、前述のブリルアン周波数シフトは数十ＭＨｚ程度のスペクトル幅を持つため、従来の上記光試験方法では、光ファイバ固有のブリルアン周波数シフトを検出する際に、ブリルアン周波数スペクトルの最大値を検出している。ブリルアン周波数シフトのピークはローレンツ関数の形をしている（例えば、非特許文献１参照。）。このため、ブリルアン周波数スペクトルの最大値を検出する方法では、複数のブリルアン周波数シフトを励起する場合でも１つしか検出できないという問題があった。

図６は従来の光線路試験システムを示す構成説明図であり、図７は従来のブリルアン周波数シフトスペクトルを示す特性図である。図６において、１は局内伝送装置、２はブリルアン散乱光測定器、３は第一の光ファイバ、４は第一の光ファイバとは異なるブリルアン周波数シフトを持つ第二の光ファイバ、５は加入者端末、６は加入者端末内の受光部である。また、図７において、入射する試験光パルスの周波数をν_０、第一の光ファイバ３からのブリルアン周波数シフトをν_１、第二の光ファイバ４からのブリルアン周波数シフトをν_２とする。第一の光ファイバ３からのブリルアン周波数シフトのスペクトルと、第二の光ファイバ４からのブリルアン周波数シフトのスペクトルは、ピークをとる周波数がν_１とν_２と異なるだけで、全く同じスペクトル形状とパワー、半値幅Δをとるものとする。第一の光ファイバ３のブリルアン周波数シフトのスペクトルＳ_１（ν）と、第二の光ファイバ４のブリルアン周波数シフトのスペクトルＳ_２（ν）はローレンツ関数を用いてそれぞれ

で表すことができる。ｇ_１＝ｇ_２である。

実際に測定されるブリルアン周波数シフトのスペクトルＳ（ν）は、２つのスペクトルの線型結合になる。
Ｓ（ν）＝ａＳ_１（ν）＋ｂＳ_２（ν）
となる。試験光パルスが第一または第二の光ファイバのみに存在するときの散乱では、それぞれ係数は

である。

また、第二の光ファイバ４の長さをＬ_２、試験光パルス幅をｗ、光ファイバ内の光速をｖとすれば、試験光パルスが光ファイバ中に存在する長さはｗｖとなる。試験光パルスが第一と第二の光ファイバの接続点を通過するとき、試験光パルスが存在する光ファイバの割合に応じて散乱光のパワーが決まる。

一般的に、ターミネーションケーブルを接続する加入者端末の受光ポートから受光器までは第一の光ファイバ３と同等のシングルモード光ファイバで接続されており、第一の光ファイバ３とブリルアン周波数シフトがほぼ等しいため、ａとｂは被測定線路中の異なるシフトを生じる領域Ｌ_２、つまり第二の光ファイバ４の長さがパルスが光ファイバ中に存在する長さｗｖより短い場合、つまり、Ｌ_２≦ｗｖのときは、光ファイバ４の長さに比例して周波数ν_２のピークのパワーが小さくなり、全ての時刻において第二の光ファイバ４の周波数ν_２のピークが単独で観測されることは無い。さらに、第二の光ファイバ４の長さが光ファイバ中に存在するパルスの長さの半分より短い場合、つまり、Ｌ_２≦ｗｖ／２のときは全ての時刻において第二の光ファイバ４の周波数ν_２のピークパワーより第一の光ファイバ３の周波数ν_１のピークパワーの方が大きくなる。

このため、光ファイバ中に存在するパルス幅の半分よりも第二の光ファイバ４の長さが短いと第二の光ファイバ４は検知できないという問題がある。

例えば、試験光パルス幅が１００ｎｓの場合、光ファイバの屈折率が１．４８だとすると、実際にこの試験光パルスが光ファイバ中に存在する長さは１００×１０＾（−９）×３×１０＾８（光速）／１．４８≒約１０ｍである。この１００ｎｓの試験光パルスが、光ファイバに存在する長さ１０ｍの半分（ＯＴＤＲの測定法により）が従来の１００ｎｓの試験光パルスでの測定の分解能になり、第二の光ファイバが５ｍ以下では検知できない。

また、一般に、測定器のダイナミックレンジを拡大するためには、光パルスの幅を広げるという手段をとる。ブリルアン後方散乱光強度はパルス幅に応じて大きくなるが、異なるブリルアン周波数シフトを生じる領域が、光ファイバ内の試験光パルスの長さに対して短い場合には、その領域からのブリルアン散乱光のパワーはパルス幅によらず一定であるため、ν_２を生じる領域を検知するブリルアン散乱光測定器の距離分解能はパルス幅を広げると劣化する。

特開平３-１２０４３７号公報 P.J.Thomas,N.L.Rowell,H.M.van Driel,and G.I.Stegeman,"Normal acoustic modes and Brillouin scattering in single-mode optical fibers,"Phys.Rev.B,vol.19,pp.4986-4998,May 1979

本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、ブリルアン周波数シフト変化が短い領域で発生する場合に、試験光パルス幅によらずに高分解能にブリルアン周波数シフト変化を検出できる光線路試験方法及び試験システムを提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明は、局内伝送装置と加入者端末を接続する光ファイバ線路の光ファイバに生じるブリルアン後方散乱光の周波数スペクトルを検出することにより、光ファイバ線路の異常を検出する光線路試験方法であって、被測定光ファイバ線路は、第一の光ファイバと、第一の光ファイバとは異なるブリルアン周波数シフトを持つ第二の光ファイバとから構成され、第二の光ファイバに直接加入者端末内の受光部が接続してあり、ブリルアン後方散乱光の周波数スペクトルにおける複数の極大値とパワー変化を検出することにより光ファイバ線路のブリルアン周波数シフトの光ファイバ長手方向の変化による異常を検出することを特徴とする。

また本発明は、前記光線路試験方法において、ブリルアン後方散乱光の周波数スペクトルにおける複数の極大値とパワー変化を、ブリルアン散乱光測定器を用いて検出することを特徴とする。

また本発明は、前記光線路試験方法において、第二の光ファイバと加入者端末の間には試験光パルスを遮断する光フィルタがあることを特徴とするものである。

また本発明は、前記光線路試験方法において、第二の光ファイバには、ブリルアン散乱光測定器の受光部の受光する周波数の範囲外の周波数のブリルアン周波数シフト、もしくは第二の光ファイバのブリルアン周波数シフトのピークのパワーより小さいパワーのピークのブリルアン周波数シフトを有する第三の光ファイバを接続することを特徴とするものである。

また本発明は、前記光線路試験方法において、第二の光ファイバの長さは、パルス幅をｗ、光ファイバ中の光の速さをｖとすると、ｗｖ／２以下であることを特徴とするものである。

また本発明は、前記光線路試験方法において、被測定光ファイバ線路は光スプリッタと、該光スプリッタの下部にそれぞれ異なるブリルアン散乱周波数シフトが設定された光ファイバが接続されていることを特徴とするものである。

本発明の光線路試験方法及び試験システムは、ブリルアン周波数シフトのピークを、試験光パルス幅に依存せずに、試験光パルス幅に対して短い光ファイバでも測定でき、高分解能な、ブリルアン散乱を利用するシステムを構築することができる。また、スペクトル中に複数のブリルアン周波数シフトのピークが存在したときも、容易に検出が可能である。また、ブリルアン周波数シフトを設計した光ファイバを非常に短くできるので、各ユーザ側での識別機能部を小さくすることができ、ＯＮＵ等のユーザ側端末内に収納が容易になる。また、光ファイバの歪み、温度を測定する際の高分解能化にも有効である。

以下図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
［実施形態１］
図１は本発明の実施形態に係る光線路試験システムを示す構成説明図である。図１中、図６と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。ただし、第二の光ファイバ４を接続する加入者端末５の受光ポートには受光部６を直接接続する。第二の光ファイバ４は、光ファイバ中の試験光パルス幅の長さｗｖの半分より短い、つまりＬ_２≦ｗｖ／２とする。

すなわち、局内伝送装置１と加入者端末５を接続する光ファイバ線路の第一の光ファイバ３及び第二の光ファイバ４に生じるブリルアン後方散乱光の周波数スペクトルの最大値をブリルアン散乱光測定器２で検出することにより、光ファイバ線路の異常を検出する。被測定光ファイバ線路は、第一の光ファイバ３と、第一の光ファイバ３とは異なるブリルアン周波数シフトを持つ第二の光ファイバ４とから構成され、第二の光ファイバ４に直接加入者端末５内の受光部６が接続してある。また、前記ブリルアン後方散乱光の周波数スペクトルにおける複数の極大値を検出することにより光ファイバ線路のブリルアン周波数シフトの変化による異常を検出することができる。

線路にパルス幅ｗを持った試験光パルスを入射すると、試験光パルスが第一の光ファイバ３と第二の光ファイバ４の接続点に差し掛かったときに、発生するブリルアン散乱光は第一の光ファイバ３のブリルアン周波数シフトのν_１と、第二の光ファイバ４のブリルアン周波数シフトのν_２の２つのピークを有する。
ブリルアン後方散乱光のスペクトルの、時間変化を説明する。
試験光パルスが完全に第一の光ファイバ３に入射し終わる時刻をｔ＝０とする。

図２は本発明の実施形態に係る各時刻ごとのブリルアン周波数シフトのスペクトルを示す特性図である。図２において、横軸は周波数シフトを表し、縦軸はスペクトルのパワーを表す。

図３は本発明の実施形態に係る各時刻でのパルスの様子とパルス幅の２つの光ファイバ中に存在する長さの存在比を示す説明図である。

（１） ０≦ｔ≦（Ｌ_１−ｗｖ）／ｖのときは、試験光パルスは完全に第一の光ファイバ３にしか存在しないので、ブリルアン周波数シフトスペクトルのピークはν_１にしか存在しない。測定されるブリルアン周波数シフトのスペクトルは、Ｓ（ν）＝Ｓ_１（ν）となる。

（２） （Ｌ_１−ｗｖ）／ｖ≦ｔ≦−ｗ＋（Ｌ_１＋Ｌ_２）／ｖのときは、試験光パルスは、第一の光ファイバ３、第二の光ファイバ４両方からブリルアン散乱されるが、後方散乱光の中で、第一の光ファイバ３から散乱される割合の方が大きいので、ブリルアン周波数シフトのスペクトルは、ν_１とν_２の二つのピークを持つが、ν_１のピークの方が大きくなる。測定されるブリルアン周波数シフトのスペクトルは、図３の二つの光ファイバ中のパルス幅の長さの比より、

となる。

（３） −ｗ＋（Ｌ_１＋Ｌ_２）／ｖ≦ｔ≦Ｌ_１／ｖ−Ｌ_２／ｖのときは、（２）と同じように、両方の光ファイバに試験光パルスがまたがっているので、ブリルアン周波数シフトのピークはν_１、ν_２の二つ現れる。ただし、試験光パルスの一部（長さで言うとｗｖ−Ｌ_１−Ｌ_２＋ｖｔ）が第二の光ファイバ４を通過し、放射されている。第二の光ファイバ４から試験光ファイバが放射される時に、フレネル反射が起こっている。しかしフレネル反射の光は、周波数が試験光と同じであるが、ブリルアン周波数シフトを測定するために受光部６の周波数帯が１０ＧＨｚほどずれているので、測定されることはない。光ファイバに残っている試験光パルスの長さはＬ_１＋Ｌ_２−ｖｔであり、長さＬ_１−ｖｔの分が第一の光ファイバ３にあり、長さＬ_２の分が第二の光ファイバ４にある。測定されるブリルアン周波数シフトのスペクトルは、図３の二つの光ファイバ中のパルス幅の長さの比より、

となる。

ここで、−ｗ＋（Ｌ_１＋Ｌ_２）／ｖ≦ｔ≦Ｌ_１／ｖ−Ｌ_２／ｖなので、Ｌ_２≦Ｌ_１−ｖｔ≦ｗｖ−Ｌ_２となり、Ｓ_１の係数の方がＳ_２の係数より大きくなり、（２）と同じく第一の光ファイバ３のブリルアン周波数シフトのν_１のピークのほうが大きくなる。しかし、試験光パルスの一部が第二の光ファイバ４を通過し、放射されているため、ν_１のピークの大きさは（２）のときより小さくなる。ν_２のピークは、第二の光ファイバ４にある試験光パルスの大きさはＬ_２で固定のためにｔ＝−ｗ＋（Ｌ_１＋Ｌ_２）／ｖのときと変わらない。

（４） Ｌ_１／ｖ−Ｌ_２／ｖ≦ｔ≦Ｌ_１／ｖのときは、（３）のときと同じく、ブリルアン周波数シフトのスペクトルはν_１とν_２にピークを持ち、また、試験光パルスの一部（長さｗｖ−Ｌ_１−Ｌ_２＋ｖｔ）が第二の光ファイバ４を通過し放射されている。しかし、今度は第一の光ファイバ３に残っている試験光パルスＬ_１−ｖｔと第二の光ファイバ４に残っている試験光パルスＬ_２ではＬ_１−ｖｔ≦Ｌ_２となり、第二の光ファイバ４に残っている試験光パルスのほうが大きくなるので、ν_２のピークの方が大きくなる。しかし、第二の光ファイバ４を通過し、放射された試験光パルスの大きさが（３）のときより大きいので、ν_１のピークの大きさはさらに小さくなっている。ν_２のピークの大きさは、（３）と同じ理由でやはり（３）と変わらない。測定されるスペクトルは、図３の二つの光ファイバ中のパルス幅の長さの比より、

となる。

（５） Ｌ_１／ｖ≦ｔ≦（Ｌ_１＋Ｌ_２）／ｖになると、試験光パルスは完全に第二の光ファイバ４にしか存在しないため、ブリルアン周波数シフトのピークはν_２にしか存在せず、測定されるスペクトルのピークは、

となる。

このように、従来の例とは異なり、第二の光ファイバ４の後方に第一の光ファイバ３と同等の仕様の第三の光ファイバが設置されていないため、（５）のときのように、たとえ、試験光パルスが光ファイバ内に存在する長さよりも第二の光ファイバ４が短い、つまり、測定分解能よりも短い光ファイバでも、線路の終端に接続することで、そのピークを検出することができる。本実施形態の構成とすれば、例えば、ブリルアン散乱光測定器２の受光帯域が１ＧＨｚであれば１０ｃｍ程度でも検出可能である。また、試験光パルス幅に依存しない分解能を得ることができるため、試験光パルス幅に依存するピークの広がりを、分解能を考慮する必要なしに試験光パルス幅で最適化することができる。また、光ファイバの歪みや温度の測定にも同様に高分解能測定が可能である。

また、第二の光ファイバ４の加入者端末５側の端に、試験光パルスを遮断する光フィルタを設置しても上記と同様の効果が得られる。従来の試験方法で用いられていたフィルタは位置を切り分けるため、反射を大きく設計していたが、本実施形態では、ブリルアン周波数シフトの有無で位置の切り分けができるため、反射が無くてもよく、反射の無いフィルタとしては、誘電体多層膜フィルタや長周期グレーティングフィルタで実現できる

また、実施形態１での第二の光ファイバ４の後にブリルアン散乱光測定器２の受光部の受光する周波数の範囲外の周波数のブリルアン周波数シフト、もしくは第二の光ファイバ４のブリルアン周波数シフトのピークのパワーより小さいパワーのピークのブリルアン周波数シフトν_３を有する第三の光ファイバを接続し、その光ファイバが加入者端末の受光部に接続されているとすると、前述の実施形態と同様の効果が得られ、上記第二の光ファイバ４を単独で検出することができる。第二の光ファイバ４を３つの光ファイバを接続した線路の中間のモニター用光ファイバとして使う場合に短く安価に作ることが可能になり、また設置しやすいという利点がある。

［実施形態２］
背景技術で説明した図６で、測定されるブリルアン散乱光スペクトルの極大値を測定するとする。このとき、背景技術のところでも説明した通り、試験光パルスが光ファイバ中に存在する長さはｗｖだが、試験光パルスが第一と第二の光ファイバの接続点を通過する時、パルスの存在する光ファイバの割合によって散乱光のパワーが決まる。このため、Ｌ_２≦ｗｖのときは第二の光ファイバが単独で測定されず、Ｌ_２≦ｗｖ／２のときは、第二の光ファイバのブリルアン散乱光スペクトルのピークは常に第一、第三の光ファイバのブリルアン散乱光スペクトルのピークよりも小さくなる。ブリルアン散乱光スペクトルの極大値を検出すれば、このようなときでも第二の光ファイバを検出できる。つまり、従来の光試験システム構成であっても、第二の光ファイバを高分解能に検出可能である。このため、第二の光ファイバを検出する位置の精度がよくなり、分解能が上がる。

このようにブリルアン散乱光スペクトルの極大値を検出する方法を用いれば、どんなに短い区間、短い光ファイバでもパルス幅によらず検出することができる。

［実施形態３］
分岐する光線路での分岐の先の各光ファイバを識別する試験方法として、ブリルアン周波数シフトが異なるように設計された光ファイバを、加入者端末前にターミネーションケーブルとして設置し、該ターミネーションケーブルのブリルアン周波数シフトが発生する位置を測定するという、ユーザ装置までの光線路試験が考えられる。

図４は本発明の実施形態に係る光線路試験方法を示す構成説明図である。図４中、図１及び図６と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。図４において、７は光スプリッタより手前の光ファイバであり、光スプリッタ８を備えた分岐型光線路である。局内伝送装置１と加入者端末５−１〜５−４の間に光を等分岐する光スプリッタ８を配し、複数の加入者端末５−１〜５−４が１台の局内伝送装置１で伝送できる。加入者端末直前の短い第二の光ファイバ４−１〜４−４には３００ＭＨｚずつシフト量が異なるブリルアン散乱周波数シフトが割り当てられていて、設計した周波数毎にそれぞれの光ファイバを識別する。この線路でブリルアン散乱光スペクトルを測定する。通常のパルス幅に依存した分解能であれば、加入者端末直前の短い第二の光ファイバ４−１〜４−４は検出されないが、本実施形態の極大値を取る方法であれば、一度に広帯域のブリルアン周波数シフトを測定すれば、それぞれのブリルアン周波数シフトを確認することができるので、より簡便に識別可能である。

このように、ブリルアン散乱光スペクトルを測定する分岐線路の試験方法において、極大値を取る方法を用いれば、各線路の識別機能部を小さくでき、簡便に識別できるだけでなく、第二の光ファイバを短くできるので、ユーザ側の収納が容易になり、既存の線路システムに対し適応、導入しやすくなり、という利点がある。

なお、本発明は、上記実施形態例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態例に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。

本発明の実施形態に係る光線路試験システムを示す構成説明図である。 本発明の実施形態に係る各時刻ごとのブリルアン周波数シフトのスペクトルを示す特性図である。 本発明の実施形態に係る各時刻でのパルスの様子とパルス幅の２つの光ファイバ中に存在する長さの存在比を示す説明図である。 本発明の実施形態に係る光線路試験方法を示す構成説明図である。 従来の光線路試験システムを示す構成説明図である。 従来の光線路試験システムを示す構成説明図である。 従来のブリルアン周波数シフトスペクトルを示す特性図である。

符号の説明

１…局内伝送装置、２…ブリルアン散乱光測定器、３…第一の光ファイバ、４…第一の光ファイバとは異なるブリルアン周波数シフトを持つ第二の光ファイバ、５…加入者端末、６…加入者端末内の受光部。

Claims (6)

1. 局内伝送装置と加入者端末を接続する光ファイバ線路の光ファイバに生じるブリルアン後方散乱光の周波数スペクトルを検出することにより、光ファイバ線路の異常を検出する光線路試験方法であって、
   被測定光ファイバ線路は、第一の光ファイバと、第一の光ファイバとは異なるブリルアン周波数シフトを持つ第二の光ファイバとから構成され、第二の光ファイバに直接加入者端末内の受光部が接続してあり、ブリルアン後方散乱光の周波数スペクトルにおける複数の極大値とパワー変化を検出することにより光ファイバ線路のブリルアン周波数シフトの光ファイバ長手方向の変化による異常を検出することを特徴とする光線路試験方法。
2. 請求項１に記載の光線路試験方法において、ブリルアン後方散乱光の周波数スペクトルにおける複数の極大値とパワー変化を、ブリルアン散乱光測定器を用いて検出することを特徴とする光線路試験方法。
3. 請求項１又２に記載の光線路試験方法において、第二の光ファイバと加入者端末の間には試験光パルスを遮断する光フィルタがあることを特徴とする光線路試験方法。
4. 請求項２又は３に記載の光線路試験方法において、第二の光ファイバには、ブリルアン散乱光測定器の受光部の受光する周波数の範囲外の周波数のブリルアン周波数シフト、もしくは第二の光ファイバのブリルアン周波数シフトのピークのパワーより小さいパワーのピークのブリルアン周波数シフトを有する第三の光ファイバを接続することを特徴とする光線路試験方法。
5. 請求項１乃至４のいずれかに記載の光線路試験方法において、第二の光ファイバの長さは、パルス幅をｗ、光ファイバ中の光の速さをｖとすると、ｗｖ／２以下であることを特徴とする光線路試験方法。
6. 請求項１乃至５のいずれかに記載の光線路試験方法において、被測定光ファイバ線路は光スプリッタと、該光スプリッタの下部にそれぞれ異なるブリルアン散乱周波数シフトが設定された光ファイバが接続されていることを特徴とする光線路試験方法。

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