JP4683409B2 - マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法 - Google Patents
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Description
特開平8−31723号公報や特開2003−81654号公報に記載された製造方法により作製された合成石英ガラスインゴットから、約152mm×約152mm×約6.5mmに切り出して得られた合成石英ガラス板1(図1(a))に面取り加工を施し、次に、この合成石英ガラス板1の表面の一部である対向する端面2及び3と面取り面(不図示)とを、露光波長の光を導入できる程度に鏡面になるように研磨して合成石英ガラス基板4を準備する(図1(b))。この準備工程においては、合成石英ガラス基板4における表面の残部である両主表面5、6の表面粗さは約0.5μm以下であればよいが、鏡面研磨した端面2、3及び面取り面の表面粗さは約0.03μm以下とする。
次に、マスクブランク用ガラス基板7の主表面5、6上にマスクパターンとなる薄膜(ハーフトーン膜8)をスパッタリング法により形成して、マスクブランク9(ハーフトーン型位相シフトマスクブランク)を作製する(図1(d))。ハーフトーン膜8の成膜は、以下の構成を有するスパッタリング装置を使って行う。
次に、図1に示すように、上記マスクブランク9(ハーフトーン型位相シフトマスクブランク)のハーフトーン膜8の表面にレジストを塗布した後、加熱処理してレジスト膜10を形成する。(図1(e))。
得られた露光用マスク14を露光装置に装着し、この露光用マスク14を使用し、ArFエキシマレーザーを露光光として光リソグラフィー技術を用い、半導体基板に形成されているレジスト膜に露光用マスクのマスクパターンを転写して、この半導体基板上に所望の回路パターンを形成し、半導体デバイスを製造する。
図1(c)に示すマスクブランク用ガラス基板7を得る前に、光検出装置20(図2)を用いて、露光波長の光(例えばArFエキシマレーザー)の入射により合成石英ガラス基板4が発生する光を検出し、その光の分光特性の合否を判定することから、上記実施の形態によれば、次の効果(1)及び(2)を奏する。
2、3 端面(表面)
4 合成石英ガラス基板
5、6 主表面
7 マスクブランク用ガラス基板
8 ハーフトーン膜(薄膜)
9 マスクブランク
13 ハーフトーン膜パターン(マスクパターン)
14 露光用マスク
15 光
20 光検出装置
26 分光器
27 コンピュータ
Claims (7)
- 合成石英ガラス板の対向する表面を、露光波長の光が導入できるように鏡面研磨した合成石英ガラス基板を準備する準備工程と、
鏡面研磨した上記表面の一方から露光波長の光を入射して当該ガラス基板が発する露光波長よりも長い波長の光を受光し、この受光した光の波長と強度との関係を求め、最も強い強度に対応するピーク波長を検出する検出工程と、
上記ピーク波長が約520nm以上の範囲内であるか否かを判定する判定工程と、を有し、
上記合成石英ガラス基板に入射される光の露光波長は、200nm以下であり、
上記ピーク波長が約520nm以上の範囲は、当該合成石英ガラス基板からマスクブランク用ガラス基板及びマスクブランクを経て製造される露光用マスクと露光光とにより、レジスト膜が形成された被転写体に上記露光用マスクのマスクパターンを転写する際に、上記レジスト膜に感度を持たない光のピーク波長の範囲であり、
上記ピーク波長が約520nm以上であると判定された合成石英ガラス基板、又は上記ピーク波長をほとんど検出することができない程度の光しか発しない合成石英ガラス基板を良品とすることを特徴とするマスクブランク用ガラス基板の製造方法。 - 上記ピーク波長が、上記範囲を外れる約250nm〜500mnにあると判定された合成石英ガラス基板を不良品とすることを特徴とする請求項1に記載のマスクブランク用ガラス基板の製造方法。
- 上記露光光及び上記合成石英ガラス基板に入射される光は、ArFエキシマレーザーであることを特徴とする請求項1または2に記載のマスクブランク用ガラス基板の製造方法。
- 上記準備工程により鏡面研磨される合成石英ガラス基板の表面は、当該合成石英ガラス基板の対向する端面であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のマスクブランク用ガラス基板の製造方法。
- 上記判定工程の後、合成石英ガラス基板の主表面を精密研磨して、マスクブランク用ガラス基板を得ることを特徴とする請求項4に記載のマスクブランク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載のマスクブランク用ガラス基板の製造方法によって得られたマスクブランク用ガラス基板の主表面上に、マスクパターンとなる薄膜を形成してマスクブランクを製造することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
- 請求項6に記載のマスクブランクにおける薄膜をパターニングして、マスクブランク用ガラス基板の主表面上にマスクパターンを形成し、露光用マスクを製造することを特徴とする露光用マスクの製造方法。
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