JP4663485B2 - 薄膜トランジスタアレイ及びその製造方法、半透過型液晶表示装置 - Google Patents
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Description
本発明の実施の形態1にかかる薄膜トランジスタアレイ基板(以下、TFTアレイ基板とする)について、図1〜図3を参照して説明する。本発明にかかるTFTアレイ基板は、半透過型液晶表示装置に用いるものであり、透過画素電極及び反射画素電極を備える。図1は、本実施の形態にかかるTFTアレイ基板100の略1画素の構成を示す平面図である。また、図2は図1のA−A断面図であり、図3は図1のB−B断面図である。図1〜図3において、同一の構成要素には同一の符号を付している。
本発明の実施の形態2にかかるTFTアレイ基板について図7及び図8を参照して説明する。図7は、本発明の実施の形態2にかかるTFTアレイ基板の略1画素分の構成を示す平面図である。図8は、図7のB−B断面図である。図7及び図8において、図1及び図3と同じ構成要素には同一の符号を付し、説明を省略する。上記のように実施の形態1においては、2段階露光などを行う額域の下に補助容量電極23と同じ材料で、同じレイヤに厚さ補正パターン24を形成した。一方、本実施の形態においては、半導体パターンを形成する半導体能動膜40及びオーミックコンタクト膜50を厚さ補正パターン24として利用する。
21 ゲート電極
22 ゲート配線
23 補助容量電極
24 補正パターン
30 ゲート絶縁膜
40 半導体能動膜
50 オーミックコンタクト膜
60 第2の導電膜
60a 第1層
60b 第2層
61 ソース電極
61a ソース下層
61b ソース上層
62 ドレイン電極
62a ドレイン下層
62b ドレイン上層
63 ソース配線
65 反射画素電極
65a 画素電極下層
65b 画素電極上層
66 露出部
67 レジスト
67a 第1部分
67b 第2部分
67c 第3部分
68 ソース端子部
68a ソース端子下層
68b ソース端子上層
70 層間絶縁膜
80 コンタクトホール
90 透過画素電極
91 ソース端子パッド
100 薄膜トランジスタアレイ基板
Claims (14)
- 反射電極の下に第1の絶縁膜を介して設けられた補助容量電極と、
前記反射電極の上に設けられた第2の絶縁膜と、
前記補助容量電極が設けられていない領域において、前記第2の絶縁膜に設けられたコンタクトホールと、
前記コンタクトホールを介して前記反射電極と接続されている透過電極と、
前記コンタクトホールが設けられた領域において、前記反射電極の下に設けられた厚さ補正パターンとを備え、
前記厚さ補正パターンは、前記補助容量電極とは絶縁されている薄膜トランジスタアレイ基板。 - 前記厚さ補正パターンは、前記補助容量電極と略等しい厚さを有する請求項1に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記厚さ補正パターンは、前記補助容量電極と同一材料で、前記第1の絶縁膜の下に設けられている請求項1又は2に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- アレイ状に配置された薄膜トランジスタを備え、
前記厚さ補正パターンは、前記薄膜トランジスタに設けられた半導体能動膜又は半導体能動膜とオーミックコンタクト膜の積層膜と同一の材料で、前記第1の絶縁膜の上に設けられている請求項1又は2に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。 - 前記反射電極は、第1層と前記第1層の上に設けられた第2層との2層構造であり、
前記第2層は、前記コンタクトホールが設けられた領域において除去されている請求項1〜4のいずれか1項に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。 - 前記補助容量電極は、前記反射電極の下略全面に形成されている請求項1〜5のいずれか1項に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 基板上に薄膜トランジスタがアレイ状に設けられた薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法であって、
前記基板上に補助容量電極を形成し、
前記補助容量電極上に第1の絶縁膜を形成し、
前記補助容量電極が設けられていない領域において、前記第1の絶縁膜の上又は下に、前記補助容量電極とは絶縁されるよう厚さ補正パターンを形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記厚さ補正パターンの上に反射電極を形成し、
前記反射電極上に第2の絶縁膜を形成し、
前記厚さ補正パターンが形成された領域において、前記第2の絶縁膜にコンタクトホールを形成し、
前記コンタクトホールを介して前記反射電極と接続されるよう透過電極を形成する薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。 - 前記厚さ補正パターンを前記補助容量電極と略等しい厚さに形成する請求項7に記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記第1の絶縁膜の下に、前記補助容量電極と前記厚さ補正パターンとを同一材料で同時に形成する請求項7又は8に記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記第1の絶縁膜上に、前記薄膜トランジスタのアモルファスシリコン膜又はアモルファスシリコン膜及びオーミックコンタクト膜の積層膜と前記厚さ補正パターンとを同一材料で同時に形成する請求項7又は8に記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記反射電極を第1層と前記第1層の上に第2層との2層構造で形成し、
前記第2層を前記コンタクトホールが設けられた領域において除去する請求項7〜10のいずれか1項に記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。 - 前記第2層を2段階露光により除去する請求項11に記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記補助容量電極を前記反射電極の下略全面に形成する請求項7〜12のいずれか1項に記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の薄膜トランジスタアレイ基板を備える半透過型液晶表示装置。
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