JP4656269B2 - 液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンチップの素子表面、特に感光性ポリイミドや窒化膜との密着性が非常に良好であり、耐湿性が高く、かつ熱衝撃に対して優れた安定性、信頼性を有する硬化物を与える液状エポキシ樹脂組成物及びこの組成物の硬化物にて封止された半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
電気機器の小型、軽量化、高性能化に伴い、半導体の実装方法もピン挿入タイプから表面実装が主流になってきている。また、半導体素子の高集積化に伴い、ダイサイズの一辺が10mmを超えるものもあり、ダイサイズの大型化が進んできている。このような大型ダイを用いた半導体装置では、半田リフロー時にダイと封止材にかかる応力が増大し、封止材とダイ及び基板の界面で剥離が生じたり、基板実装時にパッケージにクラックが入るといった問題がクローズアップされてきている。
【0003】
また、従来の封止材である液状エポキシ樹脂組成物では、シリコンチップの表面、特に感光性ポリイミド樹脂や窒化膜との密着性も不十分で、これら材料との密着性の向上も強く半導体業界より要求されている。このような状況で、現在、液状エポキシ樹脂組成物の硬化剤として無水フタル酸系の酸無水物が広く用いられている。しかし、無水フタル酸系の酸無水物は吸湿しやすいため、硬化前では吸湿による粘度上昇により侵入性がばらついたり、途中で止まってしまう現象がみられ、また、従来の酸無水物の未硬化物は容易に水を取り込み、硬化後も加水分解が促進され、吸湿により体積膨潤が起こり、フリップチップ型半導体装置などではハンダバンプとリード界面の抵抗値を増大させてしまうというような信頼性の問題が生じている。
【0004】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、シリコンチップの表面、特に感光性ポリイミド樹脂や窒化膜との密着性に優れた硬化物を与え、PCT(120℃/2.1atm)などの高温多湿の条件下でも劣化せず、−65℃/150℃の温度サイクルにおいて数百サイクルを超えても剥離、クラックが起こることのない液状エポキシ樹脂組成物及びこの組成物の硬化物にて封止された半導体装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、(a)液状エポキシ樹脂、(b)硬化剤、(c)硬化促進剤、(d)無機質充填剤を必須成分とする液状エポキシ樹脂組成物において、上記硬化剤として、3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラハイドロフタル酸無水物と1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物との混合物を硬化剤全体100重量部に対して5〜75重量部になるように配合することにより、シリコンチップの表面、特に感光性ポリイミド樹脂や窒化膜との密着性に優れ、PCT(120℃/2.1atm)などの高温多湿の条件下でも劣化せず、熱衝撃に対して優れており、特に大型ダイサイズの半導体装置の封止材として有効な液状エポキシ樹脂組成物が得られることを知見した。
【0006】
即ち、3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラハイドロフタル酸無水物及び1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物は、液状エポキシ樹脂の硬化剤としては公知であるが、該硬化剤それぞれ単独では、その硬化物が脆く、粘度が高いため液状エポキシ樹脂組成物の硬化剤としては殆ど使用されていない。しかし、本発明者らは、液状エポキシ樹脂組成物の硬化剤として、3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラハイドロフタル酸無水物と1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物との混合物を他の硬化剤と特定割合で配合した硬化剤とすること、更に好ましくは、その他の硬化剤としてその硬化物が強靱になる酸無水物硬化剤と併用することにより、シリコンチップ表面との密着性が増大しかつ熱衝撃性が著しく向上し、高温多湿下でも優れた特性を得ることが可能となり、特に大型ダイサイズの半導体装置の封止材として有効な液状エポキシ樹脂組成物が得られることを見出し、本発明をなすに至ったものである。
【0007】
従って、本発明は、
(a)液状エポキシ樹脂、
(b)硬化剤:(a)成分を硬化させる有効量、
(c)硬化促進剤:(a)成分と(b)成分との合計量100重量部に対して0.1〜15重量部、
(d)フリップチップギャップ幅(基板と半導体チップとの間隙)に対して平均粒径が約1/10以下、最大粒径が1/2以下の無機質充填剤:(a)成分と(b)成分との合計量100重量部に対して50〜400重量部、及び
(e)アルケニル基含有エポキシ樹脂又はフェノール樹脂中のアルケニル基と、下記平均組成式(1)で示される一分子中の珪素原子の数が20〜400であり、SiH基(即ち、珪素原子に結合した水素原子)の数が1〜5個であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン中のSiH基との付加反応により得られるエポキシ樹脂又はフェノール樹脂とオルガノポリシロキサンとの共重合体:(a)成分と(b)成分との合計量100重量部に対して2〜15重量部
HaRbSiO(4-a-b)/2 (1)
(式中、Rは炭素数1〜10のハロゲン原子置換又は非置換の一価炭化水素基、aは0.002〜0.1、bは1.8〜2.2、1.81≦a+b≦2.3を満足する正数を示す。)
を必須成分とする液状エポキシ樹脂組成物において、
上記硬化剤が3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラハイドロフタル酸無水物と1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物との混合物に更にテトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸又はヘキサヒドロ無水フタル酸を併用したものであって、且つ上記混合物が硬化剤全体100重量部に対して25〜67重量部含有することを特徴とするフリップチップ型半導体装置用液状エポキシ樹脂組成物を提供する。
【0008】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に用いられる(a)成分の液状エポキシ樹脂は、一分子中に2個以上のエポキシ基を有するものであれば、分子構造、分子量等は特に限定されないが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリフェノールプロパン型エポキシ樹脂等のトリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、シクロペンタジエン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。
【0009】
これらの中でも一分子中に2個以上のエポキシ基を有し、室温(例えば25℃)で液状のエポキシ樹脂が望ましい。これらのエポキシ樹脂には、下記構造で示されるエポキシ樹脂を侵入性に影響を及ぼさない範囲で添加しても何ら問題はない。
【0010】
【化1】
【0011】
上記液状エポキシ樹脂中の全塩素含有量は、1,500ppm以下、望ましくは1,000ppm以下であることが好ましい。また、100℃で50%エポキシ樹脂濃度における20時間での抽出水塩素が10ppm以下であることが好ましい。全塩素含有量が1,500ppmを超え、抽出水塩素が10ppmを超えると、半導体素子の信頼性、特に耐湿性に悪影響を与えるおそれがある。
【0012】
本発明に使用する(b)成分の硬化剤は、3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラハイドロフタル酸と1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸との混合物を硬化剤全体100重量部に対して5〜75重量部、好ましくは10〜70重量部、より好ましくは20〜70重量部含有するものである。5重量部未満では密着性が低下し、PCTなどの高温多湿下において劣化する。また、75重量部を超えると密着性は向上するが、熱衝撃試験などの試験においてクラックが発生する。
【0013】
3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラハイドロフタル酸と1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸との混合割合(重量%)としては、一般的には前者が20〜60%、後者が80〜40%(合計で100重量%)であり、望ましくは前者が30〜50%、後者が70〜50%である。このような硬化剤としては、市販品を用いることができ、例えば、油化シェルエポキシ社製のYH306、YH307等が挙げられる。
【0014】
本発明の硬化剤として混合する上記以外の硬化剤としては、特に制限されず、硬化性エポキシ樹脂組成物に用いられる硬化剤全般を使用することができる。この硬化剤として具体的には、フェノール樹脂、酸無水物、アミン化合物、イミダゾール化合物など公知のものを使用することができるが、特には室温(25℃)で液状の酸無水物を使用することが好ましい。酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、ピロメリット酸二無水物、マレイン化アロオシメン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラ ビスベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物などの、好ましくは分子中に脂肪族環又は芳香族環を1個又は2個有すると共に、酸無水物基(即ち、−CO−O−CO−基)を1個又は2個有する、炭素原子数4〜25個、好ましくは8〜20個程度の酸無水物が好適である。これらの中でも、特にテトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。
【0015】
また、硬化剤としては、上記の他にジシアンジアミド、アジピン酸ヒドラジド、イソフタル酸ヒドラジド等のカルボン酸ヒドラジドも使用することができる。
【0016】
上記混合した硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂を硬化させる有効量であり、その種類によって相違し、適宜選定されるが、硬化剤としてこのような酸無水物を用いる場合は、エポキシ樹脂中のエポキシ基1モルに対し、硬化剤中の酸無水物基(−CO−O−CO−基)から誘導されるカルボン酸基のモル比を0.5〜1.5の範囲にすることが好適である。0.5未満では硬化性が不十分となるおそれがあり、1.5を超えると未反応の酸無水物が残存し、ガラス転移温度の低下となるおそれがある。より好ましくは0.8〜1.2の範囲にすることが好適である。或いは、上記と同様の理由により、エポキシ樹脂中のエポキシ基1モルに対して酸無水物中の酸無水物基のモル比が好ましくは0.3〜0.7、より好ましくは0.4〜0.6の範囲となるように配合してもよい。
【0017】
本発明の組成物は、(a)液状エポキシ樹脂と(b)硬化剤との硬化反応を促進するため、(c)硬化促進剤(反応促進剤)を配合するものである。この硬化促進剤は、硬化反応を促進させるものならば特に限定されず、公知のものを使用することができる。具体的には、イミダゾール化合物、3級アミン化合物、有機リン系化合物から選ばれる1種又は2種以上を配合することができる。これらの中でも、イミダゾール化合物、有機リン系化合物を使用することが好ましい。
【0018】
イミダゾール化合物としては、下記一般式(1)で示されるものを使用することができる。
【0019】
【化2】
(式中、R1及びR2は水素原子、又はメチル基、エチル基、ヒドロキシメチル基、フェニル基等のアルキル基、置換アルキル基、アリール基などの炭素数1〜12の置換もしくは非置換の一価炭化水素基、R3はメチル基、エチル基、フェニル基、アリル基等のアルキル基、アルケニル基、アリール基などの炭素数1〜12の置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示し、R4は水素原子、メチル基、エチル基、シアノエチル基、ベンジル基等のアルキル基、置換アルキル基、アラルキル基などの炭素数1〜12の置換もしくは非置換の一価炭化水素基、又は下記式(2)で示される基である。なお、置換一価炭化水素基としては、ヒドロキシ置換、シアノ置換などのものを挙げることができる。)
【0020】
【化3】
【0021】
具体的には、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1,2−ジエチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1)’]−エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1)’]−エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル]−エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1)’]−エチル−S−トリアジンイソシアヌール酸化付加物、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−アリール−4,5−ジフェニルイミダゾール等が挙げられる。上記イミダゾール化合物としては、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1,2−ジエチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾールが好ましい。
【0022】
また、3級アミン化合物としては、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルトリメチルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン等の窒素原子に結合する置換基としてアルキル基やアラルキル基を有するアミン化合物、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7及びそのフェノール塩、オクチル酸塩、オレイン酸塩などのシクロアミジン化合物やその有機酸との塩、或いは下記式の化合物などのシクロアミジン化合物と4級ホウ素化合物との塩又は錯塩などが挙げられる。
【0023】
【化4】
【0024】
また、有機リン系化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン、ジフェニルトリルホスフィン等のトリオルガノホスフィン、トリフェニルホスフィン・トリフェニルボラン等のトリオルガノホスフィンとトリオルガノボランとの塩、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート等のテトラオルガノホスホニウムとテトラオルガノボレートとの塩などのオルガノホスフィン類及びその誘導体などが挙げられる。これらの中で特に下記一般式(3)で示されるものが好ましい。
【0025】
【化5】
(式中、R5は水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基である。)
このアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。R5としては好ましくは水素原子又はメチル基である。
【0026】
式(3)の化合物としては、下記のものが挙げられる。
【化6】
【0027】
上記硬化促進剤は、そのまま配合してもよいが、これをマイクロカプセル化したものを配合することが好ましい。硬化促進剤、特にイミダゾール化合物や有機リン化合物をマイクロカプセル化して配合することにより、高温時の安定性に優れ、多量の無機質充填剤を配合しても、半導体装置を高温にすることによって低粘度で隙間侵入させることが可能であり、特に大型ダイサイズのフリップチップ型半導体装置のアンダーフィル材として有効な封止材を得ることができる。
【0028】
この場合、マイクロカプセル化に際して、本発明で使用するマイクロカプセルは(メタ)アクリル系単量体、例えばアクリル酸エステル、イタコン酸エステル、メタクリル酸エステル、クロトン酸エステル等の炭素数1〜8のアルキルエステルやこのアルキルエステルのアルキル基がアリル基等の置換基を有するもの、また、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル等の単官能性単量体及びエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、メチレンビス(メタ)アクリルアミド等の多官能性単量体のポリマーを殻材として、該ポリマー中に触媒としてのイミダゾール化合物及び/又は有機リン化合物が閉じこめられたものである。なお、上記ポリマーの中では、(メタ)アクリレート系単量体の重合物が好ましい。
【0029】
本発明の上記イミダゾール化合物や有機リン化合物等の硬化触媒(硬化促進剤)を含有するマイクロカプセルの製造方法としては様々な方法が挙げられるが、生産性及び球状度が高いマイクロカプセルを製造するためには通常懸濁重合法及び乳化重合法などの従来から公知の方法で製造することができる。
【0030】
この場合、一般的に使用されている触媒の分子構造から高濃度マイクロカプセル触媒を得るためには、硬化触媒10重量部に対して使用する上記単量体の総量は10〜200重量部程度でよく、望ましくは10〜100重量部、更に望ましくは20〜50重量部である。10重量部未満では潜在性を十分に付与することが困難となることがあり、200重量部を超えると、触媒の比率が低くなり、十分な硬化性を得るためには多量に使用しなければならなくなり、経済的に不利となる場合がある。
【0031】
このような方法で得られるマイクロカプセルの平均粒径としては、0.5〜10μm、望ましくは2〜5μmであることが好ましい。また、最大粒径は50μm以下、特に20μm以下のものであることが好ましい。平均粒径が0.5μm未満では粒径が小さすぎて(又は、比表面積が大きくなりすぎて)多量にマイクロカプセルを配合すると粘度が高くなる上、場合によっては潜在性が不十分になる可能性がある。また、10μmを超えると、樹脂成分への分散が不均一になり信頼性の低下を招く場合がある。
【0032】
また、上記マイクロカプセルとしては、下記性能を有するものを使用する。即ち、硬化触媒を含有するマイクロカプセルを1g秤取り、これをo−クレゾール30gに混合した後、30℃で放置し、溶出する触媒をガスクロマトグラフで定量した場合、マイクロカプセルから溶出する触媒が30℃,15分でマイクロカプセル中に含まれる全触媒量の70重量%以上であるものを用いる。70重量%未満では、硬化時間が長くかかるおそれがあり、生産性が低下する場合がある。望ましくは、溶出量が75重量%以上である。
【0033】
本発明の硬化促進剤(特にマイクロカプセル化していない上記の各硬化促進剤)の配合量は、上記(a)成分の液状エポキシ樹脂と(b)成分の硬化剤との合計100重量部に対して0.1〜15重量部、望ましくは0.5〜7重量部であることが好ましい。配合量が0.1重量部未満では硬化性が低下するおそれがあり、15重量部より多いと硬化性に優れるが、保存安定性が低下するおそれがある。なお、上記マイクロカプセル触媒として配合する場合の配合量は、(a)液状エポキシ樹脂と(b)硬化剤との合計100重量部に対して1〜15重量部、望ましくは2〜10重量部であることが好ましい。1重量部未満では硬化性が低下する場合があり、15重量部より多いと硬化性に優れるが、保存安定性が低下するおそれがある。
【0034】
また、上記のマイクロカプセル化していない硬化促進剤とマイクロカプセル触媒とを併用添加することもできる。その場合の配合量としては、合計で1〜15重量部、望ましくは2〜10重量部であることが好ましい。
【0035】
(d)成分の無機質充填剤としては、膨張係数を小さくする目的から従来より知られている各種の無機質充填剤を使用することができる。具体的には、無機質充填剤としては、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ボロンナイトライド、チッカアルミ、チッカ珪素、マグネシア、マグネシウムシリケート、アルミニウムなどが使用される。中でも、真球状の溶融シリカが低粘度化のために望ましい。
【0036】
ここで、本発明の液状エポキシ樹脂組成物をポッティング材として使用する場合、平均粒径が2〜25μm、好ましくは3〜20μmで、最大粒径が75μm以下、特に50μm以下のものが望ましい。平均粒径が2μm未満では粘度が高くなり多量に充填できず、一方25μmを超えると粗い粒子が多くなり、リード線につまりボイドになるおそれがある。充填量は、(a)液状エポキシ樹脂と(b)硬化剤との合計量100重量部に対して、或いは、後述する可撓性付与剤を配合する場合には、(a)成分、(b)成分と可撓性付与剤との合計量100重量部に対して100〜600重量部の範囲が好ましい。100重量部未満では、膨張係数が大きく冷熱試験においてクラックの発生を誘発させるおそれがある。600重量部を超えると、粘度が高くなり流動性の低下をもたらすおそれがある。
【0037】
また、アンダーフィル材として使用する場合は、侵入性の向上と低線膨張化の両立を図るためフリップチップギャップ幅(基板と半導体チップとの間隙)に対して平均粒径が約1/10以下、最大粒径が1/2以下の充填剤を(a)液状エポキシ樹脂と(b)硬化剤との合計量100重量部に対して50〜400重量部、望ましくは100〜250重量部の範囲で配合することが好ましい。50重量部未満では、膨張係数が大きく冷熱試験においてクラックの発生を誘発させるおそれがある。400重量部を超えると、粘度が高くなり、薄膜侵入性の低下をもたらすおそれがある。この無機質充填剤としては、通常は最大粒径が50μm以下、好ましくは45μm以下、より好ましくは30μm以下であり、平均粒径が10μm以下、通常0.5〜10μm、好ましくは1〜5μm、より好ましくは1〜3μm程度のものが使用される。なお、この最大粒径、平均粒径は、例えばレーザー光回折法による粒度分布測定により得ることができ、平均粒径は例えば重量平均値(又はメジアン径)等として求めることができる。
【0038】
なお、本発明において、無機質充填剤はシランカップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップリング剤で予め表面処理することが低吸水性、耐衝撃性及び耐クラック性を更に向上させる点で好ましい。
【0039】
カップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランのようなエポキシ官能性基含有アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシランのようなアミノ官能性基含有アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランのようなメルカプト官能性基含有アルコキシシランなどのシランカップリング剤を用いることが好ましい。ここで、表面処理に用いるカップリング剤量及び表面処理方法については特に制限されない。
【0040】
本発明の組成物には、応力を低下させる目的でシリコーンゴム、シリコーンオイルや液状のポリブタジエンゴム、メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体といった熱可塑性樹脂などの可撓性付与剤を配合してもよい。好ましくは、アルケニル基含有エポキシ樹脂又はフェノール樹脂中のアルケニル基と、下記平均組成式(1)で示される一分子中の珪素原子の数が20〜400、好ましくは40〜200であり、SiH基(即ち、珪素原子に結合した水素原子)の数が1〜5個、好ましくは2〜4個、特には2個であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン中のSiH基との付加反応により得られるエポキシ樹脂又はフェノール樹脂とオルガノポリシロキサンとの共重合体を配合することがよい。
HaRbSiO(4−a−b)/2 (1)
(式中、Rは置換又は非置換の一価炭化水素基、aは0.002〜0.1、bは1.8〜2.2、1.81≦a+b≦2.3を満足する正数を示す。)
【0041】
なお、Rの一価炭化水素基としては、炭素数1〜10、特に1〜8のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、キシリル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などや、これらの炭化水素基の水素原子の一部又は全部を塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子で置換したクロロメチル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基等のハロゲン置換一価炭化水素基を挙げることができる。
【0042】
上記共重合体としては、中でも下記構造のものが望ましい。
【化7】
【0043】
【化8】
(上記式中、Rは上記と同じ、R11は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、R12は−CH2CH2CH2−、−OCH2−CH(OH)−CH2−O−CH2CH2CH2−又は−O−CH2CH2CH2−である。nは8〜398、好ましくは38〜198の整数、pは1〜10の整数、qは1〜10の整数である。)
【0044】
上記共重合体は、ジオルガノポリシロキサン単位が液状エポキシ樹脂と硬化剤の合計量100重量部に対し0〜20重量部、特には2〜15重量部含まれるように配合することで、応力をより一層低下させることができる。
【0045】
本発明の液状エポキシ樹脂組成物には、更に必要に応じ、接着向上用炭素官能性シラン、酸化防止剤、表面処理剤(γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤など)、その他の添加剤を配合することができる。
【0046】
本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、例えば、液状エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機質充填剤及び必要に応じて可撓性付与剤などを同時に又は別々に必要により加熱処理を加えながら撹拌、溶解、混合、分散させることにより製造することができる。これらの混合物の混合、撹拌、分散等の装置は特に限定されないが、撹拌、加熱装置を備えたライカイ機、3本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー等を用いることができる。これら装置を適宜組み合わせて使用してもよい。
【0047】
本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、ポッティング材、コーティング材等として半導体装置の封止に使用されるが、特にフリップチップ型半導体装置のアンダーフィル材として好適に用いられる。
【0048】
なお、本発明において、封止材として用いる液状エポキシ樹脂組成物の粘度は、25℃において10,000ポイズ以下であることが好ましい。また、この封止材の成形方法、成形条件は、常法とすることができるが、好ましくは、先に100〜120℃,0.5時間以上、後硬化として150℃,0.5時間以上で熱オーブンキュアを行う。後硬化が150℃,0.5時間未満では、十分な硬化物特性が得られないおそれがあり、初期の成形条件が100〜120℃,0.5時間未満では、硬化後にボイドが発生するおそれがある。
【0049】
ここで、本発明に用いるフリップチップ型半導体装置は、図1に示したように、通常、有機基板2の配線パターン面に複数個のバンプ3を介して半導体チップ1が搭載されているものであり、上記有機基板2と半導体チップ1との隙間(バンプ3間の隙間)をアンダーフィル材4が充填され、その側部がフィレット材5で封止されたものとすることができるが、本発明の封止材は、特にフラックスを洗浄していない上述したフリップチップ型半導体装置用のアンダーフィル材を形成する場合に有効である。
【0050】
本発明の封止材をアンダーフィル材の形成に用いる場合、その硬化物のガラス転移温度以下の膨張係数が20〜40ppm/℃であることが好ましい。なお、フィレット材用の封止材は、公知のものでよく、特には、上述したと同様の液状エポキシ樹脂組成物を用いることができるが、この場合は、その硬化物のガラス転移温度以下のときの膨張係数が10〜20ppm/℃であるものが好ましい。
【0051】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【0052】
[実施例1〜5、比較例1〜3]
表1で示す成分を3本ロールで均一に混練することにより8種のエポキシ樹脂組成物を得た。これらのエポキシ樹脂組成物を用いて、以下に示す試験を行った。その結果を表1に示す。
【0053】
[粘度]
BH型回転粘度計を用いて4rpmの回転数で25℃における粘度を測定した。
【0054】
[ゲル化時間]
組成物のゲル化時間を150℃の熱板上で測定した。
[Tg]:ガラス転移温度
5mm×5mm×15mmの硬化物サンプルを用いてTMA(熱機械分析装置)により5℃/分の速度で昇温した際の値を測定した。
[CTE−1]:Tg以下の膨張係数
[CTE−2]:Tg以上の膨張係数
上記ガラス転移温度の測定において、CTE−1は50〜80℃の温度範囲、CTE−2は200〜230℃の温度範囲における値を求めた。
【0055】
[接着力テスト]
感光性ポリイミドをコートしたシリコンチップ上に、エポキシ樹脂組成物を上面の直径2mm、下面の直径5mm、高さ3mmの円錐台形状として150℃で3時間硬化させ、試験片を作成した。得られた試験片のせん断接着力を測定し、初期値とした。更に、得られた試験片をPCT(121℃/2.1atm)で168時間吸湿させた後、接着力を測定した。いずれの場合も試験片の個数は5個で行い、その平均値を接着力とした。
【0056】
[PCT剥離テスト]
ポリイミドコートした10mm×10mmのシリコンチップを30mm×30mmのFR−4基板に約100μmのスペーサを用いて積層し、生じた隙間にエポキシ樹脂組成物を侵入、150℃で4時間硬化させ、得られた試験片をPCT(121℃/2.1atm)の環境下に置き、168時間後の剥離をC−SAMで確認した。
【0057】
[熱衝撃テスト]
ポリイミドコートした10mm×10mmのシリコンチップを30mm×30mmのFR−4基板に約100μmのスペーサを用いて積層し、生じた隙間にエポキシ樹脂組成物を侵入、150℃で4時間硬化させ、得られた試験片を−65℃/30分、150℃/30分を1サイクルとし、250,500,750サイクル後のエポキシ樹脂組成物の剥離、クラックを確認した。
【0058】
【表1】
【0059】
成分:
RE410:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(日本化薬製)
MH700:メチルテトラヒドロ無水フタル酸(新日本理化製)
YH307:3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラハイドロフタル酸無水物、1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物の混合物(油化シェルエポキシ製)
KBM403:シランカップリング剤 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製)
2E4MZ:2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成製)
SE8FC:最大粒径24ミクロン以下で平均粒径8μmの球状シリカ(徳山ソーダ製)
2E4MZのマイクロカプセル:2E4MZを20重量%含有したメタクリル酸メチルの重合体 平均粒径が7μm、o−クレゾール中で30℃、15分間の処理でマイクロカプセルから溶出する触媒の量は87重量%
【0060】
【化9】
【0061】
【発明の効果】
本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、シリコンチップの表面、特に感光性ポリイミド樹脂や窒化膜との密着性に優れ、かつ熱衝撃試験に優れ、特に大型ダイサイズの半導体装置の封止材として有効であり、このエポキシ樹脂組成物を用いた半導体装置は非常に信頼性の高いものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のフリップチップ型半導体装置を示す概略図である。
【符号の説明】
1 半導体チップ
2 有機基板
3 バンプ
4 アンダーフィル材
5 フィレット材
Claims (6)
- (a)液状エポキシ樹脂、
(b)硬化剤:(a)成分を硬化させる有効量、
(c)硬化促進剤:(a)成分と(b)成分との合計量100重量部に対して0.1〜15重量部、
(d)フリップチップギャップ幅に対して平均粒径が1/10以下、最大粒径が1/2以下の無機質充填剤:(a)成分と(b)成分との合計量100重量部に対して50〜400重量部、及び
(e)アルケニル基含有エポキシ樹脂又はフェノール樹脂中のアルケニル基と、下記平均組成式(1)で示される一分子中の珪素原子の数が20〜400であり、SiH基の数が1〜5個であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン中のSiH基との付加反応により得られるエポキシ樹脂又はフェノール樹脂とオルガノポリシロキサンとの共重合体:(a)成分と(b)成分との合計量100重量部に対して2〜15重量部
HaRbSiO(4-a-b)/2 (1)
(式中、Rは炭素数1〜10のハロゲン原子置換又は非置換の一価炭化水素基、aは0.002〜0.1、bは1.8〜2.2、1.81≦a+b≦2.3を満足する正数を示す。)
を必須成分とする液状エポキシ樹脂組成物において、
上記硬化剤が3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラハイドロフタル酸無水物と1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物との混合物に更にテトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸又はヘキサヒドロ無水フタル酸を併用したものであって、且つ上記混合物が硬化剤全体100重量部に対して25〜67重量部含有することを特徴とするフリップチップ型半導体装置用液状エポキシ樹脂組成物。 - (c)成分の硬化促進剤が、イミダゾール化合物及び/又は有機リン化合物である請求項1記載の組成物。
- (c)成分の硬化促進剤が、イミダゾール化合物及び/又は有機リン化合物を含有したマイクロカプセル触媒であって、レーザー光回折法を用いた粒度分布測定から求められる平均粒径が0.5〜10μmであり、かつ該マイクロカプセル触媒を1g秤取り、これをo−クレゾール30gに混合した後、30℃で放置し、溶出する触媒をガスクロマトグラフで定量した場合、マイクロカプセルから溶出する触媒が30℃、15分でマイクロカプセル中に含まれる全触媒量の70重量%以上である請求項2記載の組成物。
- 上記イミダゾール化合物が、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1,2−ジエチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1)’]−エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1)’]−エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル]−エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1)’]−エチル−S−トリアジンイソシアヌール酸化付加物、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−アリール−4,5−ジフェニルイミダゾールから選ばれるものである請求項2又は3記載の組成物。
- ポリイミドコートしたシリコンチップを用いたフリップチップ型半導体装置のアンダーフィル材用である請求項1乃至4のいずれか1項記載の組成物。
- 請求項1乃至5のいずれか1項記載の液状エポキシ樹脂組成物の硬化物で封止されたフリップチップ型半導体装置。
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