JP4651111B2

JP4651111B2 - Single molecule magnet

Info

Publication number: JP4651111B2
Application number: JP2006064098A
Authority: JP
Inventors: 登古賀; 悟唐澤
Original assignee: Kyushu University NUC; Nissan Chemical Corp
Current assignee: Kyushu University NUC; Nissan Chemical Corp
Priority date: 2006-03-09
Filing date: 2006-03-09
Publication date: 2011-03-16
Anticipated expiration: 2026-03-09
Also published as: JP2007242934A

Description

本発明は、単分子磁石に関し、更に詳しくは、光照射によって生成する有機ラジカル（カルベン）に由来する不対電子を強磁性相互作用によって配列させて得られる光応答型単分子磁石に関する。 The present invention relates to a single molecule magnet, and more particularly to a photoresponsive single molecule magnet obtained by arranging unpaired electrons derived from an organic radical (carbene) generated by light irradiation by ferromagnetic interaction.

有機ラジカルに強磁性的相互作用を持たせることによって、電子スピンを平行にそろえ、分子強磁性体を構築する試みが活発に行われている。分子磁性体は、無機磁性体に比較して成形が極めて容易であること、目的によって容易に物性の修飾ができることなどから、様々な分野で新しい材料としての期待が集まっている。これまでの研究から、有機物で磁石を創るためには、（１）出来る限り多くのスピンを、（２）強い相互作用で平行に揃えて、（３）多次元的にメソスコピックな広がりを持って集積化する、ことが必要であると考えられてきた。 Attempts have been actively made to construct molecular ferromagnets by aligning electron spins in parallel by imparting ferromagnetic interactions to organic radicals. Molecular magnetic materials are much easier to mold than inorganic magnetic materials, and can be easily modified in physical properties depending on the purpose. Therefore, expectations for new materials in various fields are increasing. From the research so far, in order to create magnets with organic matter, (1) as many spins as possible, (2) align in parallel with strong interactions, and (3) have a multidimensional mesoscopic spread. It has been considered necessary to integrate.

本発明者らは、有機スピン源として、磁気的相互作用が強い三重項カルベンを用い、金属との配位結合を介して一次元にスピンを集積することに既に成功している（非特許文献１参照。）。
これらのカルベンは、２３０Ｋまで安定であり（通常のカルベンは１００Ｋ程度で化学反応し消滅する。）、室温においても安定な分子強磁性体の可能性を示唆するものである。
しかしながら、得られたカルベンを含む金属錯体は、超高スピン常磁性体であり、残留磁化を有していない。
また、本発明者らは、金属イオンの３ｄスピンと配位子カルベンの２ｐスピンとを三次元に高度集積し、残留磁化を有する分子磁性体の合成にも成功している（非特許文献２、非特許文献３、非特許文献４、特許文献１及び特許文献２参照。）。
しかし、これらはスピングラス様磁性材料であり、ナノマテリアルとしての応用が難しいという課題がある。 The present inventors have already succeeded in integrating spins in one dimension through a coordinate bond with a metal using a triplet carbene having a strong magnetic interaction as an organic spin source (Non-Patent Document). 1).
These carbenes are stable up to 230K (ordinary carbenes chemically react and disappear at about 100K), suggesting the possibility of stable molecular ferromagnets even at room temperature.
However, the obtained metal complex containing carbene is an ultra-high spin paramagnetic substance and has no remanent magnetization.
In addition, the present inventors have succeeded in synthesizing a molecular magnetic material having remanent magnetization by highly accumulating 3d spin of a metal ion and 2p spin of a ligand carbene in three dimensions (Non-patent Document 2). Non-patent document 3, Non-patent document 4, Patent document 1 and Patent document 2).
However, these are spin glass-like magnetic materials, and there is a problem that application as a nanomaterial is difficult.

単分子磁性体構築のためには、ある程度大きなスピン量子数と負のゼロ磁場***パラメータ（Ｄ）が必要である。従来の単分子磁性体は、マンガン原子を代表とする金属原子同士をオキソ架橋でつないだオリゴ及びポリ閉環金属錯体であり、スピン源は全て金属原子から供給されている（非特許文献５参照。）。
本発明者らは、金属とジアゾ−ピリジン化合物とに光照射して発生させるカルベンをスピン源として用いたヘテロスピン系で構築した、金属原子を一つしか用いない残留磁化を有する単分子磁石の合成に成功している（特許文献３参照。）。
しかし、これらは用いるジアゾ−ピリジン化合物の金属錯体又は金属塩に対するモル比が多く、得られる金属錯体のコンフォーメーションが安定ではないといった課題がある。 In order to construct a unimolecular magnet, a somewhat large spin quantum number and a negative zero-field splitting parameter (D) are required. A conventional monomolecular magnetic material is an oligo- and poly-ring-closing metal complex in which metal atoms typified by manganese atoms are connected by an oxo bridge, and all spin sources are supplied from metal atoms (see Non-Patent Document 5). ).
The inventors of the present invention have developed a single-molecule magnet having a remanent magnetization using only one metal atom, which is constructed in a heterospin system using a carbene generated by light irradiation of a metal and a diazo-pyridine compound as a spin source. It has been successfully synthesized (see Patent Document 3).
However, these have a problem that the molar ratio of the diazo-pyridine compound to be used to the metal complex or metal salt is large, and the resulting metal complex does not have a stable conformation.

「ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエテイ(J. Am. Chem. Soc.)」、（米国）、１９９７年、第１１９巻、ｐ．８２４６−８２５２"Journal of the American Chemical Society (J. Am. Chem. Soc.)" (USA), 1997, Vol. 119, p. 8246-8252 「アプライド・マグネテイク・レゾナンス(Appl. Magn. Reson.)」、（オーストリア）、２００３年、第２３巻、ｐ．５０７“Appl. Magn. Reson.” (Austria), 2003, Vol. 23, p. 507 「ポリヘドロン(Polyhedron)」、（オランダ）、２００１年、第２０巻、ｐ．１３８７−１３８９“Polyhedron” (Netherlands), 2001, Vol. 20, p. 1387-1389 「ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエテイ(J. Am. Chem. Soc.)」、（米国）、２００１年、第１２３巻、ｐ．９６８５−９６８６"Journal of the American Chemical Society (J. Am. Chem. Soc.)" (USA), 2001, Vol. 123, p. 9685-9686 「ネイチャー(Nature)」、（英国）、１９９３年、第３６５巻、ｐ．１４１−１４３“Nature” (UK), 1993, 365, p. 141-143 特開２００２−０９３６０６号公報（特許請求の範囲）JP 2002-093606 A (Claims) 特開２００２−２６０９０７号公報（特許請求の範囲）JP 2002-260907 A (Claims) 特開２００５−０１２１４７号公報（特許請求の範囲）JP 2005-012147 A (Claims)

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、金属錯体のコンフォーメーションが安定であり、ナノマテリアルとして応用可能な、残留磁化を有する単分子磁石を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a single-molecule magnet having residual magnetization that is stable in the conformation of a metal complex and can be applied as a nanomaterial.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ジアゾ−ピリジン化合物と安定な三座配位子を有する有機金属錯体を含む溶液に光照射することにより、金属錯体のコンフォーメーションが安定であり、残留磁化を有する単分子磁石が得られることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention irradiated light to a solution containing a diazo-pyridine compound and an organometallic complex having a stable tridentate ligand, thereby The inventors have found that a single molecule magnet having stable conformation and having remanent magnetization can be obtained, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、
１．式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ基又はターシャーリーブトキシ基を示す。）
で表される化合物と、式（６）

（式中、Ｒ¹⁰は、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、又はセカンダリーブチル基を示し、Ｒ¹¹及びＲ¹²は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ基又はターシャーリーブトキシ基を示し、Ｍは、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ又はＨｇを示し、Ｘは、ハロゲン原子、イソシアネート基、チオシアネート基、パークロレート基、シアネート基又はナイトレート基を示し、ｎは１〜３を示す。）
で表される有機金属錯体と、溶媒とを混合してなる溶液に、光照射することで得られることを特徴とする単分子磁石、
２．前記式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）において、前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷が、全て水素原子であり、Ｒ⁴及びＲ⁸が、それぞれ独立に水素原子、塩素原子、又は臭素原子である１の単分子磁石、
３．前記式（６）において、前記Ｒ¹⁰がメチル基、前記Ｒ¹¹及びＲ¹²が全て水素原子、前記ＭがＮｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ又はＺｎであり、前記Ｘが塩素原子、イソシアネート基、チオシアネート基、又はパークロレート基である１又は２の単分子磁石、
４．前記式（６）において、前記ＭがＣｏであり、前記Ｘがイソシアネート基であり、前記ｎが２である１、２又は３の単分子磁石、
５．前記式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物と、前記式（６）で表される有機金属錯体とのモル比が、２：１〜１：２の範囲である１の単分子磁石、
６．前記溶媒が、塩化メチレンと２−メチルテトラヒドロフランとの混合溶媒である１又は５の単分子磁石、
７．光照射するときの温度が、２０Ｋ以下である１、５又は６の単分子磁石、
８．式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）

（式中、Ｒ¹⁰は、それぞれ独立にメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、又はセカンダリーブチル基を示し、Ｒ¹¹及びＲ¹²は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ基又はターシャーリーブトキシ基を示し、Ｍは、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ又はＨｇを示し、Ｘは、ハロゲン原子、イソシアネート基、チオシアネート基、パークロレート基、シアネート基又はナイトレート基を示し、ｎは１〜３を示す。）
で表される有機金属錯体と、溶媒とを混合して溶液を調製し、この溶液に光照射する工程を含むことを特徴とする単分子磁石の製造方法、
９．前記式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）において、前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷が全て水素原子であり、前記Ｒ⁴及びＲ⁸がそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、又は臭素原子である８の単分子磁石の製造方法、
１０．前記式（６）において、前記Ｒ¹⁰がメチル基、前記Ｒ¹¹及びＲ¹²が全て水素原子、前記ＭがＮｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ又はＺｎであり、前記Ｘが塩素原子、イソシアネート基、チオシアネート基、又はパークロレート基である８又は９の単分子磁石の製造方法、
１１．前記式（６）において、前記ＭがＣｏであり、前記Ｘがイソシアネート基であり、前記ｎが２である８、９又は１０の単分子磁石の製造方法、
１２．前記式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物と、前記式（６）で表される有機金属錯体とのモル比が、２：１〜１：２の範囲である８の単分子磁石の製造方法、
１３．前記溶媒が、塩化メチレンと２−メチルテトラヒドロフランとの混合溶媒である８又は１２の単分子磁石の製造方法、
１４．前記光照射するときの温度が２０Ｋ以下である８、１２又は１３の単分子磁石の製造方法
を提供する。 That is, the present invention
1. Formula (1), (2), (3), (4) or (5)

(In the formula, R ¹ , R ² , R ³ , R ⁴ , R ⁵ , R ⁶ , R ⁷ and R ⁸ are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a methyl group, or an ethyl group. , Normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, methoxy group, ethoxy group, normal propoxy group, isopropoxy group, normal butoxy group, isobutoxy group, secondary butoxy group or ter (Shows Shirley butoxy group.)
A compound represented by formula (6):

(Wherein R ¹⁰ independently represents a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, an isobutyl group, or a secondary butyl group, and R ¹¹ and R ¹² are each independently Hydrogen atom, halogen atom, nitro group, cyano group, methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, methoxy group, ethoxy group, normal propoxy group , Isopropoxy group, normal butoxy group, isobutoxy group, secondary butoxy group or tertiary butoxy group, M is Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir Pt, shows the Au or Hg, X is a halogen atom, an isocyanate group, a thiocyanate group, a perchlorate group, cyanate group or nitrate radical, n represents 1-3.)
A monomolecular magnet obtained by irradiating a solution obtained by mixing an organometallic complex represented by a solvent with a solvent,
2. In the formula (1), (2), (3), (4) or (5), R ¹ , R ² , R ³ , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ are all hydrogen atoms; 1 single-molecule magnet in which ⁴ and R ⁸ are each independently a hydrogen atom, a chlorine atom, or a bromine atom,
3. In the formula (6), R ¹⁰ is a methyl group, R ¹¹ and R ¹² are all hydrogen atoms, M is Ni, Co, Cu, Mn, Fe, Cr, or Zn, and X is a chlorine atom, 1 or 2 monomolecular magnets which are isocyanate groups, thiocyanate groups or perchlorate groups,
4). In the formula (6), the M is Co, the X is an isocyanate group, the n is 2, 1, 2 or 3 monomolecular magnets,
5. The molar ratio of the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) to the organometallic complex represented by the formula (6) is 2: 1 to 1 single molecule magnet in the range of 1: 2,
6). 1 or 5 monomolecular magnet, wherein the solvent is a mixed solvent of methylene chloride and 2-methyltetrahydrofuran,
7). 1, 5 or 6 monomolecular magnet having a temperature of 20K or less when irradiated with light,
8). Formula (1), (2), (3), (4) or (5)

(Wherein, R ¹⁰ each independently represent a methyl group, an ethyl group, normal propyl group, an isopropyl group, normal butyl group, an isobutyl group, or a sec-butyl group, R ¹¹ and R ¹² each independently represent a hydrogen atom , Halogen atom, nitro group, cyano group, methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, methoxy group, ethoxy group, normal propoxy group, iso A propoxy group, a normal butoxy group, an isobutoxy group, a secondary butoxy group or a tertiary butoxy group, wherein M is Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, P It represents Au or Hg, X is a halogen atom, an isocyanate group, a thiocyanate group, a perchlorate group, cyanate group or nitrate radical, n represents 1-3.)
A method for producing a single-molecule magnet comprising a step of preparing a solution by mixing an organometallic complex represented by formula (1) and a solvent, and irradiating the solution with light.
9. In the formula (1), (2), (3), (4) or (5), the R ¹ , R ² , R ³ , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ are all hydrogen atoms, and the R ^A method for producing a single molecular magnet of 8 wherein ⁴ and R ⁸ are each independently a hydrogen atom, a chlorine atom, or a bromine atom;
10. In the formula (6), R ¹⁰ is a methyl group, R ¹¹ and R ¹² are all hydrogen atoms, M is Ni, Co, Cu, Mn, Fe, Cr, or Zn, and X is a chlorine atom, A method for producing an 8 or 9 monomolecular magnet which is an isocyanate group, a thiocyanate group or a perchlorate group,
11. In the formula (6), the M is Co, the X is an isocyanate group, and the n is 2, the method for producing a single molecular magnet of 8, 9 or 10;
12 The molar ratio of the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) and the organometallic complex represented by the formula (6) is 2: 1 to 1. A method for producing 8 single-molecule magnets in a range of 1: 2;
13. The method for producing a monomolecular magnet according to 8 or 12, wherein the solvent is a mixed solvent of methylene chloride and 2-methyltetrahydrofuran,
14 The manufacturing method of the 8, 12 or 13 single-molecule magnet whose temperature at the time of the said light irradiation is 20K or less is provided.

本発明によれば、安定な三座配位子を有するためコンフォーメーションが安定しており、磁化率の再現性が高い、光応答型単分子磁石を得ることができる。
この単分子磁石の製造時に、金属錯体とジアゾ−ピリジン化合物の比率を１：１に調整することも可能であり、これにより、これまでで最も小さい磁気量子数（３／２）を有する単分子磁石を作製することができる。この分子磁石は量子効果が現れやすく、磁性保持時間が短いという特徴を有している。
さらに、三座配位子に置換基を導入することで、膜やナノ粒子中に単分子磁石を埋め込むことが可能となる。熱的安定性を克服できれば、単分子磁石は透明な磁性体であるため、広範囲な応用が可能となる。例えば、磁性インクとして利用すると、情報の記録が可能な印刷物を容易に製造でき、磁性トナーとして利用すると、定着性の向上、解像度の向上、色彩の向上、印刷スピードの向上等が期待される。また、有機溶媒に溶かして、薄膜を形成できるため、リソグラフィーにより、光照射した部分に磁気回路を書き込むことができる。 According to the present invention, since it has a stable tridentate ligand, a conformation is stable, and a photoresponsive monomolecular magnet with high reproducibility of magnetic susceptibility can be obtained.
It is also possible to adjust the ratio of the metal complex to the diazo-pyridine compound to 1: 1 at the time of manufacturing this single molecule magnet, and thereby the single molecule having the smallest magnetic quantum number (3/2) so far. A magnet can be made. This molecular magnet is characterized in that quantum effects are likely to appear and the magnetic retention time is short.
Furthermore, by introducing a substituent into the tridentate ligand, it becomes possible to embed a monomolecular magnet in the film or nanoparticle. If the thermal stability can be overcome, the single-molecule magnet is a transparent magnetic material, and thus can be used in a wide range of applications. For example, when it is used as a magnetic ink, a printed matter on which information can be recorded can be easily manufactured, and when it is used as a magnetic toner, improvement in fixing property, improvement in resolution, improvement in color, improvement in printing speed, and the like are expected. In addition, since a thin film can be formed by dissolving in an organic solvent, a magnetic circuit can be written in a portion irradiated with light by lithography.

以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
まず、式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）の各置換基を具体的に説明する。
式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物の置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸としては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ基又はターシャーリーブトキシ基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
好ましいＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷としては、水素原子が挙げられ、好ましいＲ⁴及びＲ⁸としては、水素原子、塩素原子、又は臭素原子が挙げられる。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
First, each substituent of formula (1), (2), (3), (4) or (5) will be specifically described.
Substituents R ¹ , R ² , R ³ , R ⁴ , R ⁵ , R ⁶ , R ⁷ and R of the compound represented by formula (1), (2), (3), (4) or (5) ^{As 8} each independently, a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, cyano group, methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, methoxy Group, ethoxy group, normal propoxy group, isopropoxy group, normal butoxy group, isobutoxy group, secondary butoxy group or tertiary butoxy group. Here, as a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned.
Preferable R ¹ , R ² , R ³ , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ include a hydrogen atom, and preferable R ⁴ and R ⁸ include a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom.

次に、式（６）の各置換基を具体的に説明する。
Ｒ¹⁰としては、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、又はセカンダリーブチル基が挙げられ、好ましくはメチル基である。
Ｒ¹¹及びＲ¹²としては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子）、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ基又はターシャーリーブトキシ基が挙げられ、好ましくは水素原子である。 Next, each substituent of Formula (6) is demonstrated concretely.
Examples of R ¹⁰ are each independently a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, an isobutyl group, or a secondary butyl group, preferably a methyl group.
R ¹¹ and R ¹² are each independently a hydrogen atom, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom), nitro group, cyano group, methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, Normal butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, methoxy group, ethoxy group, normal propoxy group, isopropoxy group, normal butoxy group, isobutoxy group, secondary butoxy group or tertiary butoxy group are preferable. Is a hydrogen atom.

Ｍとしては、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ又はＨｇが挙げられ、好ましくは、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ又はＺｎであり、さらに好ましくは、Ｃｏである。
Ｘとしては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子）、イソシアネート基、チオシアネート基、パークロレート基、シアネート基又はナイトレート基が挙げられ、好ましくは塩素原子、イソシアネート基、チオシアネート基、又はパークロレート基であり、さらに好ましくはイソシアネート基である。
ｎは１〜３を示し、Ｍに用いる金属イオンの価数とｎの数が対応する。 As M, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, or Hg can be mentioned, preferably Ni, Co, Cu, Mn, Fe, Cr, or Zn, and more preferably Co.
X includes a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom), an isocyanate group, a thiocyanate group, a perchlorate group, a cyanate group or a nitrate group, preferably a chlorine atom, an isocyanate group or a thiocyanate group. Or a perchlorate group, more preferably an isocyanate group.
n represents 1 to 3, and the valence of the metal ion used for M corresponds to the number of n.

次に、単分子磁石の製造法について説明する。
式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物と、式（６）で表される金属錯体又は金属塩と、溶媒とを混合してなる溶液に、光照射することにより、単分子磁石を製造することができる。
この場合、式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物と式（６）で表される金属錯体とのモル比（［式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物］：［金属錯体］モル比）は、通常４：１〜１：４の範囲を使用することができ、好ましくは、２：１〜１：２の範囲である。
式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物と、式（６）で表される金属錯体との混合は、固体状態（溶剤を加えない状態）、それぞれ適当な溶媒に溶解した溶液状態、又は高分子などにドーピングした状態で行うことができるが、適当な溶媒にそれぞれ溶解した溶液状態で混合することが好ましい。 Next, the manufacturing method of a single molecule magnet is demonstrated.
A solution obtained by mixing a compound represented by formula (1), (2), (3), (4) or (5), a metal complex or metal salt represented by formula (6), and a solvent. Moreover, a single molecule magnet can be manufactured by light irradiation.
In this case, the molar ratio of the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) and the metal complex represented by the formula (6) ([formula (1), The compound represented by (2), (3), (4) or (5)]: [metal complex] molar ratio) can usually be in the range of 4: 1 to 1: 4, preferably 2: 1 to 1: 2.
The mixing of the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) with the metal complex represented by the formula (6) is in a solid state (a state in which no solvent is added). ), Respectively, in a solution state dissolved in a suitable solvent, or in a state doped with a polymer, etc., but it is preferable to mix in a solution state each dissolved in a suitable solvent.

使用可能な溶媒は、式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物、及び式（６）で表される金属錯体を必要濃度以上の濃度で溶解し得、かつ磁性が得られる溶媒であれば特に限定されるものではなく、具体的には、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の環状エーテル系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒；並びにこれらの溶媒の混合溶媒などが挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、ハロゲン化炭化水素系溶媒、ニトリル系溶媒、環状エーテル系溶媒、及びハロゲン化炭化水素系溶媒と環状エーテル系溶媒との混合溶媒が挙げられ、より好ましくは、塩化メチレン、ブチロニトリル、２−メチルテトラヒドロフラン、及び塩化メチレンと２−メチルテトラヒドロフランとの混合溶媒が挙げられ、更に好ましくは、塩化メチレンと２−メチルテトラヒドロフランとの混合溶媒が挙げられる。
なお、ハロゲン化炭化水素系溶媒と環状エーテル系溶媒との混合比率（ｖ／ｖ）は任意であるが、５：９５〜２５：７５程度が好適である。 Usable solvents are compounds represented by formula (1), (2), (3), (4) or (5), and metal complex represented by formula (6) at a concentration higher than the required concentration. The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that can be dissolved and magnetism can be obtained. Specifically, alcohol solvents such as ethanol and propanol; halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and chloroform; tetrahydrofuran, Examples thereof include cyclic ether solvents such as 2-methyltetrahydrofuran and tetrahydropyran; nitrile solvents such as acetonitrile and butyronitrile; and mixed solvents of these solvents.
Among these, preferably, halogenated hydrocarbon solvents, nitrile solvents, cyclic ether solvents, and mixed solvents of halogenated hydrocarbon solvents and cyclic ether solvents, more preferably methylene chloride, Examples thereof include butyronitrile, 2-methyltetrahydrofuran, and a mixed solvent of methylene chloride and 2-methyltetrahydrofuran, and more preferably a mixed solvent of methylene chloride and 2-methyltetrahydrofuran.
The mixing ratio (v / v) of the halogenated hydrocarbon solvent and the cyclic ether solvent is arbitrary, but is preferably about 5:95 to 25:75.

式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物、及び式（６）で表される金属錯体を混合する温度は、通常−３０〜３０℃の範囲を使用することができ、好ましくは、０〜２０℃の範囲である。
式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物、及び式（６）で表される金属錯体を混合する時間は、混合する温度により変化するため、一概に決定できないが、例えば、２０℃の場合、０．１〜１０分間の範囲である。
式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物、及び式（６）で表される金属錯体を混合することにより、式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物を配位子とする有機金属錯体が生成する。
光照射は、上記各成分を混合して得られる有機金属錯体を含む溶液に対して行うことが好適であるが、この有機金属錯体を一度単離した後に光照射することもできる（固体状態、適当な溶剤に溶解した溶液状態又は高分子などにドーピングした状態等）。 The temperature at which the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) and the metal complex represented by the formula (6) are mixed is usually −30 to 30 ° C. A range can be used, preferably in the range of 0-20 ° C.
The time for mixing the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) and the metal complex represented by the formula (6) varies depending on the mixing temperature. For example, in the case of 20 ° C., the range is 0.1 to 10 minutes.
By mixing the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) and the metal complex represented by the formula (6), the formula (1), (2 ), (3), (4) or an organometallic complex having the compound represented by (5) as a ligand is formed.
The light irradiation is preferably performed on a solution containing an organometallic complex obtained by mixing each of the above components. However, the organometallic complex can be isolated after being isolated once (solid state, Solution state dissolved in a suitable solvent or polymer doped state).

光照射の光源としては、ジアゾ基の吸収波長である５００ｎｍ付近を含む光源であれば特に限定されないが、アルゴンイオンレーザ（５１４ｎｍ）、ヘリウムカドミウム（Ｈｅ−Ｃｄ）レーザ（４４２ｎｍ）、キセノンランプ、高圧水銀ランプ及びＹＡＧレーザの２倍波（５３２ｎｍ）等が挙げられ、好ましくは、アルゴンイオンレーザ（５１４ｎｍ）が挙げられる。
光照射の波長としては、ジアゾ基の吸収波長である５００ｎｍ付近を含む光源であれば特に限定されないが、通常４００ｎｍ以上の波長を使用することができ、好ましくは、４００〜５５０ｎｍの範囲である。
光照射時の温度は、生成したカルベンが安定であれば特に限定されないが、通常２０Ｋ以下の温度を用いることができ、好ましくは１５Ｋ以下である。なお、その下限は通常０．０４Ｋ程度である。
光照射の時間は、光照射時の温度、用いる波長、出力、サンプル濃度などにより変化するため、一概に決定できないが、例えば、１５Ｋの場合、アルゴンイオンレーザ（１５０ｍＷ）で５時間以上照射すれば充分である。 The light source for light irradiation is not particularly limited as long as it is a light source including about 500 nm which is the absorption wavelength of the diazo group, but an argon ion laser (514 nm), a helium cadmium (He—Cd) laser (442 nm), a xenon lamp, a high pressure Examples include a mercury lamp and a second harmonic wave (532 nm) of a YAG laser, and an argon ion laser (514 nm) is preferable.
The wavelength of the light irradiation is not particularly limited as long as it is a light source including about 500 nm which is the absorption wavelength of the diazo group, but a wavelength of 400 nm or more can usually be used, and is preferably in the range of 400 to 550 nm.
The temperature at the time of light irradiation is not particularly limited as long as the generated carbene is stable, but a temperature of 20K or lower can be usually used, and preferably 15K or lower. The lower limit is usually about 0.04K.
The light irradiation time varies depending on the temperature at the time of light irradiation, the wavelength to be used, the output, the sample concentration, etc., and therefore cannot be determined in general. For example, in the case of 15K, if irradiation is performed with an argon ion laser (150 mW) for 5 hours or more. It is enough.

次に、式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物の製造法について説明する。
式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物は、それぞれ反応式１〜５に示す方法により製造することができる。
すなわち、反応式１〜５において、化合物（７）〜（１０）を、それぞれＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）中、Ｎ₂Ｈ₄（ヒドラジン）及びＮ₂Ｈ₄・ＨＣｌ（塩酸ヒドラジン）でヒドラゾン化し、更にＣＨ₂Ｃｌ₂（塩化メチレン）中、ＭｎＯ₂（二酸化マンガン）で酸化することにより、対応する式（１）〜（５）で表される化合物を製造することができる。

（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁷は、上記と同じ意味を表す。） Next, the manufacturing method of the compound represented by Formula (1), (2), (3), (4) or (5) is demonstrated.
The compounds represented by formula (1), (2), (3), (4) or (5) can be produced by the methods shown in reaction formulas 1 to 5, respectively.
That is, in the reaction formulas 1 to 5, the compounds (7) to (10) are hydrazoned with N ₂ H ₄ (hydrazine) and N ₂ H ₄ .HCl (hydrazine hydrochloride) in DMSO (dimethyl sulfoxide), respectively. The compounds represented by the corresponding formulas (1) to (5) can be produced by oxidation with MnO ₂ (manganese dioxide) in CH ₂ Cl ₂ (methylene chloride).

(Wherein R ^{1 to} R ⁷ represent the same meaning as described above.)

（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁵は、上記と同じ意味を表す。）

(Wherein R ^{1 to} R ⁵ represent the same meaning as described above.)

（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁵は、上記と同じ意味を表す。）

(Wherein R ^{1 to} R ⁵ represent the same meaning as described above.)

（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁵は、上記と同じ意味を表す。）

(Wherein R ^{1 to} R ⁵ represent the same meaning as described above.)

（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁶〜Ｒ⁸は、上記と同じ意味を表す。）

(In the formula, R ¹ , R ² and R ^{6 to} R ⁸ represent the same meaning as described above.)

また、式（６）で表される化合物は、下記式に示す方法により製造することができる。
すなわち、化合物（１２）をＣＨ₂Ｃｌ₂（塩化メチレン）に溶解させ、金属イオン（Ｍ）と対アニオン（Ｘ）とのエタノール水溶液中で混合することで、対応する式（６）で表される化合物を製造することができる。 Moreover, the compound represented by Formula (6) can be manufactured by the method shown to a following formula.
That is, the compound (12) is dissolved in CH ₂ Cl ₂ (methylene chloride) and mixed in an aqueous ethanol solution of a metal ion (M) and a counter anion (X). Can be produced.

（式中、Ｒ¹⁰〜Ｒ¹²は、上記と同じ意味を表す。）

(Wherein R ^{10 to} R ¹² represent the same meaning as described above.)

以下、合成例および実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
［合成例１］化合物（１３）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）の合成

EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example and an Example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to the following Example.
[Synthesis Example 1] Synthesis of Compound (13) (R ¹ = R ² = R ³ = R ⁴ = R ⁵ = H)

アルゴン雰囲気下、ジケトン体（化合物（８）のＲ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）１．５ｇ（５．２ｍｍｏｌ）を５ｍｌのＤＭＳＯに溶かし、塩酸ヒドラジン３．６ｇ（５２ｍｍｏｌ）、無水ヒドラジン１．５ｍｌの順で加えて９０℃で撹拌した。５時間撹拌後、反応溶液を氷水に注いで３０分間撹拌した。析出した乳白色固体を吸引濾過し、充分の水及びジエチルエーテルで洗浄し、化合物（１３）１．４ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を得た。難溶解固体のため未精製のまま次の反応を行った。 Under an argon atmosphere, 1.5 g (5.2 mmol) of a diketone body (R ¹ = R ² = R ³ = R ⁴ = R ⁵ = H of compound (8)) was dissolved in 5 ml of DMSO, and 3.6 g of hydrazine hydrochloride ( 52 mmol) and 1.5 ml of anhydrous hydrazine were added in this order, and the mixture was stirred at 90 ° C. After stirring for 5 hours, the reaction solution was poured into ice water and stirred for 30 minutes. The milky white solid precipitated was filtered by suction and washed with sufficient water and diethyl ether to obtain 1.4 g (4.4 mmol) of Compound (13). The following reaction was carried out without purification because it was a hardly soluble solid.

［合成例２］化合物（１４）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）の合成

Synthesis Example 2 Synthesis of Compound (14) (R ¹ = R ² = R ³ = R ⁴ = R ⁵ = H)

アルゴン雰囲気下、化合物（１３）１．１ｇ（３．５ｍｍｏｌ）の１０ｍｌ塩化メチレン溶液中に活性二酸化マンガン２ｇ（２３．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で遮光しながら撹拌した。２時間後、反応溶液を吸引濾過して無機物を除き、溶媒を減圧留去し、オイル状固体を得た。短いアルミナカラムクロマトグラフィーにより、濾過で除去できなかった無機物を除き、溶媒を減圧留去し、赤色固体１．０ｇ（３．２ｍｍｏｌ）得た。この固体を塩化メチレン−ジエチルエーテル混合溶媒に溶かし、−１５℃で静置して化合物（１４）の赤色結晶を得た。
¹H-NMR(270MHz,CDCl₃)δ: 8.43 (dd, J = 4.6 and 1.7 Hz, 2H), 7.51-7.10 (m, 9 H), 7.06 (dd, J = 4.6 and 1.7 Hz, 2H).
IR(KBr): 2038 cm^-1
m.p. (℃) (decomp.): 108-110 ℃
Anal. Cacld for C₁₉H₁₃N₅: C, 73.30; H, 4.21; N, 22.49. Found: C, 73.16; H, 4.19; N, 22.44 Under an argon atmosphere, 2 g (23.0 mmol) of active manganese dioxide was added to a solution of 1.1 g (3.5 mmol) of compound (13) in 10 ml of methylene chloride, and the mixture was stirred at room temperature while being protected from light. After 2 hours, the reaction solution was suction filtered to remove inorganic substances, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain an oily solid. The inorganic substances that could not be removed by filtration were removed by short alumina column chromatography, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.0 g (3.2 mmol) of a red solid. This solid was dissolved in a methylene chloride-diethyl ether mixed solvent and allowed to stand at −15 ° C. to obtain red crystals of compound (14).
¹ H-NMR (270 MHz, CDCl ₃ ) δ: 8.43 (dd, J = 4.6 and 1.7 Hz, 2H), 7.51-7.10 (m, 9 H), 7.06 (dd, J = 4.6 and 1.7 Hz, 2H).
IR (KBr): 2038 cm ^-1
mp (℃) (decomp.): 108-110 ℃
Anal. Cacld for C ₁₉ H ₁₃ N ₅ : C, 73.30; H, 4.21; N, 22.49. Found: C, 73.16; H, 4.19; N, 22.44

［合成例３］化合物（１５）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）の合成

Synthesis Example 3 Synthesis of Compound (15) (R ¹ = R ² = R ³ = R ⁴ = R ⁵ = H)

アルゴン雰囲気下、トリケトン体（化合物（９）のＲ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）２．２ｇ（５．６ｍｍｏｌ）を３ｍｌのＤＭＳＯに溶かし、塩酸ヒドラジン５．４ｇ（８０ｍｍｏｌ）、無水ヒドラジン３ｍｌの順で加えて９０℃で撹拌した。３時間撹拌後、反応溶液を氷水に注いで３０分間撹拌した。析出した乳白色固体を吸引濾過し、充分の水及びジエチルエーテルで洗浄し、化合物（１５）２．１ｇ（４．８ｍｍｏｌ）を得た。難溶解固体のため未精製のまま次の反応を行った。 Under an argon atmosphere, dissolved triketone body ^{^{(R 1 = R 2 = R}} 3 = R 4 = R 5 = H in Compound (9)) 2.2g (5.6mmol) of DMSO 3 ml, hydrazine hydrochloride 5.4 g ( 80 mmol) and 3 ml of anhydrous hydrazine were added in this order, and the mixture was stirred at 90 ° C. After stirring for 3 hours, the reaction solution was poured into ice water and stirred for 30 minutes. The precipitated milky white solid was subjected to suction filtration and washed with sufficient water and diethyl ether to obtain 2.1 g (4.8 mmol) of Compound (15). The following reaction was carried out without purification because it was a hardly soluble solid.

［合成例４］化合物（１６）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）の合成

Synthesis Example 4 Synthesis of Compound (16) (R ¹ = R ² = R ³ = R ⁴ = R ⁵ = H)

アルゴン雰囲気下、化合物（１５）５００ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）の１５ｍｌ塩化メチレン溶液中に活性二酸化マンガン３．１ｇ（３６．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で遮光しながら撹拌した。３時間後、反応溶液を吸引濾過して無機物を除き、溶媒を減圧留去し、オイル状固体を得た。短いアルミナカラムクロマトグラフィーにより、濾過で除去できなかった無機物を除き、溶媒を減圧留去し、赤色固体を４００ｍｇ（０．９４ｍｍｏｌ）得た。この固体を塩化メチレン−ジエチルエーテル混合溶媒に溶かし、−１５℃で静置して化合物（１６）の赤色結晶を得た。
¹H-NMR(270MHz,CDCl₃)δ：8.48 (d, J = 4.9 Hz, 2H), 7.50-7.10 (m, 13 H), 7.07 (dd, J = 4.6 and 1.7 Hz, 2H).
IR(KBr): 2039 cm^-1
m.p. (℃) (decomp.) : 74-75 ℃
Anal. Cacld for C₂₆H₁₇N₇: C, 73.05; H, 4.01; N, 22.94. Found: C, 73.09; H, 4.01; N, 22.78 Under an argon atmosphere, 3.1 g (36.0 mmol) of active manganese dioxide was added to a 15 ml methylene chloride solution of 500 mg (1.2 mmol) of the compound (15), and the mixture was stirred at room temperature while being protected from light. After 3 hours, the reaction solution was suction filtered to remove inorganic substances, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain an oily solid. The inorganic substance that could not be removed by filtration was removed by short alumina column chromatography, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 400 mg (0.94 mmol) of a red solid. This solid was dissolved in a mixed solvent of methylene chloride-diethyl ether and allowed to stand at −15 ° C. to obtain red crystals of compound (16).
¹ H-NMR (270 MHz, CDCl ₃ ) δ: 8.48 (d, J = 4.9 Hz, 2H), 7.50-7.10 (m, 13 H), 7.07 (dd, J = 4.6 and 1.7 Hz, 2H).
IR (KBr): 2039 cm ^-1
mp (℃) (decomp.): 74-75 ℃
Anal. Cacld for C ₂₆ H ₁₇ N ₇ : C, 73.05; H, 4.01; N, 22.94. Found: C, 73.09; H, 4.01; N, 22.78

［合成例５］化合物（１７）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）の合成

Synthesis Example 5 Synthesis of Compound (17) (R ¹ = R ² = R ³ = R ⁴ = R ⁵ = H)

アルゴン雰囲気下、テトラケトン体（化合物（１０）のＲ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）０．７９４ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）をＤＭＳＯ２０ｍｌに溶かし、６０℃に加熱して攪拌した後、ヒドラジン塩酸塩４．３８ｇ（６４ｍｍｏｌ）、無水ヒドラジン２．０ｍｌ（６４ｍｍｏｌ）を加え、１．５時間攪拌した。この溶液を室温に戻し、氷水に注いで吸引濾過後、減圧下で乾燥し白色固体として化合物（１７）を８２５ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）得た。 Under an argon atmosphere, dissolved Tetoraketon body ^{^{(R 1 = R 2 = R}} 3 = R 4 = R 5 = H in Compound (10)) 0.794g (1.60mmol) in 20 ml of DMSO, and stirred and heated to 60 ° C. Thereafter, 4.38 g (64 mmol) of hydrazine hydrochloride and 2.0 ml (64 mmol) of anhydrous hydrazine were added and stirred for 1.5 hours. This solution was returned to room temperature, poured into ice water, suction filtered, and dried under reduced pressure to obtain 825 mg (1.50 mmol) of Compound (17) as a white solid.

［合成例６］化合物（１８）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）の合成

Synthesis Example 6 Synthesis of Compound (18) (R ¹ = R ² = R ³ = R ⁴ = R ⁵ = H)

アルゴン雰囲気下、化合物（１７）８２５ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン１５ｍｌに溶かし、遮光して氷浴上で攪拌した。二酸化マンガン５．２２ｇ（６０ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。吸引濾過により、二酸化マンガンを取り除き、ろ液の塩化メチレンを減圧留去し、得られた赤色溶液をアルミナカラムクロマトグラフィーで精製した。これにより赤色粉末として化合物（１８）を７７０ｍｇ（１．４２ｍｍｏｌ）得た。この固体を塩化メチレン／ジエチルエーテル中で再沈殿を行い、化合物（１８）０．７９４ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）の赤色固体を得た。
¹H-NMR(270MHz,CDCl₃)δ：8.47(dd,2H), 7.48-7.04(m,19H).
IR(KBr): 2037 cm^-1
Anal.Calcd for C₃₃H₂₁N₉: C, 72.92; H, 3.89; N, 23.19
Found: C, 72.85; H, 3.90; N, 23.02 Under an argon atmosphere, 825 mg (1.50 mmol) of the compound (17) was dissolved in 15 ml of methylene chloride, and the mixture was stirred on an ice bath protected from light. Manganese dioxide 5.22 g (60 mmol) was added and stirred for 1 hour. Manganese dioxide was removed by suction filtration, methylene chloride in the filtrate was distilled off under reduced pressure, and the resulting red solution was purified by alumina column chromatography. This obtained 770 mg (1.42 mmol) of compound (18) as red powder. This solid was reprecipitated in methylene chloride / diethyl ether to obtain 0.794 g (1.60 mmol) of a red solid of compound (18).
¹ H-NMR (270 MHz, CDCl ₃ ) δ: 8.47 (dd, 2H), 7.48-7.04 (m, 19H).
IR (KBr): 2037 cm ^-1
Anal.Calcd for C ₃₃ H ₂₁ N ₉ : C, 72.92; H, 3.89; N, 23.19
Found: C, 72.85; H, 3.90; N, 23.02

［合成例７］化合物（１９）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ⁶＝Ｒ⁷＝Ｈ、Ｒ⁸＝Ｂｒ）の合成

Synthesis Example 7 Synthesis of Compound (19) (R ¹ = R ² = R ⁶ = R ⁷ = H, R ⁸ = Br)

アルゴン雰囲気下、ペンタケトン体（化合物（１１）のＲ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｈ）１０２ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌ）を１ｍｌのＤＭＳＯに溶かし、塩酸ヒドラジン５５０ｍｇ（８．１ｍｍｏｌ）、無水ヒドラジン０．３ｍｌの順で加えて９０℃で撹拌した。４．５時間撹拌後、反応溶液を氷水に注ぎ、析出した乳白色固体を吸引濾過し、充分の水及びジエチルエーテルで洗浄し、化合物（１９）１１０ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）を得た。難溶解固体のため未精製のまま次の反応を行った。
IR(KBr): 3398, 3290, 3209 cm^-1 Under an argon atmosphere, 102 mg (0.14 mmol) of a pentaketone compound (R ¹ = R ² = R ³ = R ⁴ = R ⁵ = H of compound (11)) was dissolved in 1 ml of DMSO, and 550 mg (8.1 mmol) of hydrazine hydrochloride. Then, 0.3 ml of anhydrous hydrazine was added in this order, and the mixture was stirred at 90 ° C. After stirring for 4.5 hours, the reaction solution was poured into ice water, and the precipitated milky white solid was subjected to suction filtration and washed with sufficient water and diethyl ether to obtain 110 mg (0.13 mmol) of Compound (19). The following reaction was carried out without purification because it was a hardly soluble solid.
IR (KBr): 3398, 3290, 3209 cm ^-1

［合成例８］化合物（２０）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ⁶＝Ｒ⁷＝Ｈ、Ｒ⁸＝Ｂｒ）の合成

Synthesis Example 8 Synthesis of Compound (20) (R ¹ = R ² = R ⁶ = R ⁷ = H, R ⁸ = Br)

アルゴン雰囲気下、化合物（１９）１１０ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）の１５ｍｌ塩化メチレン溶液中に活性二酸化マンガン２．０ｇ（２３．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で遮光しながら撹拌した。１時間後、反応溶液を吸引濾過し無機物を除き、溶媒を減圧留去し、オイル状固体を得た。短いアルミナカラムクロマトグラフィーにより、濾過で除去できなかった無機物を除き、溶媒を減圧留去し、赤色固体１０９ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）得た。この固体を塩化メチレン−ジエチルエーテル混合溶媒に溶かし、−１５℃で静置して化合物（２０）の赤色結晶を得た。
¹H-NMR(270MHz,CDCl₃)δ： 8.51 (m, 2H), 7.13 (d, 6 H), 7.07 (m, 2H), 6.99 (d, 3H), 6.95 (s, 2H).
IR(KBr): 2043 cm^-1
m.p. (℃) (decomp.): 114-117 ℃ Under an argon atmosphere, 2.0 g (23.2 mmol) of active manganese dioxide was added to a 15 ml methylene chloride solution of 110 mg (0.13 mmol) of the compound (19), and the mixture was stirred at room temperature while being protected from light. After 1 hour, the reaction solution was filtered with suction to remove inorganic substances, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain an oily solid. The inorganic substances that could not be removed by filtration were removed by short alumina column chromatography, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 109 mg (0.13 mmol) of a red solid. This solid was dissolved in a methylene chloride-diethyl ether mixed solvent and allowed to stand at −15 ° C. to obtain red crystals of compound (20).
¹ H-NMR (270 MHz, CDCl ₃ ) δ: 8.51 (m, 2H), 7.13 (d, 6 H), 7.07 (m, 2H), 6.99 (d, 3H), 6.95 (s, 2H).
IR (KBr): 2043 cm ^-1
mp (℃) (decomp.): 114-117 ℃

［合成例９］化合物（２１）（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ⁶＝Ｒ⁷＝Ｒ⁸＝Ｈ）の合成

Synthesis Example 9 Synthesis of Compound (21) (R ¹ = R ² = R ⁶ = R ⁷ = R ⁸ = H)

ビス（Ｎ−ジメチルメチル）ピリジン５５５ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）の１５ｍｌ塩化メチレン溶液中に硝酸コバルト２水和物（０．１３ｍｍｏｌ）とイソシアン酸カリウム（０．３３ｍｍｏｌ）のエタノール水溶液２０ｍｌとを加えた。析出した固体をひだ折り濾過し、ろ液を減圧留去により１０ｍｌとした後、室温で静置した。２日後、化合物（２１）の紫針状結晶を得た。 Cobalt nitrate dihydrate (0.13 mmol) and 20 ml of an aqueous ethanol solution of potassium isocyanate (0.33 mmol) were added to a 15 ml methylene chloride solution of 555 mg (0.13 mmol) of bis (N-dimethylmethyl) pyridine. The precipitated solid was filtered with folds, and the filtrate was distilled off under reduced pressure to 10 ml, and then allowed to stand at room temperature. Two days later, a purple needle crystal of compound (21) was obtained.

［実施例１］コバルト錯体を用いる単分子磁石の製造
化合物（１）の２０ｍｍｏｌ／Ｌとなる２−メチルテトラヒドロフラン溶液を調製した。化合物（２１）の２０ｍｍｏｌ／Ｌとなる２−メチルテトラヒドロフランと塩化メチレン２：１（ｖ／ｖ）混合溶液を調製した。これら２種類の溶液を１：１（ｖ／ｖ）で混合した。この溶液５０μＬをマイクロシリンジにとり、磁化測定装置〔superconducting quantum interference device （ＳＱＵＩＤ） MPMS-7S，Quantum Design社製〕用の透明なカプセルに移した。試料が入ったカプセルをＳＱＵＩＤのプローブに挿入し、プローブの中を５−１０Ｋ以下に保ちながら、アルゴンイオンレーザ（５１４ｎｍ）で試料を照射した。直流磁化率の温度依存性の測定から、３個のスピンが平行に揃っていることが認められた。また交流磁化率の測定において、４Ｋ以下で遅い磁気緩和現象が認められた。これらの結果を図１〜３に示す。 [Example 1] Production of a monomolecular magnet using a cobalt complex A 2-methyltetrahydrofuran solution of 20 mmol / L of the compound (1) was prepared. A mixed solution of 2-methyltetrahydrofuran and methylene chloride 2: 1 (v / v) to 20 mmol / L of the compound (21) was prepared. These two types of solutions were mixed at 1: 1 (v / v). 50 μL of this solution was taken in a microsyringe and transferred to a transparent capsule for a magnetization measuring device (superconducting quantum interference device (SQUID) MPMS-7S, manufactured by Quantum Design). The capsule containing the sample was inserted into a SQUID probe, and the sample was irradiated with an argon ion laser (514 nm) while keeping the probe at 5-10K or lower. From the measurement of the temperature dependence of the DC magnetic susceptibility, it was confirmed that three spins were aligned in parallel. In the measurement of AC magnetic susceptibility, a slow magnetic relaxation phenomenon was observed at 4K or less. These results are shown in FIGS.

［比較例１］銅錯体を用いる分子磁性体の製造
化合物（１）の濃度が８ｍｍｏｌ／Ｌとなるエタノールの溶液を調製した。Ｃｕ（ＮＯ₃）₂（硝酸銅）の濃度が４ｍｍｏｌ／Ｌとなるエタノール溶液を調製し、２種類の溶液を１：１（ｖ／ｖ）で混合した。この溶液５０μＬをマイクロシリンジにとり、磁化測定装置（ＳＱＵＩＤ）用の透明なカプセルに移した。試料が入ったカプセルをＳＱＵＩＤのプローブに挿入し、プローブの中を５−１０Ｋ以下に保ちながら、アルゴンイオンレーザ（５１４ｎｍ）で試料を照射した。実施例１と同様の操作により、９個のスピンが平行に揃った常磁性体が観測されたが、交流磁化率において遅い磁気緩和は認められなかった。 [Comparative Example 1] Production of molecular magnetic material using copper complex An ethanol solution having a concentration of compound (1) of 8 mmol / L was prepared. An ethanol solution in which the concentration of Cu (NO ₃ ) ₂ (copper nitrate) was 4 mmol / L was prepared, and the two kinds of solutions were mixed at 1: 1 (v / v). 50 μL of this solution was taken in a microsyringe and transferred to a transparent capsule for a magnetization measuring device (SQUID). The capsule containing the sample was inserted into a SQUID probe, and the sample was irradiated with an argon ion laser (514 nm) while keeping the probe at 5-10K or lower. By the same operation as in Example 1, a paramagnetic material having nine spins aligned in parallel was observed, but no slow magnetic relaxation was observed in the AC susceptibility.

実施例１の化合物（１）及びコバルト錯体の混合物における、光照射前（黒塗り）と光照射後（白抜き）の、５０００Ｏｅでの磁化の温度依存性を示す。図中、縦軸は磁化率｛χmolT (emu K mol^-1)｝を表し、横軸は温度｛T (K)｝を表す。The temperature dependence of the magnetization in 5000 Oe before light irradiation (black painting) and after light irradiation (white) in the mixture of the compound (1) of Example 1 and a cobalt complex is shown. In the figure, the vertical axis represents magnetic susceptibility {χmolT (emu K mol ⁻¹ )} and the horizontal axis represents temperature {T (K)}. 実施例１における、光照射（アルゴンイオンレーザ（５１４ｎｍ））の照射時間（分）経過における、化合物（１）及びコバルト錯体の混合物の５０００Ｏｅでの磁化の変化を示す。図中、縦軸は磁化｛Magnetization (emu Oe)｝を表し、横軸は光照射（アルゴンイオンレーザ（５１４ｎｍ））の照射時間（分）｛Irradiation Time (min.)｝を表す。The change of the magnetization in 5000 Oe of the mixture of a compound (1) and a cobalt complex in the irradiation time (minute) progress of light irradiation (argon ion laser (514 nm)) in Example 1 is shown. In the figure, the vertical axis represents magnetization {Magnetization (emu Oe)}, and the horizontal axis represents irradiation time (min) {Irradiation Time (min.)} Of light irradiation (argon ion laser (514 nm)). 光照射後の、化合物（１）及びコバルト錯体の混合物における交流磁化率の温度依存性（１Ｈｚ、１０Ｈｚ、１００Ｈｚ、５００Ｈｚ、１０００Ｈｚでそれぞれ測定）を示す。図中、縦軸は交流磁化率｛χ”(emu/mol)｝を表し、横軸は温度｛T (K)｝を表す。ここで○：１Ｈｚ、□：１０Ｈｚ、△：１００Ｈｚ、▽：５００Ｈｚ、◆：１０００Ｈｚでのそれぞれ測定曲線を表す。The temperature dependence (measured at 1 Hz, 10 Hz, 100 Hz, 500 Hz, and 1000 Hz, respectively) of the AC magnetic susceptibility in the mixture of the compound (1) and the cobalt complex after light irradiation is shown. In the figure, the vertical axis represents the AC magnetic susceptibility {χ ″ (emu / mol)}, and the horizontal axis represents the temperature {T (K)}. Here, ○: 1 Hz, □: 10 Hz, Δ: 100 Hz, ▽: Respective measurement curves at 500 Hz and ♦: 1000 Hz are shown.

Claims

式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）

（式中、Ｒ¹⁰は、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、又はセカンダリーブチル基を示し、
Ｒ¹¹及びＲ¹²は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ基又はターシャーリーブトキシ基を示し、
Ｍは、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ又はＨｇを示し、
Ｘは、ハロゲン原子、イソシアネート基、チオシアネート基、パークロレート基、シアネート基又はナイトレート基を示し、ｎは１〜３を示す。）
で表される有機金属錯体と、溶媒とを混合してなる溶液に、光照射することで得られることを特徴とする単分子磁石。 Formula (1), (2), (3), (4) or (5)

(In the formula, each R ¹⁰ independently represents a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, an isobutyl group, or a secondary butyl group;
R ¹¹ and R ¹² are each independently a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, cyano group, methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl. Group, methoxy group, ethoxy group, normal propoxy group, isopropoxy group, normal butoxy group, isobutoxy group, secondary butoxy group or tertiary butoxy group;
M is Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, Hf, Ta, W, Re, Os , Ir, Pt, Au or Hg
X represents a halogen atom, an isocyanate group, a thiocyanate group, a perchlorate group, a cyanate group or a nitrate group, and n represents 1 to 3. )
A monomolecular magnet obtained by irradiating a solution obtained by mixing an organometallic complex represented by formula (II) with a solvent.

前記式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）において、前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷が全て水素原子であり、Ｒ⁴及びＲ⁸がそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、又は臭素原子である請求項１記載の単分子磁石。 In the formula (1), (2), (3), (4) or (5), R ¹ , R ² , R ³ , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ are all hydrogen atoms, and R ⁴ And R ⁸ each independently represents a hydrogen atom, a chlorine atom, or a bromine atom.

前記式（６）において、前記Ｒ¹⁰がメチル基、前記Ｒ¹¹及びＲ¹²が全て水素原子、前記ＭがＮｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ又はＺｎであり、前記Ｘが塩素原子、イソシアネート基、チオシアネート基、又はパークロレート基である請求項１又は２記載の単分子磁石。 In the formula (6), R ¹⁰ is a methyl group, R ¹¹ and R ¹² are all hydrogen atoms, M is Ni, Co, Cu, Mn, Fe, Cr, or Zn, and X is a chlorine atom, The monomolecular magnet according to claim 1 or 2, which is an isocyanate group, a thiocyanate group, or a perchlorate group.

前記式（６）において、前記ＭがＣｏであり、前記Ｘがイソシアネート基であり、前記ｎが２である請求項１、２又は３記載の単分子磁石。 The monomolecular magnet according to claim 1, 2 or 3, wherein in the formula (6), the M is Co, the X is an isocyanate group, and the n is 2.

前記式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物と、前記式（６）で表される有機金属錯体とのモル比が、２：１〜１：２の範囲である請求項１記載の単分子磁石。 The molar ratio of the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) to the organometallic complex represented by the formula (6) is 2: 1 to The monomolecular magnet according to claim 1, which is in a range of 1: 2.

前記溶媒が、塩化メチレンと２−メチルテトラヒドロフランとの混合溶媒である請求項１又は５記載の単分子磁石。 The monomolecular magnet according to claim 1 or 5, wherein the solvent is a mixed solvent of methylene chloride and 2-methyltetrahydrofuran.

光照射するときの温度が、２０Ｋ以下である請求項１、５又は６記載の単分子磁石。 The monomolecular magnet according to claim 1, 5 or 6, wherein the temperature when irradiated with light is 20 K or less.

式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）

（式中、Ｒ¹⁰は、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、又はセカンダリーブチル基を示し、
Ｒ¹¹及びＲ¹²は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ基又はターシャーリーブトキシ基を示し、
Ｍは、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ又はＨｇを示し、
Ｘは、ハロゲン原子、イソシアネート基、チオシアネート基、パークロレート基、シアネート基又はナイトレート基を示し、ｎは１〜３を示す。）
で表される有機金属錯体と、溶媒とを混合して溶液を調製し、この溶液に光照射する工程を含むことを特徴とする単分子磁石の製造方法。 Formula (1), (2), (3), (4) or (5)

(In the formula, each R ¹⁰ independently represents a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, an isobutyl group, or a secondary butyl group;
R ¹¹ and R ¹² are each independently a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, cyano group, methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl. Group, methoxy group, ethoxy group, normal propoxy group, isopropoxy group, normal butoxy group, isobutoxy group, secondary butoxy group or tertiary butoxy group;
M is Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, Hf, Ta, W, Re, Os , Ir, Pt, Au or Hg
X represents a halogen atom, an isocyanate group, a thiocyanate group, a perchlorate group, a cyanate group or a nitrate group, and n represents 1 to 3. )
A method for producing a single-molecule magnet, comprising the steps of: preparing a solution by mixing an organometallic complex represented by formula (1) and a solvent, and irradiating the solution with light.

前記式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）において、前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷が全て水素原子であり、前記Ｒ⁴及びＲ⁸がそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、又は臭素原子である請求項８記載の単分子磁石の製造方法。 In the formula (1), (2), (3), (4) or (5), the R ¹ , R ² , R ³ , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ are all hydrogen atoms, and the R ^The method for producing a monomolecular magnet according to claim 8, wherein ⁴ and R ⁸ are each independently a hydrogen atom, a chlorine atom, or a bromine atom.

前記式（６）において、前記Ｒ¹⁰がメチル基、前記Ｒ¹¹及びＲ¹²が全て水素原子、前記ＭがＮｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ又はＺｎであり、前記Ｘが塩素原子、イソシアネート基、チオシアネート基、又はパークロレート基である請求項８又は９記載の単分子磁石の製造方法。 In the formula (6), R ¹⁰ is a methyl group, R ¹¹ and R ¹² are all hydrogen atoms, M is Ni, Co, Cu, Mn, Fe, Cr, or Zn, and X is a chlorine atom, The method for producing a monomolecular magnet according to claim 8 or 9, which is an isocyanate group, a thiocyanate group, or a perchlorate group.

前記式（６）において、前記ＭがＣｏであり、前記Ｘがイソシアネート基であり、前記ｎが２である請求項８、９又は１０記載の単分子磁石の製造方法。 The method for producing a single-molecule magnet according to claim 8, 9 or 10, wherein in the formula (6), the M is Co, the X is an isocyanate group, and the n is 2.

前記式（１）、（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物と、前記式（６）で表される有機金属錯体とのモル比が、２：１〜１：２の範囲である請求項８記載の単分子磁石の製造方法。 The molar ratio of the compound represented by the formula (1), (2), (3), (4) or (5) to the organometallic complex represented by the formula (6) is 2: 1 to The method for producing a monomolecular magnet according to claim 8, wherein the range is 1: 2.

前記溶媒が、塩化メチレンと２−メチルテトラヒドロフランとの混合溶媒である請求項８又は１２記載の単分子磁石の製造方法。 The method for producing a monomolecular magnet according to claim 8 or 12, wherein the solvent is a mixed solvent of methylene chloride and 2-methyltetrahydrofuran.

前記光照射するときの温度が２０Ｋ以下である請求項８、１２又は１３記載の単分子磁石の製造方法。
The method for producing a monomolecular magnet according to claim 8, 12 or 13, wherein the temperature at which the light is irradiated is 20K or less.