JP4640151B2 - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
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Description
上記カラーフィルターにおいて、前有機分子膜は自己組織化膜であることが好ましい。
上記カラーフィルターは、さらに遮光層を有し、前記遮光層が形成されていない部分に前記カラーフィルター層が選択的に形成されていることが好ましい。
上記の遮光層は、前記有機分子膜の前記パターンに基づいて形成されていることが好ましい。
また、この遮光層は金属薄膜により形成されていることが好ましい。
本発明に係る基板は、上記のカラーフィルターを製造するための基板であって、前記有機分子膜により形成された前記パターンが形成された基板である。
上記の基板において、前記有機分子膜は、自己組織化膜であることが好ましい。
上記の基板において、前記有機分子膜は、前記基板の表面と結合する結合性官能基を有することも好ましい。
上記の基板において、前記有機分子膜は、官能基として親液基または疎液基を有していることも好ましい。
上記の基板において、前記有機分子膜は、前記官能基と結合基とを結ぶ炭素鎖を備えていることも好ましい。
本発明者は、特願平11−262663号において、基材と、該基材上にアミノ基あるいはチオール基を有する有機化合物からなる極薄膜パターンと、該極薄膜パターンに基づいた層パターンを有する微細構造体を提案した。本発明は、この有機化合物を含む分子膜を基板に結合させて基板の表面性を改良し、この基板とインクジェット吐出方式を組み合わせて、既述の問題を解決したものである。
1)前記第1有機分子膜形成工程について
図1に示すように、基板11表面に前記化合物からなる有機分子膜14を形成する。有機分子膜は、例えば、前述の自己組織化膜の材料と前記基板とを同一の密閉容器中に入れておき、室温の場合、2〜3日、100℃で3時間放置して形成することができる。自己組織化膜としては、既述のFASを用いるのが好ましい。尚、自己組織化膜を形成する場合、膜形成前に基板表面を酸素を含むプラズマ(大気又は空気中)で表面処理し、膜と基板の密着性を高めても良い。
2)前記第1除去工程について
次いで、図2に示すように、フォトマスク20を介して所定波長の紫外光で基板を露光することにより有機分子膜14をパターニングする。その結果、図3に示すように、基板表面が露出した露出部分が形成される。すなわち、露出部分からなる前記の第1段階の基板表面露出部11aと有機分子膜14が残存している部分からなる第1段階の段階の膜残留部11bとが基板表面に形成される。例えば基板表面が露出している部分は後述するカラーフィルターの材料となるインクなどの液滴に対して親和性を備えており、有機分子膜が残存しているところは液滴に対して親和性を備えていない。
3)ブラックマトリクス形成工程について
前述した有機分子膜(自己組織化膜)パターンに基づいて、例えば無電解めっきにより形成された金属薄膜からなる遮光性ブラックマトリクスのパターンを形成する。無電解めっきは、通常、浸漬法により得られる。公知の無電解めっき技術と同様に、めっきを施す前に公知のアクティベーション処理を基板に行うことが好ましい。
4)第2除去工程について
この工程は、前記第1除去工程の説明で詳述した手法を用いて、膜残存部11bに存在する自己組織化膜を除去する。図6に示すように、基板11の表面側全面に紫外線照射を行い、図7に示すように、有機分子膜を全て基板から除去して、基板11上に所定パターンの遮光性ブラックマトリクス13のみが形成されている状態にする。紫外線照射により自己組織化膜を基板から除去することは、第1除去工程と同である。
5)第2有機分子膜形成工程について
この工程は、第1自己組織化膜形成工程の説明で詳述した手法を用いて、遮光性ブラックマトリクス上にも自己組織化膜を形成させるために、基板表面の全面に再度有機分子膜(自己組織化膜)14’を形成する工程である。この工程及び次の工程の目的は、選択的に遮光膜である金属薄膜13に後述のカラーフィルターの材料を含むインクに対する撥インク性を与えるためである。
6)第3除去工程について
この工程は第1除去工程の説明において説明した内容に即して行われる。図8に示すように、所定のパターンが形成されたフォトマスク20を介して、遮光性ブラックマトリクス13が形成されている部分を選択的に除去するために紫外線を照射する。遮光性ブラックマトリクス13が形成されている部位を除いて自己組織化膜14’を除去する。図9に示すように、第2段階の基板表面露出部11a’と第2段階の膜残留部11b’とを形成する。マスクによる露光は基板の裏側から行ってもよい。
7)カラー部形成工程について
図10に示すように、第2段階の基板表面露出部11a’に、インクジェット法により、ヘッド30からカラーフィルターの材料であるRGBインクの液滴40を、この露出部のパターンに即して選択的に吐出・塗工して、図11に示すように、ブラックマトリクス13の間の領域にカラー層15を形成する。
石英ガラス基板表面に172nmの紫外線を5〜10分間照射して、前処理としてクリーニングを行った。更に、酸素プラズマを30秒程度照射した。
Claims (1)
- カラー層が形成されるカラーフィルター領域と、遮光性領域と、を含むカラーフィルターの製造方法であって、
前記遮光性領域を第1の部材の層と該第1の部材の層の上に配置される第2の部材の層とで形成し、
前記第1の部材の層を、基板を活性液に浸漬することにより形成し、
前記第2の部材の層を、めっき液をインクジェット法により前記第1の部材の上に供給し、無電解めっきを行うことにより形成し、
前記カラー層は前記遮光性領域を形成した後に前記遮光性領域を避けるように形成される、ことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005358587A JP4640151B2 (ja) | 2005-12-13 | 2005-12-13 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005358587A JP4640151B2 (ja) | 2005-12-13 | 2005-12-13 | カラーフィルターの製造方法 |
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---|---|---|---|
JP2000099959A Division JP3897146B2 (ja) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | カラーフィルターを形成するための基板、カラーフィルター、及びその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006113604A JP2006113604A (ja) | 2006-04-27 |
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JP4640151B2 true JP4640151B2 (ja) | 2011-03-02 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP4640151B2 (ja) |
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-
2005
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JP2006113604A (ja) | 2006-04-27 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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