JP4634426B2 - 基板洗浄方法 - Google Patents
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Description
11 チャック
12 アーム
13 基台
14 回転軸
20 洗浄具装着機構
21 洗浄具
22 回転軸
23 揺動アーム
24 揺動軸
25 ノズル
27 投受光器
27a 投光器
27b 受光器
28 光
28’ 反射光
31 把持部材
32 把持部材
33 駆動力伝達部材
34 締結部材
35 洗浄部材
36 ビス
37 クロス保持部材
38 クロス
41 支持部材
42 支持部材
Claims (3)
- 基板保持回転機構及び洗浄具を具備し、該基板保持回転機構で保持し回転する被洗浄基板の面上に洗浄液を供給し、前記洗浄具の洗浄部材を前記被洗浄基板の面上に接触させ、前記洗浄具は、基板上の洗浄範囲と、基板上の洗浄範囲から外れた待避位置で往復移動し、前記洗浄具が前記洗浄範囲にあるときに、前記洗浄部材と前記被洗浄基板の相対的運動により該被洗浄基板を洗浄する基板洗浄方法において、
前記洗浄具が前記待避位置にある洗浄開始時に、前記洗浄具の洗浄部材の有無を検出する光学的洗浄部材センサにより、前記洗浄具の前記洗浄部材が正常に保持される位置に光を投射し、前記光が前記洗浄部材に遮られるか、または通過するかにより、前記洗浄材の有無を判断し、前記洗浄具に洗浄部材がある場合は、前記洗浄具を前記洗浄範囲まで移動させて前記相対的運動による洗浄を開始し、洗浄終了後、再度前記光学的洗浄部材センサにより洗浄部材の有無を判断し、前記洗浄部材がない場合は異常アラームを出力し、
前記洗浄開始時に洗浄具に洗浄部材がない場合は、前記相対的運動による洗浄を開始しないことを特徴とする基板洗浄方法。 - 請求項1に記載の基板洗浄方法において、
前記洗浄具は、前記洗浄部材と該洗浄部材を保持する複数の把持部材と複数の把持部材を一体的に締結する締結部材とを備え、
前記洗浄部材は、円柱状で中間に小径中間部が形成され該小径中間部の上下に上大径部及び下大径部が一体に形成された構成であり、
前記把持部材は、前記洗浄部材の小径中間部が嵌合するフランジと、該フランジの上下に前記洗浄部材の上大径部が嵌合する溝と下大径部の上部が嵌合する凹部を備え、
前記複数の把持部材の間に前記洗浄部材を配置し、前記フランジに前記小径中間部を、前記溝に前記上大径部を、前記凹部に前記下大径部の上部をそれぞれ嵌合させ、前記締結機構で洗浄部材と複数の把持部材を一体的に締結したことを特徴とする基板洗浄方法。 - 請求項2に記載の基板洗浄方法において、
前記締結機構は前記締結した把持部材に回転力を伝達するようになっていることを特徴とする基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007241594A JP4634426B2 (ja) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | 基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007241594A JP4634426B2 (ja) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | 基板洗浄方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000214250A Division JP4046931B2 (ja) | 2000-07-14 | 2000-07-14 | 基板洗浄装置及び洗浄具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007335909A JP2007335909A (ja) | 2007-12-27 |
JP4634426B2 true JP4634426B2 (ja) | 2011-02-16 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007241594A Expired - Lifetime JP4634426B2 (ja) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | 基板洗浄方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4634426B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6125884B2 (ja) * | 2013-04-23 | 2017-05-10 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置及び処理基板の製造方法 |
JP6352158B2 (ja) * | 2014-11-20 | 2018-07-04 | 株式会社荏原製作所 | 洗浄具、洗浄具の製造方法、および、基板洗浄装置 |
JP6951199B2 (ja) * | 2017-11-09 | 2021-10-20 | 株式会社ディスコ | ウェーハ洗浄装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000051128A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-22 | Amano Corp | 床面艶出し清掃機 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1174238A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-16 | Shibaura Eng Works Co Ltd | ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 |
JP3415435B2 (ja) * | 1998-04-03 | 2003-06-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及び処理方法 |
-
2007
- 2007-09-18 JP JP2007241594A patent/JP4634426B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2000051128A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-22 | Amano Corp | 床面艶出し清掃機 |
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Publication number | Publication date |
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JP2007335909A (ja) | 2007-12-27 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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