JP4615002B2 - 画像形成装置 - Google Patents
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Description
感光体は導電性基板の上に少なくとも光導電層と表面保護層との積層構造を基本とするものであって、さらに性能を上げるために、たとえば図1に示すような積層構造にする。
つぎに上記構成の表面保護層5の形成方法を図3および図4により述べる。
(イ)工程にて成膜形成するアモルファス層6aはシリコンカーバイド(SiC)またはカーボン(C)からなるが、a−C膜はa−SiC膜に比べて硬度が小さいことから、a−SiC膜にて形成するのがよい。そのために原子組成比率SiXC1−XのX値を0.5以下、好適には0.3以下、最適には0.1以下にするとよい。そして、このようにSiを減少させたままで含有させることで耐コロナ性が向上する。ただし、a−C膜については、ガス希釈することで硬度を大きくすることができるが、a−SiC膜にて得られる程度の硬度が得られない。
図2は本発明に係る画像形成装置7であり、8は感光体であり、この感光体8の周面にコロナ帯電器9と、その帯電後に光照射する露光器10(LEDヘッド)と、トナー像を感光体8の表面に形成するためのトナー11を備えた現像機12と、そのトナー像を被転写材13に転写する転写器14と、その転写後に感光体表面のクリーニングするためのブレードやブラシなどからなるクリーニング手段15と、その転写後に残余静電潜像を除去する除電手段16とを配設した構成である。また、17は被転写材13に転写されたトナー像を熱もしくは圧力により固着するための定着器である。トナー11にはアルミナ、酸化チタン、シリカなどのセラミック粒子などの研磨性粒子を含んでもよく、これによってクリーニング性が向上する。
2 導電性基板
3 電荷注入阻止層
4 光導電層
5 表面保護層
6a アモルファス層
6b フッ素未侵入領域
6c フッ素化領域
6d エッチング領域
6e フッ素化アモルファス層
7 画像形成装置
9 コロナ帯電器
10 露光器
12 現像機
14 転写器
15 クリーニング手段
16 除電手段
17 定着器
Claims (4)
- 導電性基板上に光導電層と表面保護層とを有する感光体と、前記感光体に電荷を付与する帯電手段と、前記帯電手段により電荷が付与される前記感光体の帯電領域に対して光を照射する露光手段と、前記帯電手段および前記露光手段により前記感光体に形成される静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を被転写材に転写する転写手段と、前記感光体に残留するトナーを除去するクリーニング手段と、を備え、
前記感光体における前記表面保護層は、アモルファスシリコンカーバイドもしくはアモルファスカーボンにフッ素を12〜35原子%含有してなるフッ素化アモルファス層のみを複数積層形成してなり、且つ、その表面自由エネルギーが40mN/m以下であることを特徴とする、画像形成装置。 - 前記表面保護層における前記フッ素化アモルファス層の積層数は2層〜15層である、請求項1に記載の画像形成装置。
- 前記トナーは研磨性粒子を含んでなる、請求項1または2に記載の画像形成装置。
- 前記感光体における前記表面保護層の表面自由エネルギーは、コロナ暴露5時間の静電ランニング後において40mN/m以下である、請求項1から3のいずれかに記載の画像形成装置。
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