JP4605632B2 - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
この提案によれば、スリット部に斜め方向の電界が発生するとともに、スリットの両側では斜め電界の傾く方向が逆になる。一対の電極の表示領域で、電圧印加時には液晶分子の立ち上がり方向がそれぞれ逆方向の小領域が同時に形成されるので、互いの小領域の視角依存性が補完されて、表示領域全体として視角依存性が低減し、いずれの方向から見ても視認性が良好となり、表示品質が向上する。
20 TFT素子
22 ソースライン
23 ゲートライン
31 下側基板
32 上側基板
33、34 透明基板
35、36 透明電極
35a、35a1、・・、35an スリット
36a、36a1、・・、36an スリット
37、38 垂直配向膜
39 液晶層
39a 液晶
40 視角補償フィルム
41、42 偏光板
43 電圧印加手段
50 垂直配向型LCD
70 表示領域
71 表示単位
90 マスク
D ドレイン電極
G ゲート電極
S ソース電極
α、β、γ、δ 小領域
Claims (11)
- 少なくとも1つの表示単位を含む表示領域において表示を行う液晶表示素子の製造方法であって、
(a)第1の基板上に、第1の透明導電材料膜を形成する工程と、
(b)第2の基板上に、第2の透明導電材料膜を形成する工程と、
(c)表示領域の少なくとも一部の領域を含む領域のデータであって、その領域内に少なくとも1つの表示単位を含む対向領域の第1及び第2の電極パタンデータと、相互に相対的に位置合わせされた第1及び第2のスリットパタンのデータとをそれぞれ重ね合わせて、完成した基板を対向配置し基板の法線方向から見たときに、各基板に形成されたスリットパタンがスリットの幅方向に交互に配置するものとされた第1及び第2のレチクルを作製する工程と、
(d)前記第1及び第2のレチクルをそれぞれ転写して、スリットパタンを含む電極パタンの第1及び第2のマスクを、それぞれ前記第1及び第2の透明導電材料膜上に形成する工程と、
(e)前記第1のマスクが形成された前記第1の透明導電材料膜をエッチングして、前記第1の基板上に前記第1のスリットパタンを含む第1の透明電極を形成する工程と、
(f)前記第2のマスクが形成された前記第2の透明導電材料膜をエッチングして、前記第2の基板上に前記第2のスリットパタンを含む第2の透明電極を形成する工程と、
(g)前記第1及び第2の透明電極を覆うように、前記第1及び第2の基板上にそれぞれ第1及び第2の配向膜を形成する工程と、
(h)前記第1及び第2の基板を、前記第1及び第2の配向膜を向き合わせ、略平行に対向配置し接着する工程と
を有する液晶表示素子の製造方法。 - 前記第1及び第2のスリットパタンは、略長方形状のスリットが長さ方向及び幅方向に一定ピッチで繰り返し配置されている請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記工程(c)において、表示単位内のみにスリットを有するように前記第1及び第2のレチクルを作製する請求項1または2に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 更に、前記工程(c)において、スリットの縁が幅方向に沿って揃うように前記第1及び第2のレチクルを作成する請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 更に、前記工程(c)において、幅方向に隣り合うスリットが長さ方向に半ピッチだけずれるように前記第1及び第2のレチクルを作成する請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 少なくとも1つの表示単位を含む表示領域において表示を行う液晶表示素子の製造方法であって、(a)第1の基板上に、第1の透明導電材料膜を形成する工程と、(b)第2の基板上に、第2の透明導電材料膜を形成する工程と、(c)表示領域の少なくとも一部の領域を含む領域のデータであって、その領域内に少なくとも1つの表示単位を含む対向領域の第1及び第2の電極パタンデータと、相互に相対的に位置合わせされた第1及び第2のスリットパタンのデータとをそれぞれ重ね合わせて、完成した基板を対向配置し基板の法線方向から見たときに、各基板に形成されたスリットパタンがスリットの幅方向に交互に配置するものとされた第1及び第2のレチクルを作製する工程と、(d)前記第1及び第2のレチクルをそれぞれ転写して、スリットパタンを含む電極パタンの第1及び第2のマスクを、それぞれ前記第1及び第2の透明導電材料膜上に形成する工程と、(e)前記第1のマスクが形成された前記第1の透明導電材料膜をエッチングして、前記第1の基板上に前記第1のスリットパタンを含む第1の透明電極を形成する工程と、(f)前記第2のマスクが形成された前記第2の透明導電材料膜をエッチングして、前記第2の基板上に前記第2のスリットパタンを含む第2の透明電極を形成する工程と、(g)前記第1及び第2の透明電極を覆うように、前記第1及び第2の基板上にそれぞれ第1及び第2の配向膜を形成する工程と、(h)前記第1及び第2の基板を、前記第1及び第2の配向膜を向き合わせ、略平行に対向配置し接着する工程とを有する液晶表示素子の製造方法で製造された液晶表示素子であって、
第1の基板と、
前記第1の基板の一方の面上に形成され、2次元状に分布された複数の第1のスリット状開口部を有する第1の透明電極と、
前記第1の基板の一方の面上に、前記第1の透明電極を覆うように形成される第1の配向膜と、
前記第1の基板に略平行配置される第2の基板と、
前記第2の基板の前記第1の基板に対向する面上に形成され、前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、前記第1の透明電極と重なり合って表示単位を含む領域を画定し、かつ前記第1のスリット状開口部と幅方向に交互に配置される2次元状に分布された複数の第2のスリット状開口部を有する第2の透明電極と、
前記第2の基板の前記第1の基板に対向する面上に、前記第2の透明電極を覆うように形成される第2の配向膜と
を有し、
前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、前記表示単位の外周と、前記第1及び第2のスリット状開口部またはその延長との交差部に関して、スリットと外周との交差部の数が、スリットの延長と外周の交差部の数より多い液晶表示素子。 - 前記第1及び第2のスリット状開口部が、ともに略長方形状に形成されている請求項6に記載の液晶表示素子。
- 前記第1及び第2のスリット状開口部が、開口部の長さ方向及び幅方向に一定ピッチで形成されている請求項7に記載の液晶表示素子。
- 前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、前記第1及び第2のスリット状開口部の縁が幅方向に沿って揃って配置されている請求項8に記載の液晶表示素子。
- 前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、隣り合う前記第1及び第2のスリット状開口部が長さ方向に半ピッチだけずれて配置されている請求項8に記載の液晶表示素子。
- 前記第1及び第2のスリット状開口部が、前記表示単位の内部にのみ形成されている請求項6〜10のいずれか1項に記載の液晶表示素子。
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