JP4602701B2 - 面発光レーザ及び光伝送システム - Google Patents
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N.Yokouchi, K.D.Choquette et al., Applied Physics Letters,Vol.82,pp1344−1346(2003) D.S.Song,Y.H.Lee et al., Applied Physics Letters,Vol.80,pp3901−3903(2002)
本発明の第1の形態は、半導体基板上に、下部半導体多層膜反射鏡、下部スペーサ層、活性層、上部スペーサ層、第1の上部半導体多層膜反射鏡、第2の上部多層膜反射鏡が順次に設けられ、前記第1の上部半導体多層膜反射鏡は、複数の低屈折率孔を有する2次元フォトニック結晶構造と、導電性領域と高抵抗領域とからなる電流狭窄層とを備え、第1の上部半導体多層膜反射鏡に上部電極が接続されていることを特徴としている。
また、本発明の第2の形態は、第1の形態の面発光レーザにおいて、前記2次元フォトニック結晶構造を形成する低屈折率孔の内部は、第1の上部半導体多層膜反射鏡よりも低い屈折率の材料で被覆又は充填されていることを特徴としている。
また、本発明の第3の形態は、第1または第2の形態の面発光レーザにおいて、前記第2の上部多層膜反射鏡の少なくとも一部が誘電体多層膜で形成されていることを特徴としている。
また、本発明の第4の形態は、第3の形態の面発光レーザにおいて、第2の上部多層膜反射鏡の一部が前記上部電極の少なくとも一部の上に設けられていることを特徴としている。
本発明の第5の形態は、第1乃至第4のいずれかの形態の面発光レーザにおいて、前記第1の上部半導体多層膜反射鏡は、複数の高抵抗領域形成用孔を有し、前記電流狭窄層は、前記高抵抗領域形成用孔の周辺に形成された高抵抗領域と、高抵抗領域に囲まれた少なくとも1つの導電性領域とからなることを特徴としている。
本発明の第6の形態は、第5の形態の面発光レーザにおいて、前記電流狭窄層の導電性領域は、Al(Ga)As層からなり、前記電流狭窄層の高抵抗領域は、Al(Ga)Asが前記高抵抗領域形成用孔を通して供給された酸化種により酸化された層からなることを特徴としている。
本発明の第7の形態は、第5または第6の形態の面発光レーザにおいて、前記複数の高抵抗領域形成用孔の少なくとも一部の孔の少なくとも内面が、素子構成膜よりも低い屈折率の材料で被覆又は充填されていることを特徴としている。
本発明の第8の形態は、第1乃至第7のいずれかの形態の面発光レーザにおいて、前記活性層には、GaInNAs系材料が用いられていることを特徴としている。
本発明の第9の形態は、第1乃至第8のいずれかの形態の面発光レーザが発光デバイスとして用いられていることを特徴とする光伝送システムである。
Claims (9)
- 半導体基板上に、下部半導体多層膜反射鏡、下部スペーサ層、活性層、上部スペーサ層、第1の上部半導体多層膜反射鏡、第2の上部多層膜反射鏡が順次に設けられ、前記第1の上部半導体多層膜反射鏡は、前記第1の上部半導体多層膜反射鏡の材料よりも低い屈折率である複数の低屈折率孔を有し、前記低屈折率孔の底面が前記第1上部半導体多層膜反射鏡中に形成される2次元フォトニック結晶構造と、導電性領域と高抵抗領域とからなる電流狭窄層とを備え、第1の上部半導体多層膜反射鏡に上部電極が接続されていることを特徴とする面発光レーザ。
- 請求項1記載の面発光レーザにおいて、前記2次元フォトニック結晶構造を形成する低屈折率孔の内部は、第1の上部半導体多層膜反射鏡よりも低い屈折率の材料で被覆又は充填されていることを特徴とする面発光レーザ。
- 請求項1または請求項2記載の面発光レーザにおいて、前記第2の上部多層膜反射鏡の少なくとも一部が誘電体多層膜で形成されていることを特徴とする面発光レーザ。
- 請求項3記載の面発光レーザにおいて、第2の上部多層膜反射鏡の一部が前記上部電極の少なくとも一部の上に設けられていることを特徴とする面発光レーザ。
- 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の面発光レーザにおいて、前記第1の上部半導体多層膜反射鏡は、複数の高抵抗領域形成用孔を有しており、前記電流狭窄層は、前記高抵抗領域形成用孔の周辺に形成された高抵抗領域と、高抵抗領域に囲まれた少なくとも1つの導電性領域とからなることを特徴とする面発光レーザ。
- 請求項5記載の面発光レーザにおいて、前記電流狭窄層の導電性領域は、Al(Ga)As層からなり、前記電流狭窄層の高抵抗領域は、Al(Ga)Asが前記高抵抗領域形成用孔を通して供給された酸化種により酸化された層からなることを特徴とする面発光レーザ。
- 請求項5または請求項6記載の面発光レーザにおいて、前記複数の高抵抗領域形成用孔の少なくとも一部の孔の少なくとも内面が、素子構成膜よりも低い屈折率の材料で被覆又は充填されていることを特徴とする面発光レーザ。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の面発光レーザにおいて、前記活性層には、GaInNAs系材料が用いられていることを特徴とする面発光レーザ。
- 請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の面発光レーザが発光デバイスとして用いられていることを特徴とする光伝送システム。
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