JP4597077B2 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
100Vに加速される。その後2次電子はエネルギー分離器(E×B)で一次電子と2次電子に分離される。
15…ディスプレイ、16…第一ニードルバルブ、17…電子銃、18…一次電子ビーム、19…レンズ内電極、20…2次電子検出器電極、21…第一ロータリーポンプ、22…第二ロータリーポンプ、23…試料室、24…電極、25…最適絞り位置と試料との距離、26…イオン検出器、27…ガス分子、28…ガス増幅型イオン検出用電極、29…プラスイオン、30…ガス増幅型イオン検出器アンプ、31…ガス分子に衝突する2次電子、32…レンズ内の真空室、33…第2差動排気絞り、34…真空ポンプ、35…第二ニードルバルブ、36…ガス増幅型イオン検出電極用電源。
Claims (9)
- 電子線を試料に照射して画像を形成する走査電子顕微鏡において、
電子源と、
当該電子源から放出される電子ビームを試料上に集束する対物レンズと、
前記試料が配置される試料室と、
前記対物レンズと前記試料の間に設けられた、前記電子ビームの通過開口を有する第1の差動排気絞りと、
前記対物レンズのレンズ主面より、電子源側に配置され、前記試料より放出される二次電子がガス分子と衝突して生じるイオンを検出するイオン検出器と、を備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
前記イオン検出器と電子源との間には、前記電子ビームの通過開口を有する第2の差動排気絞りが配置されていることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項2に記載の走査電子顕微鏡において、
前記第1の差動排気絞りと、前記第2の差動排気絞りとの間の空間を、真空排気するための真空ポンプを備えてなることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項2に記載の走査電子顕微鏡において、
前記第1の差動排気絞りと、前記第2の差動絞りの間に前記イオン検出器が配置され、
前記第1の差動排気絞りと、前記第2の差動排気絞りとの間にはガス雰囲気が形成され、前記試料から放出される二次電子の衝突によって、イオンを発生させるような所定の真空度に、前記試料室の真空度に依存せずに維持されていることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項2に記載の走査電子顕微鏡において、
前記第1の差動排気絞りと、前記第2の差動排気絞りとの間の空間の圧力が、10Pa〜150Paとなるように調整されることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
前記二次電子を吸引するための電極が、前記レンズ主面と、前記第1の差動排気絞りと
の間に配置されることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 電子線を試料に照射して画像を形成する走査電子顕微鏡であって、
電子源と、
前記電子源から放出される電子ビームを試料上に集束する対物レンズと、
前記試料が配置される試料室と、
前記試料より放出される二次電子を検出する二次電子検出器と、
前記対物レンズのレンズ主面より電子源側に配置され、前記試料より放出される二次電子がガス分子と衝突して生じるイオンを検出するイオン検出器と、
前記対物レンズと前記試料の間に設けられた、前記電子ビームの通過開口を有する第一の差動排気絞りと、
前記イオン検出器より電子源側に設けられた、前記電子ビームの通過開口を有する第二の差動排気絞りと、
を備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項7に記載の走査電子顕微鏡において、
前記試料室の真空度に依存せずに、前記イオン検出器が設置された空間の真空度をイオン検出に適した所定の真空度に保つことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項8に記載の走査電子顕微鏡において、
前記所定の真空度は10Pa〜150Paであることを特徴とする走査電子顕微鏡。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006068474A JP4597077B2 (ja) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | 走査電子顕微鏡 |
US11/717,093 US7557346B2 (en) | 2006-03-14 | 2007-03-13 | Scanning electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006068474A JP4597077B2 (ja) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007250222A JP2007250222A (ja) | 2007-09-27 |
JP4597077B2 true JP4597077B2 (ja) | 2010-12-15 |
Family
ID=38594295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006068474A Expired - Fee Related JP4597077B2 (ja) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7557346B2 (ja) |
JP (1) | JP4597077B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2002459B1 (en) * | 2006-03-31 | 2014-11-26 | Fei Company | Improved detector for charged particle beam instrument |
WO2017027922A1 (en) * | 2015-08-18 | 2017-02-23 | Gerasimos Daniel Danilatos | Wide field atmospheric scanning electron microscope |
KR101693539B1 (ko) * | 2015-11-12 | 2017-01-06 | 한국표준과학연구원 | 고분해능 광-전자 융합현미경 |
KR101857046B1 (ko) | 2016-09-01 | 2018-05-14 | 한국표준과학연구원 | 사각뿔 형상의 관통공을 구비한 광-전자 융합현미경 광반사 거울 및 그 제조방법 |
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JP2005149733A (ja) * | 2003-11-11 | 2005-06-09 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2005539359A (ja) * | 2002-09-18 | 2005-12-22 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | 粒子−光デバイスおよび検出手段 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4897545A (en) * | 1987-05-21 | 1990-01-30 | Electroscan Corporation | Electron detector for use in a gaseous environment |
JPH0660841A (ja) * | 1992-06-11 | 1994-03-04 | Nikon Corp | 走査型電子顕微鏡 |
JPH0963525A (ja) * | 1995-08-22 | 1997-03-07 | Nikon Corp | 走査型電子顕微鏡 |
JPH09320504A (ja) * | 1996-05-30 | 1997-12-12 | Jeol Ltd | 低真空走査電子顕微鏡 |
JPH10199465A (ja) * | 1997-01-13 | 1998-07-31 | Jeol Ltd | 電子ビーム装置の調整方法 |
JPH11185682A (ja) * | 1997-12-18 | 1999-07-09 | Nikon Corp | 電子ビーム装置および環境制御型走査電子顕微鏡 |
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AUPQ932200A0 (en) * | 2000-08-11 | 2000-08-31 | Danilatos, Gerasimos Daniel | Environmental scanning electron microscope |
-
2006
- 2006-03-14 JP JP2006068474A patent/JP4597077B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-03-13 US US11/717,093 patent/US7557346B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005149733A (ja) * | 2003-11-11 | 2005-06-09 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080073534A1 (en) | 2008-03-27 |
US7557346B2 (en) | 2009-07-07 |
JP2007250222A (ja) | 2007-09-27 |
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