JP4574174B2 - プラズマ処理装置及び電極 - Google Patents
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Description
本発明のプラズマ処理装置及び電極の一実施例について、図1、図2を使って説明する。図1はUHF−ECRを用いたプラズマエッチング装置の概略断面図である。ここで101は真空処理室で、石英窓102はUHF電磁界を真空処理室101内に通過させるために設けられ、電極103は石英窓102に対向して真空処理室101内に配置され、半導体集積回路が形成されるウエハ104を載置し、バイアス電圧を発生させるための高周波電源105が接続されている。また、電極103にはウエハ104を冷却するための冷却液を循環供給する温調液循環器106が接続されている。アンテナ107は石英窓102に連結されUHF電源110からの電磁界を真空処理室101内に導入する。ソレノイドコイル108は真空処理室101内に磁場を形成する。ガス分散板109はエッチングレシピにしたがってマスフローコントローラ111から供給されたガスを真空処理室内101に分散させ均一に導入する。
103…電極
104…ウエハ
121…電極支持軸
123…べローズ
123、124…べローズ
126、127…コイルチューブ
Claims (4)
- 真空処理室と、該真空処理室内にガスを供給する手段と、プラズマ生成手段と、ウエハを載置する電極とを備えるプラズマ処理装置において、
前記電極の移動を可能とする接地管と上下運動管から成る上下運動軸を備えた構造と、該電極にバイアス電力を供給する中心導体軸と調整電力供給管から成る電力印加軸と絶縁支持管と前記接地管とを備えた構造と、該電極を温調する冷却媒体を輸送する前記電力印加軸と前記絶縁支持管と前記接地管とを備えた構造とを有する支持軸を備え、前記支持軸は、軸断面が円筒多重構造の同心円形状となり、軸中心から順に、高周波電源からの電力が印加される中心導体軸と調整電力供給管から成る電力印加軸と、下端部及び電極接続部で絶縁材で支持された導体からなる前記絶縁支持管と、電気的に接地され、電極に上下の運動を与えるための前記接地管と、プッシャに上下の運動を与えるための前記上下運動管とを有し、
前記電力印加軸の前記調整電力供給管の内側及び前記調整電力供給管との間に断熱作用を担う空気層が形成された前記絶縁支持管と前記接地管の間は、前記電力供給構造の絶縁が担保される前記冷却媒体が輸送されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記支持軸は、電圧の異なる2系統以上のバイアス電力供給構造を有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記ウエハと電極間への伝熱媒体ガスの供給を前記支持軸外から行うことを特徴とする
プラズマ処理装置。 - プラズマ処理装置に使用され、ウエハを載置するプラズマ処理装置用電極において、
前記電極の移動を可能とする接地管と上下運動管から成る上下運動軸を備えた構造と、該電極にバイアス電力を供給する中心導体軸と調整電力供給管から成る電力印加軸と絶縁支持管と前記接地管とを備えた構造と、該電極を温調する冷却媒体を輸送する前記電力印加軸と前記絶縁支持管と前記接地管とを備えた構造とを有する支持軸を備え、前記支持軸は、軸断面が円筒多重構造の同心円形状となり、軸中心から順に、高周波電源からの電力が印加される中心導体軸と調整電力供給管から成る電力印加軸と、下端部及び電極接続部で絶縁材で支持された導体からなる前記絶縁支持管と、電気的に接地され、電極に上下の運動を与えるための前記接地管と、プッシャに上下の運動を与えるための前記上下運動管とを有し、
前記電力印加軸の前記調整電力供給管の内側及び前記調整電力供給管との間に断熱作用を担う空気層が形成された前記絶縁支持管と前記接地管の間は、前記電力供給構造の絶縁が担保される前記冷却媒体が輸送されることを特徴とするプラズマ処理装置用電極。
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